CN106702733A - 一种光触媒面料生产工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种光触媒面料生产工艺,经过染色、整经、浆丝、并轴、分经、穿综和织造工序完成纺织面料的生产,经过过多元羧酸前处理工艺、光触媒处理液处理工艺和三防整理剂处理工艺三个步骤,完成对面料的处理工艺,实现光触媒面料的生产;本发明将光触媒处理液通过浸轧,依附在面料的外表面,干燥后形成薄膜,在光线的作用下,产生强烈催化降解功能:能有效地降解空气中有毒有害气体;能有效杀灭多种细菌,抗菌率高达99.99%,并能将细菌或真菌释放出的毒素分解及无害化处理;同时还具备除臭、抗污的功能。
Description
技术领域
本发明属于纺织面料生产技术领域,具体涉及一种光触媒面料生产工艺。
背景技术
随着生活水平的提高,人们越来越关心健康和清洁问题,对于纺织品的要求也不再仅仅局限于穿着装饰,对卫生清洁保健等功能的需求不断提高。
在日常生活中,经常会碰到许多令人不愉快的气味,例如汗臭味、体臭味、香烟味及油烟味等。这些臭气不仅味道难闻,而且还可能会危害人体生理机能,给人们的身体健康带来威胁。目前,主要有两种途径可以开发具有除臭功能的纺织品,一是直接发出具有除臭功能的纤维;二是对纺织品进行除臭整理。纺织品的除臭整理是指将除臭剂通过浸渍吸附、化学反应、树脂固着、涂层等方式整理到纺织品上。与除臭整理的方法相比,除臭功能纤维具有更强的除臭耐久性,但是研发和生产成本较高。纺织品除臭整理的方法和机理主要有:感觉除臭法、物理除臭法、化学除臭法、生物除臭法等。然而,目前的许多除臭整理存在着除臭剂着色、除臭能力持续性差、影响纺织品的物理性能和染色性能等问题。
光触媒是一种纳米级的金属氧化物材料,它涂布于基材表面,干燥后形成薄膜,在光线的作用下,产生强烈催化降解功能:能有效地降解空气中有毒有害气体;能有效杀灭多种细菌,抗菌率高99.99%,并能将细菌或真菌释放出的毒素分解及无害化处理;同时还具备除臭、抗污等功能。
如何将光触媒处理液与纺织面料进行结合,是现在很多企业继亟需解决的问题。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足,现提供一种抗菌抑菌效果佳、处理工艺简单的光触媒面料生产工艺。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案为:一种光触媒面料生产工艺,经过染色、整经、浆丝、并轴、分经、穿综和织造工序完成纺织面料的生产,其创新点在于:经过过多元羧酸前处理工艺、光触媒处理液处理工艺和三防整理剂处理工艺三个步骤,完成对面料的处理工艺,实现光触媒面料的生产;所述处理工艺具体步骤如下:
(1)过多元羧酸前处理工艺:将面料经过浸轧和烘焙完成多元羧酸前处理工艺,所述烘焙温度为160-180℃,所述烘焙时间为3-5min;
(2)光触媒处理液处理工艺:将处理后的面料放入光触媒处理液中进行浸轧,所述面料与光触媒处理液的体积比为1:20,所述光触媒处理液由二氧化钛、硅藻泥、纯净水、滑石粉和乙醇制备而成,所述二氧化钛质量占光触媒处理液质量的0.4-2.5%,所述硅藻泥质量占光触媒处理液质量的25-45%,所述纯净水质量占光触媒处理液质量的35-65%,所述滑石粉质量占光触媒质量的15-25%,所述乙醇质量占光触媒质量的7-12%;
(3)三防整理剂处理工艺:将光触媒处理液处理后的提花面料进行浸轧,所述浸轧液为三防整理剂,所述三防整理剂的量为20-40g/L,浸轧后的面料在100℃环境下进行烘干,然后进行焙烘,所述焙烘温度为150℃,焙烘时间为3min,完成了光触媒面料的生产工艺。
进一步的,所述多元羧酸前处理工艺步骤中的浸轧液的配方为:40-50g/L的多元羧酸,30-40g/L的次亚磷酸钠和纯净水。
进一步的,所述光触媒处理液的制备方法为:首先将二氧化钛放入纯净水中,依次加入硅藻泥、滑石粉和乙醇,进行充分混合,制备得到光触媒处理液。
本发明的有益效果如下:本发明将光触媒处理液通过浸轧,依附在面料的外表面,干燥后形成薄膜,在光线的作用下,产生强烈催化降解功能:能有效地降解空气中有毒有害气体;能有效杀灭多种细菌,抗菌率高达99.99%,并能将细菌或真菌释放出的毒素分解及无害化处理;同时还具备除臭、抗污的功能。
附图说明
图1为本发明的处理工艺流程图。
具体实施方式
以下由特定的具体实施例说明本发明的实施方式,熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点及功效。
如图1所示为本发明的处理工艺流程图;
一种光触媒面料生产工艺,经过染色、整经、浆丝、并轴、分经、穿综和织造工序完成纺织面料的生产,经过过多元羧酸前处理工艺、光触媒处理液处理工艺和三防整理剂处理工艺三个步骤,完成对面料的处理工艺,实现光触媒面料的生产;处理工艺具体步骤如下:
(1)过多元羧酸前处理工艺:将面料经过浸轧和烘焙完成多元羧酸前处理工艺,烘焙温度为160-180℃,烘焙时间为3-5min;多元羧酸前处理工艺步骤中的浸轧液的配方为:40-50g/L的多元羧酸,30-40g/L的次亚磷酸钠和纯净水。
(2)光触媒处理液处理工艺:将处理后的面料放入光触媒处理液中进行浸轧,面料与光触媒处理液的体积比为1:20,光触媒处理液由二氧化钛、硅藻泥、纯净水、滑石粉和乙醇制备而成,二氧化钛质量占光触媒处理液质量的0.4-2.5%,硅藻泥质量占光触媒处理液质量的25-45%,纯净水质量占光触媒处理液质量的35-65%,滑石粉质量占光触媒质量的15-25%,乙醇质量占光触媒质量的7-12%;光触媒处理液的制备方法为:首先将二氧化钛放入纯净水中,依次加入硅藻泥、滑石粉和乙醇,进行充分混合,制备得到光触媒处理液。
(3)三防整理剂处理工艺:将光触媒处理液处理后的提花面料进行浸轧,浸轧液为三防整理剂,三防整理剂的量为20-40g/L,浸轧后的面料在100℃环境下进行烘干,然后进行焙烘,焙烘温度为150℃,焙烘时间为3min,完成了光触媒面料的生产工艺。
实施例1
一种光触媒面料生产工艺,经过染色、整经、浆丝、并轴、分经、穿综和织造工序完成纺织面料的生产,经过过多元羧酸前处理工艺、光触媒处理液处理工艺和三防整理剂处理工艺三个步骤,完成对面料的处理工艺,实现光触媒面料的生产;处理工艺具体步骤如下:
(1)过多元羧酸前处理工艺:将面料经过浸轧和烘焙完成多元羧酸前处理工艺,烘焙温度为160℃,烘焙时间为3min;多元羧酸前处理工艺步骤中的浸轧液的配方为:40g/L的多元羧酸,30g/L的次亚磷酸钠和纯净水。
(2)光触媒处理液处理工艺:将处理后的面料放入光触媒处理液中进行浸轧,面料与光触媒处理液的体积比为1:20,光触媒处理液由二氧化钛、硅藻泥、纯净水、滑石粉和乙醇制备而成,二氧化钛质量占光触媒处理液质量的0.4%,硅藻泥质量占光触媒处理液质量的35%,纯净水质量占光触媒处理液质量的35%,滑石粉质量占光触媒质量的20%,乙醇质量占光触媒质量的9.6%;光触媒处理液的制备方法为:首先将二氧化钛放入纯净水中,依次加入硅藻泥、滑石粉和乙醇,进行充分混合,制备得到光触媒处理液。
(3)三防整理剂处理工艺:将光触媒处理液处理后的提花面料进行浸轧,浸轧液为三防整理剂,三防整理剂的量为20g/L,浸轧后的面料在100℃环境下进行烘干,然后进行焙烘,焙烘温度为150℃,焙烘时间为3min,完成了光触媒面料的生产工艺。
在本实施例下处理的提花色织面料的抑菌率为99.1%,防水80分,防油3级,易去污3级。
实施例2
一种光触媒面料生产工艺,经过染色、整经、浆丝、并轴、分经、穿综和织造工序完成纺织面料的生产,经过过多元羧酸前处理工艺、光触媒处理液处理工艺和三防整理剂处理工艺三个步骤,完成对面料的处理工艺,实现光触媒面料的生产;处理工艺具体步骤如下:
(1)过多元羧酸前处理工艺:将面料经过浸轧和烘焙完成多元羧酸前处理工艺,烘焙温度为180℃,烘焙时间为5min;多元羧酸前处理工艺步骤中的浸轧液的配方为:50g/L的多元羧酸,40g/L的次亚磷酸钠和纯净水。
(2)光触媒处理液处理工艺:将处理后的面料放入光触媒处理液中进行浸轧,面料与光触媒处理液的体积比为1:20,光触媒处理液由二氧化钛、硅藻泥、纯净水、滑石粉和乙醇制备而成,二氧化钛质量占光触媒处理液质量的2.5%,硅藻泥质量占光触媒处理液质量的25%,纯净水质量占光触媒处理液质量的45%,滑石粉质量占光触媒质量的18%,乙醇质量占光触媒质量的9.5%;光触媒处理液的制备方法为:首先将二氧化钛放入纯净水中,依次加入硅藻泥、滑石粉和乙醇,进行充分混合,制备得到光触媒处理液。
(3)三防整理剂处理工艺:将光触媒处理液处理后的提花面料进行浸轧,浸轧液为三防整理剂,三防整理剂的量为40g/L,浸轧后的面料在100℃环境下进行烘干,然后进行焙烘,焙烘温度为150℃,焙烘时间为3min,完成了光触媒面料的生产工艺。
在本实施例下处理的提花色织面料的抑菌率为99%,防水82分,防油3级,易去污3级。
实施例3
一种光触媒面料生产工艺,经过染色、整经、浆丝、并轴、分经、穿综和织造工序完成纺织面料的生产,经过过多元羧酸前处理工艺、光触媒处理液处理工艺和三防整理剂处理工艺三个步骤,完成对面料的处理工艺,实现光触媒面料的生产;处理工艺具体步骤如下:
(1)过多元羧酸前处理工艺:将面料经过浸轧和烘焙完成多元羧酸前处理工艺,烘焙温度为170℃,烘焙时间为4min;多元羧酸前处理工艺步骤中的浸轧液的配方为:45g/L的多元羧酸,35g/L的次亚磷酸钠和纯净水。
(2)光触媒处理液处理工艺:将处理后的面料放入光触媒处理液中进行浸轧,面料与光触媒处理液的体积比为1:20,光触媒处理液由二氧化钛、硅藻泥、纯净水、滑石粉和乙醇制备而成,二氧化钛质量占光触媒处理液质量的1%,硅藻泥质量占光触媒处理液质量的30%,纯净水质量占光触媒处理液质量的40%,滑石粉质量占光触媒质量的21%,乙醇质量占光触媒质量的8%;光触媒处理液的制备方法为:首先将二氧化钛放入纯净水中,依次加入硅藻泥、滑石粉和乙醇,进行充分混合,制备得到光触媒处理液。
(3)三防整理剂处理工艺:将光触媒处理液处理后的提花面料进行浸轧,浸轧液为三防整理剂,三防整理剂的量为30g/L,浸轧后的面料在100℃环境下进行烘干,然后进行焙烘,焙烘温度为150℃,焙烘时间为3min,完成了光触媒面料的生产工艺。
在本实施例下处理的面料的抑菌率为99.99%,防水85分,防油3级,易去污3级。
本发明将光触媒处理液通过浸轧,依附在面料的外表面,干燥后形成薄膜,在光线的作用下,产生强烈催化降解功能:能有效地降解空气中有毒有害气体;能有效杀灭多种细菌,抗菌率高达99.99%,并能将细菌或真菌释放出的毒素分解及无害化处理;同时还具备除臭、抗污的功能。
上述实施例只是本发明的较佳实施例,并不是对本发明技术方案的限制,只要是不经过创造性劳动即可在上述实施例的基础上实现的技术方案,均应视为落入本发明专利的权利保护范围内。
Claims (3)
1.一种光触媒面料生产工艺,经过染色、整经、浆丝、并轴、分经、穿综和织造工序完成纺织面料的生产,其特征在于:经过过多元羧酸前处理工艺、光触媒处理液处理工艺和三防整理剂处理工艺三个步骤,完成对面料的处理工艺,实现光触媒面料的生产;所述处理工艺具体步骤如下:
(1)过多元羧酸前处理工艺:将面料经过浸轧和烘焙完成多元羧酸前处理工艺,所述烘焙温度为160-180℃,所述烘焙时间为3-5min;
(2)光触媒处理液处理工艺:将处理后的面料放入光触媒处理液中进行浸轧,所述面料与光触媒处理液的体积比为1:20,所述光触媒处理液由二氧化钛、硅藻泥、纯净水、滑石粉和乙醇制备而成,所述二氧化钛质量占光触媒处理液质量的0.4-2.5%,所述硅藻泥质量占光触媒处理液质量的25-45%,所述纯净水质量占光触媒处理液质量的35-65%,所述滑石粉质量占光触媒质量的15-25%,所述乙醇质量占光触媒质量的7-12%;
(3)三防整理剂处理工艺:将光触媒处理液处理后的提花面料进行浸轧,所述浸轧液为三防整理剂,所述三防整理剂的量为20-40g/L,浸轧后的面料在100℃环境下进行烘干,然后进行焙烘,所述焙烘温度为150℃,焙烘时间为3min,完成了光触媒面料的生产工艺。
2.根据权利要求1所述的一种光触媒面料生产工艺,其特征在于:所述多元羧酸前处理工艺步骤中的浸轧液的配方为:40-50g/L的多元羧酸,30-40g/L的次亚磷酸钠和纯净水。
3.根据权利要求1所述的一种光触媒面料生产工艺,其特征在于:所述光触媒处理液的制备方法为:首先将二氧化钛放入纯净水中,依次加入硅藻泥、滑石粉和乙醇,进行充分混合,制备得到光触媒处理液。
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