CN106652767A - 一种防伪材料及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种防伪材料及其制备方法，防伪材料中包括在游离状态下相互离散的防伪微纳模组，防伪微纳模组中包括第一、第二复合微纳识别层，第一、第二复合微纳识别层中都包括用于加工防伪识别特征层的基础材料层和微纳结构层，防伪识别特征层中设有防伪标记图案，第一、第二复合微纳识别层具有不同或相同的吸收率、透光率和反射率，结构上由内而外、逐层加工构成内部结构复杂的防伪信息和特征，外部呈整体包裹状的防伪微纳模组，外部防伪入射光谱经过第一、第二复合微纳识别层折射及发射后的光源与防伪标记图案相互对照、映衬糅合，使防伪微纳模组从反射至防伪识别系统中的光源中包含逆向破解成本高昂的光谱编码防伪信息。

Description

一种防伪材料及其制备方法

技术领域

本发明涉及防伪技术领域，尤其涉及防伪材料及其制备方法。

背景技术

现有防伪技术中，大多以水印、有色纤维、荧光油墨印刷、微点或微小记号的形体及随机分布等作为防伪手段：

比如公告号为CN101673341A、专利名称为一种微点防伪方法的专利，其公开了一种防伪材料，公开了一种防伪技术尤其涉及一种微点防伪方法，“该方法包括以下步骤：（1）提供一种防伪点；提供一种胶水，将防伪点混合于胶水之中；（2）想承载物上点混有微点的胶水；（3）固化胶水；（4）拍照胶滴，形成原始对比图片；（5）原始对比图片存入后台数据；（6）防伪验证拍照胶滴，形成被比图片；（7）读取后台数据库原始对比图片，与被比图片比较，做出真伪判断；其中，第（5）步所述的拍照胶滴，为放大拍照；第（7）步所述的防伪验证拍照胶滴，也是放大拍照胶滴，本发明提供一种不可仿制的微点防伪方法”；

与此相对应，公告号为CN102267287A、专利名称为一种微点防伪印记的制备方法及装置的专利，其公开了一种类似的微点防伪印记的制备方法及实现该方法的装置，该“微点防伪印记的制备方法包括一下步骤：S1，提供一种微点标记物，提供一种墨水；S2混墨，即将微点标记物与墨水混合均匀；S3，提供至少二个喷头，提供目标物；S4喷射，通过喷头将混有微点标记物的墨水喷向标的物；S5干燥混有微点标记物的墨水；字喷射过程中，混墨步骤连续的进行，混墨、向喷头供墨，喷射是全封闭的液路内完成的”；

再比如公告号为CN1350274A、专利名称为含有多数微小记号或图案的防伪标记及其形成方法的专利，其公开了一种含有多数微小记号或图案的防伪标记及其形成方法，“以含有多数微小图案记号的防伪标记，达成签定物品真伪及防止伪造的应用。物件签定用方法是根据在物件中形成的至少一独特标记，它含有多数微小图案或印记，并以随机组合的方式合于标记内，以作为对比、鉴定的方法，而具有防止他人伪造及可轻易达成识别及鉴定和对比的功效”；

再比如公告号为CN105374283A、专利名称为一种防伪材料及其制备方法的专利，其公开了一种防伪材料及其制备方法，其“通过在玻璃基底上面镀附着层、牺牲层、镀无形硅层，涂布光固胶、曝光、显影、清洗、刻蚀无定形硅层，二次涂胶、曝光、显影、清洗，镀金属模块，清洗光刻胶，刻蚀牺牲层，清洗过滤；从而提供一种具有多材质、立体感的防伪材料及其制备方法”；

再比如公告号为CN105303393A、专利名称为一种防伪方法的专利，其公开了一种防伪方法，“是用稀土氧化物与光固胶混合填充到无定形硅模上的镂空区域，产生两个模块颜色作为一道防伪信息，同时不同稀土氧化物在不同红外线照射下产生不同颜色作为第二道防伪信息”；

再比如公告号为CN105469698A、专利名称为一种防伪方法的专利，其公开了一种防伪方法，“是用不同稀土氧化物与光固胶混合固化形成稀土氧化物模块，不同稀土氧化物在红外线照射下呈现不同的颜色组合，构成彩色信息达到防伪的目的”。

诸如以上等等，市场上以复合纤维、荧光硅纳米颗粒、微点或微小记号的形体及随机分布、多材质、立体感的防伪材料等作为防伪手段的的防伪材料及防伪技术，随着科学技术的进步，都能够被破解和廉价仿制。公告号为CN101673341A、公告号为CN102267287A和CN1350274A的专利公开的技术方案能解决大部分的防伪需求，然而其采用单一材质构成，防伪材料为没有层次感和立体感的单色结构，这种单一材质构成的防伪材料容易被仿制；

公告号为CN105374283A的专利公开的技术方案虽然以多材质、立体感的防伪材料来作为防伪手段，但是其仅通过先刻蚀无定形硅再在无定形硅镂空区域镀金属镶嵌到无定形硅刻蚀中的镂空区域，防伪材料仅由2种材质构成，也容易被仿制。

公告号为CN105303393A和CN105469698A的专利公开的技术方案虽然采用稀土氧化物材料与光固胶混合，不同的稀土氧化物组合成不同的稀土氧化物组合模块，在红外线入射光照射下不同的稀土氧化物产生不同的颜色，但根据以上工艺方法制备的防伪材料中所体现的字符、图案、颜色都是一样的，而且这种防伪材料中只能有一面是正向的字符和图案，另一面只能加工反向的字符、图案采用镀膜、光固胶来填充镂空区域的工艺，其填充后镂空模块和填充模块容易脱落、离散、断裂，在使用过程中容易出现防伪标识识别错误、出现误判，不利防伪管理与维护。

综上所述，随着科技水平的不断发展，道高一尺魔高一丈，现有的防伪技术和防伪材料已存在缺陷，对于防伪性能要求高的场合，现有的防伪技术和防伪材料不能满足需求，因而需要不断推陈出新，不断改进创造。

发明内容

为克服现有技术的不足，本发明提供了一种防伪标识立体层次多、防伪标识组合变化多样、防伪性能好，难以被逆向分析破解的防伪材料及其制备方法。

本发明为达到上述技术目的所采用的技术方案是：一种防伪材料，包括在游离状态下相互离散的防伪微纳模组，每个所述防伪微纳模组中包括第一复合微纳识别层，所述第一复合微纳识别层中包括用于加工第一防伪识别特征层的第一基础材料层和设于第一防伪识别特征层上的第一微纳结构层，所述第一防伪识别特征层中设有第一防伪标记图案；第一复合微纳识别层上设有第二复合微纳识别层，所述第二复合微纳识别层中包括第二微纳结构层和用于加工第二防伪识别特征层的第二基础材料层，所述第二防伪识别特征层中设有第二防伪标记图案；所述第二复合微纳识别层具有与第一复合微纳识别层不同或相同的吸收率、透光率和反射率；外部的不同防伪入射光谱经过第一复合微纳识别层或第二复合微纳识别层折射及发射后的光源与所述第一防伪标记图案或第二防伪标记图案相互对照、映衬糅合，使从防伪微纳模组反射至防伪识别系统中的光源中包含逆向破解成本高昂的光谱编码防伪信息。

所述第一微纳结构层中包括至少由一种材料构成的一个或一个以上的第一微纳膜层，第一基础材料层中包括至少由一种材料构成的一个或一个以上的第一基础膜层。

所述第二微纳结构层包括至少由一种材料构成的一个或一个以上的第二微纳膜层，第二基础材料层中包括至少由一种材料构成的一个或一个以上的第二基础膜层。

所述第二复合微纳识别层上还设有第三复合微纳识别层，所述第三复合微纳识别层中也设有至少一个第三微纳结构层和第三防伪识别特征层，第三防伪识别特征层加工于第三基础材料层中，所述第三防伪识别特征层中设有第三防伪标记图案；所述第三微纳结构层中包括至少由一种材料构成的一个或一个以上的第三微纳膜层，所述第三复合微纳识别层具有与第一复合微纳识别层或第二复合微纳识别层不同或相同的吸收率、透光率和反射率。

所述第一复合微纳识别层或第二复合微纳识别层包括有色透明、无色透明或不透明结构，不透明所述第一复合微纳识别层或第二复合微纳识别层包括单色或非单色结构。

所述防伪微纳模组的厚度尺寸为100纳米至5毫米，所述防伪微纳模组的外形尺寸为10微米至5毫米；所述第一复合微纳识别层或第二复合微纳识别层的厚度尺寸为100纳米至5毫米，所述第一复合微纳识别层或第二复合微纳识别层的厚度相等或者不等。

所述第一防伪标记图案或第二防伪标记图案包括数字、字符、文字、图形标识、条形码、二维码、三维码或阵列；所述第一防伪标记图案或第二防伪标记图案的形状包括凹凸的二维平面形状、三维规则几何体形状或具有立体曲面的不规则立体形状。

构成所述第一复合微纳识别层、第二复合微纳识别层、第三复合微纳识别层的材料包括金属、半导体、非金属材料、复合材料中的一种或一种以上。

一种制备上述的防伪材料的制备方法，其包括如下步骤：

1）基材制备：采用玻璃、PMMA、PC或不锈钢板制成待用的基材；

2）第一次覆膜：在基材的表面覆上一层过渡膜层，然后在过渡膜层的表面覆上第一基础材料层，所述覆膜包括喷涂、旋涂、点涂、刮涂、电镀、印刷工艺，所述过渡膜层为活性材料膜组成的不透光或部分透光层，所述第一基础材料层中包括至少由一种不透明或部分透明材料构成的一个或一个以上的第一基础膜层；

3）第一次防伪识别特征层加工：通过掩膜工艺在第一基础材料层中加工出第一防伪标记图案使其成为第一防伪识别特征层，其中所述掩膜材料包含正胶、负胶、不透明材料混合胶、透明或部分透明材料混合胶，所述加工方法包括化学法加工或物理法加工；

4）第二次覆膜：在第一复合微纳识别层中的第一防伪识别特征层上覆上第一微纳结构层，第一微纳结构层中包括至少由一种不透明或部分透明材料构成的一个或一个以 上的第一微纳膜层，然后在第一微纳结构层上覆上第二复合微纳识别层，所述第二复合微纳识别层中包括不透明或部分透明的第二微纳结构层和用于加工第二防伪识别特征层的第二基础材料层，第二微纳结构层包括至少由一种不透明或部分透明材料构成的一个或一个以上的第二微纳膜层，第二基础材料层中包括至少由一种不透明或部分透明材料构成的一个或一个以上的第二基础膜层；

5）第二次防伪识别特征层加工：通过掩膜工艺，在第二复合微纳识别层中的第二基础材料层中加工出第二防伪标记图案使其成为第二防伪识别特征层，其中所述掩膜材料包含正胶、负胶、不透明材料混合胶、透明或部分透明材料混合胶，所述加工方法包括化学法加工刻蚀或物理法加工刻蚀；得到密集附着在基材上的所述防伪微纳模组；

6）萃取、收集：用萃取液把基材上的过渡膜层溶解，使基材上密集排列的所述防伪微纳模组剥离出来，所述防伪微纳模组相互离散、游离状悬浮在萃取液中，收集萃取液中游离状悬浮的所述防伪微纳模组待用。

在步骤5）第二次防伪识别特征层加工后再进行第三次覆膜和第三次防伪识别特征层加工，在第二复合微纳识别层上制备出第三复合微纳识别层；通过如此重复操作，能够根据需要逐层层叠加工。

能够根据防伪复杂程度的需求，在第一微纳识别层、第二复合微纳识别层或第三微纳识别层中的微纳结构层和防伪识别特征层中依照相同或不同的透过率、反射率、吸光率、材料、覆膜膜系、颜色等参数条件进行设计，通过复杂的多层组合结构设计出具有各种反射效果、吸光反差效果、滤光效果、颜色对比反差效果等逆向破解成本高昂的光谱编码防伪信息，使微纳防伪模组包含的光谱编码防伪信息达到不可复制的防伪效果和目的。膜系设计不受材料、层数、工艺限制。

本发明的有益效果是：

1、本发明制作的防伪微纳模组为微纳米级尺寸，而且防伪微纳模组中微纳结构层和防伪识别特征层都具有相同或不同透光率和反射率，入射防伪光谱范围广，经过防伪微纳模组中不同光学膜层折射、反射后组成的光学防伪信息编码复杂，每一单层膜层之间相互关联、影响、组合成复合膜层，每复合膜层之间又相互关联，层层相扣，去除或者减少其中的某一层，就会导致每一膜层之间相互映射、透射、反射、映衬出来的光谱编码防伪信息的视觉效果和反射信息发生改变，即达到“不拆解不知道，一拆解就乱套”的破解难度，造假者难以逆向破解分析和仿造。

2、本发明能够在防伪微纳模组两面制作由不同字符、图案、阵列构成的防伪标记，这些防伪标记能够采用各种不同材料、颜色，再结合多层具有不同透光率和反射率的膜层微纳结构层，在不同的防伪光谱入射后经反射后包含复杂组合编码的光谱编码防伪信息，在使用时通过将几个含有这些光谱编码防伪信息的防伪微纳模组再随机组合，能够构成逆向破解的重复概率极低的防伪码，防伪性能好；

3、当几个或多个防伪微纳模组随机组合作为防伪码附加在需要防伪的物品上使用时，有这些防伪微纳模组能够作为防伪暗码标记，造假者不容易找到防伪暗码标记；由于每个物品上的防伪暗码标记都是由几个或多个防伪微纳模组随机组合的，使即使造假者找到防伪暗码标记，仿造复制防伪暗码标记难度大，而且造假者无法根据一个物品上的一个防伪暗码标记进行批量造假，能够极大程度上杜绝造假；

4、创造性的利用掩膜工艺、覆膜工艺制备防伪微纳模组，把不同材质、不同光学性能的膜层经过多次工艺结合与互补融合加工，把防伪信息和防伪特征逐层植入防伪微纳模组中，并通过光学设计、色彩搭配、膜层材料互补技术，把各层防伪信息和防伪特征经过掩膜工艺、覆膜工艺来糅合、包裹形成一个内部结构复杂的、并且是相互离散的微纳模组，实现不易破解的防伪目的。

综上所述，本发明制备的防伪微纳模组材料中防伪标识立体层次多、防伪标识组合变化多样、防伪性能好，难以被逆向分析破解。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明作进一步说明。其中：

图1是具有第一、第二复合微纳识别层的防伪微纳模组的结构示意图；

图2是第一微纳结构层中设有两个第一微纳镀层的结构示意图；

图3是第一基础材料层中设有两个第一基础镀层的结构示意图；

图4是第二微纳结构层中设有两个第二微纳镀层的结构示意图；

图5是第二基础材料层中设有两个第二基础镀层的结构示意图；

图6是第一防伪标记图案或第二防伪标记图案的组成内容示意图；

图7是第一防伪标记图案或第二防伪标记图案的形状示意图；

图8是具有第一、第二、第三复合微纳识别层的防伪微纳模组之一的结构示意图；

图9是具有第一、第二、第三复合微纳识别层的防伪微纳模组之二的结构示意图；

图10是防伪微纳模组的防伪原理示意图。

具体实施方式

为详细说明本发明的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图详细说明。

请参阅图1所示，本发明包括在游离状态下相互离散的防伪微纳模组1，每个所述防伪微纳模组1中包括第一复合微纳识别层01，所述第一复合微纳识别层01中包括用于加工第一防伪识别特征层011的第一基础材料层012和设于第一防伪识别特征层011上的第一微纳结构层013，所述第一防伪识别特征层011中设有第一防伪标记图案0111；第一复合微纳识别层01上设有第二复合微纳识别层02，所述第二复合微纳识别层02中包括第二微纳结构层021和用于加工第二防伪识别特征层022的第二基础材料层023，所述第二防伪识别特征层022中设有第二防伪标记图案0221；所述第二复合微纳识别层02具有与第一复合微纳识别层01不同或相同的吸收率、透光率和反射率；外部的不同防伪入射光谱经过第一复合微纳识别层01或第二复合微纳识别层02折射及发射后的光源与所述第一防伪标记图案0111或第二防伪标记图案0221相互对照、映衬糅合，使从防伪微纳模组1反射至防伪识别系统中的光源中包含逆向破解成本高昂的光谱编码防伪信息。

所述第一微纳结构层013中包括至少由一种材料构成的一个或一个以上的第一微纳膜层0131，第一基础材料层012中包括至少由一种材料构成的一个或一个以上的第一基础膜层0121。

所述第二微纳结构层021包括至少由一种材料构成的一个或一个以上的第二微纳膜层0211，第二基础材料层023中包括至少由一种材料构成的一个或一个以上的第二基础膜层0231。

构成所述第一复合微纳识别层01、第二复合微纳识别层02、第三复合微纳识别层03的材料包括金属、半导体、非金属材料、复合材料中的一种或一种以上；例如，第一复合微纳识别层01采用硅或金属铬、铜及其它金属或合金膜层或与其它材料的复合膜层，是不透明或部分透明状的膜层，能够与第二复合微纳识别层02相互对照、映衬糅合产生光学反差对比；第二复合微纳识别层02采用氧化硅与其它材料的复合膜层，是不透明、透明或半透明状的膜层，能够与第二复合微纳识别层01和第三复合微纳识别层03相互对照、映衬糅合产生光学反差对比；第三复合微纳识别层03采用硅、金属铬、铜及其它金属或合金膜层，其颜色可以与第一防伪识别特征层01一样或者不一样，能够与第二复合微纳识别层02产生光学反差对比。

请参阅图2所示，所述第一微纳结构层013中包括由两种材料构成的两个第一微纳膜层0131。

请参阅图3所示，所述第一基础材料层012中包括至由两种材料构成的两个第一基础膜层0121。

请参阅图4所示，所述第二微纳结构层021中包括由两种材料构成的两个第二微纳膜层0211。

请参阅图5所示，所述第二基础材料层023中包括由两种材料构成的两个第二基础膜层0231，两个第二基础膜层0231中都加工有第二防伪标记图案0221。

请参阅图6所示，所述第一防伪标记图案0111或第二防伪标记图案0221包括数字、字符、文字、图形标识、条形码、二维码、三维码或阵列结构。

请参阅图7所示，第一防伪标记图案0111或第二防伪标记图案0221的形状包括凹凸的二维平面形状、三维规则几何体形状或具有立体曲面的不规则立体形状。

请参阅图8所示，所述第二复合微纳识别层02上还设有第三复合微纳识别层03，所述第三复合微纳识别层03中也设有至少一个第三微纳结构层031和第三防伪识别特征层032，第三防伪识别特征层032加工于第三基础材料层033中，所述第三防伪识别特征层032中设有第三防伪标记图案0321；所述第三微纳结构层031中包括至少由一种材料构成的一个或一个以上的第三微纳膜层0311，所述第三复合微纳识别层03具有与第一复合微纳识别层01或第二复合微纳识别层02不同或相同的吸收率、透光率和反射率。通过如此重复操作，能够根据需要在第三复合微纳识别层03上再进行覆膜和特征加工，能够逐层层叠，加工出更多复合微纳识别层的防伪微纳模组1。

请参阅图9所示，防伪微纳模组1中设有第一复合微纳识别层01、第二复合微纳识别层02和第三复合微纳识别层03，第一复合微纳识别层01中的第一微纳结构层013中包括两个第一微纳镀层0131，第三复合微纳识别层03中的第三基础材料层033中两个第三基础膜层0331。

请参阅图10所示，本发明的工作原理是：当一束防伪入射光照射到防伪微纳模组1中透过率是20%的第二防伪识别特征层022（即光从图10所示左侧第一层照入）时，20%的光线进入到第二微纳结构层021，80%的光被反射至防伪识别系统中；20%的光线经过第二防伪识别特征层022到第二微纳结构层021后，剩下14%的光进入到第一微纳结构层013表面，然后有4%的光被反射回第二防伪识别特征层022后又有0.8%的光再被折射出防伪微纳模组1、与80%的反射光混合成新的反射光；

从经过第二微纳结构层021的光照射到不透明的第一微纳结构层013时（第一微纳结构层013可以为透明或不透明层），其中10%的光被反射后经过第二微纳结构层021再回到第二防伪识别特征层022中，有7%的光经过第二微纳结构层021后再有1.4%的光折射出防伪微纳模组1，1.4%的折射光再与80%的反射光、0.8%的折射光再混合一个新的反射光，构成编码复杂的光学防伪信息；

光从图10所示防伪微纳模组1右侧第一层照入时也是同样工作原理，即防伪微纳模组1双面都能起到防伪作用；而现有技术中的防伪材料通常都只能一面设有起到防伪作用的防伪特征面，现有技术中的防伪材料的特征面贴在需要防伪的物品上使用时有一半的概率朝下、特征面被挡住，特征面被挡住时其防伪作用失效，致使现有技术中的防伪材料需要更多的组合使用才能具有更好的防伪作用，而本发明中的防伪微纳模组1双面防伪，而且能够相互对照、映衬糅合更加复杂的图案、光谱编码，防伪性能卓越，不易被破解仿造。

随着第一复合微纳识别层01和第二复合微纳识别层02中的第一、第二防伪识别特征层011、022和第一、第二微纳结构层013、021的增加，经过多层次的透射、反射后，从防伪微纳模组1反射至防伪识别系统中的光源中包含编码及其复杂的光谱编码防伪信息，以现有的技术手段破解难度极大，造假者逆向破解分析和仿造不了。

图1至图7所示的防伪微纳模组1的制备方法，其包括如下步骤：

1）基材制备：采用玻璃、PMMA、PC或不锈钢板制成待用的基材；

2）第一次覆膜：在基材的表面覆上一层过渡膜层，然后在过渡膜层的表面覆上第一基础材料层012，所述覆膜包括喷涂、旋涂、点涂、刮涂、电镀、印刷工艺，所述过渡膜层为活性材料膜组成的不透光或部分透光层，所述第一基础材料层012中包括至少由一种不透明或部分透明材料构成的一个或一个以上的第一基础膜层0121；

3）第一次防伪识别特征层加工：通过掩膜工艺在第一基础材料层012中加工出第一防伪标记图案0111使其成为第一防伪识别特征层011，其中所述掩膜材料包含正胶、负胶、不透明材料混合胶、透明或部分透明材料混合胶，所述加工方法包括化学法加工或物理法加工；

4）第二次覆膜：在第一复合微纳识别层01中的第一防伪识别特征层011上覆上第一微纳结构层013，第一微纳结构层013中包括至少由一种不透明或部分透明材料构成的一个或一个以上的第一微纳膜层0131，然后在第一微纳结构层013上覆上第二复合微纳识别层02，所述第二复合微纳识别层02中包括不透明或部分透明的第二微纳结构层021和用于加工第二防伪识别特征层022的第二基础材料层023，第二微纳结构层021包括至少由一种不透明或部分透明材料构成的一个或一个以上的第二微纳膜层0211，第二基础材料层023中包括至少由一种不透明或部分透明材料构成的一个或一个以上的第二基础膜层0231；

5）第二次防伪识别特征层加工：通过掩膜工艺在第二复合微纳识别层02中的第二基础材料层023中加工出第二防伪标记图案0221使其成为第二防伪识别特征层022，其中所述掩膜材料包含正胶、负胶、不透明材料混合胶、透明或部分透明材料混合胶，所述加工方法包括化学法加工或物理法加工，得到密集附着在基材上的所述防伪微纳模组1；

6）萃取、收集：用萃取液把基材上的过渡膜层溶解，使基材上密集排列的所述防伪微纳模组1剥离出来，一个个所述防伪微纳模组1相互离散、游离状悬浮在萃取液中，收集萃取液中游离状悬浮的所述防伪微纳模组1待用。

根据需要，在上述步骤5）第二次防伪识别特征层加工后再进行第三次覆膜和第三次防伪识别特征层加工，在第二复合微纳识别层02上制备出第三复合微纳识别层03；通过如此重复操作，能够逐层层叠加工出如图8及图9所示的防伪微纳模组1。

以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种防伪材料，其特征在于：包括在游离状态下相互离散的防伪微纳模组，每个所述防伪微纳模组中包括第一复合微纳识别层，所述第一复合微纳识别层中包括用于加工第一防伪识别特征层的第一基础材料层和设于第一防伪识别特征层上的第一微纳结构层，所述第一防伪识别特征层中设有第一防伪标记图案；第一复合微纳识别层上设有第二复合微纳识别层，所述第二复合微纳识别层中包括第二微纳结构层和用于加工第二防伪识别特征层的第二基础材料层，所述第二防伪识别特征层中设有第二防伪标记图案；所述第二复合微纳识别层具有与第一复合微纳识别层不同或相同的吸收率、透光率和反射率；外部的不同防伪入射光谱经过第一复合微纳识别层或第二复合微纳识别层折射及发射后的光源与所述第一防伪标记图案或第二防伪标记图案相互对照、映衬糅合，使从防伪微纳模组反射至防伪识别系统中的光源中包含逆向破解成本高昂的光谱编码防伪信息。

2.根据权利要求1所述的一种防伪材料，其特征在于：所述第一微纳结构层中包括至少由一种材料构成的一个或一个以上的第一微纳膜层，第一基础材料层中包括至少由一种材料构成的一个或一个以上的第一基础膜层。

3.根据权利要求1或2所述的一种防伪材料，其特征在于：所述第二微纳结构层包括至少由一种材料构成的一个或一个以上的第二微纳膜层，第二基础材料层中包括至少由一种材料构成的一个或一个以上的第二基础膜层。

4.根据权利要求1至3之一所述的一种防伪材料，其特征在于：所述第二复合微纳识别层上还设有第三复合微纳识别层，所述第三复合微纳识别层中也设有至少一个第三微纳结构层和第三防伪识别特征层，第三防伪识别特征层加工于第三基础材料层中，所述第三防伪识别特征层中设有第三防伪标记图案；所述第三微纳结构层中包括至少由一种材料构成的一个或一个以上的第三微纳膜层，所述第三复合微纳识别层具有与第一复合微纳识别层或第二复合微纳识别层不同或相同的吸收率、透光率和反射率。

5.根据权利要求1所述的一种防伪材料，其特征在于：所述第一复合微纳识别层或第二复合微纳识别层包括有色透明、无色透明或不透明结构，不透明所述第一复合微纳识别层或第二复合微纳识别层包括单色或非单色结构。

6.根据权利要求1所述的一种防伪材料，其特征在于：所述防伪微纳模组的厚度尺寸为100纳米至5毫米，所述防伪微纳模组的外形尺寸为10微米至5毫米；所述第一复合微纳识别层或第二复合微纳识别层的厚度尺寸为100纳米至5毫米，所述第一复合微纳识别层或第二复合微纳识别层的厚度相等或者不等。

7.根据权利要求1所述的一种防伪材料，其特征在于：所述第一防伪标记图案或第二防伪标记图案包括数字、字符、文字、图形标识、条形码、二维码、三维码或阵列；所述第一防伪标记图案或第二防伪标记图案的形状包括凹凸的二维平面形状、三维规则几何体形状或具有立体曲面的不规则立体形状。

8.根据权利要求1所述的一种防伪材料，其特征在于：构成所述第一复合微纳识别层、第二复合微纳识别层、第三复合微纳识别层的材料包括金属、半导体、非金属材料、复合材料中的一种或一种以上。

9.一种制备权利要求1至8之一所述的防伪材料的制备方法，其特征在于：其包括如下步骤：

1）基材制备：采用玻璃、PMMA、PC或不锈钢板制成待用的基材；

2）第一次覆膜：在基材的表面覆上一层过渡膜层，然后在过渡膜层的表面覆上第一基础材料层，所述覆膜包括喷涂、旋涂、点涂、刮涂、电镀、印刷工艺，所述过渡膜层为活性材料膜组成的不透光或部分透光层，所述第一基础材料层中包括至少由一种不透明或部分透明材料构成的一个或一个以上的第一基础膜层；

3）第一次防伪识别特征层加工：通过掩膜工艺在第一基础材料层中加工出第一防伪标记图案使其成为第一防伪识别特征层，其中所述掩膜材料包含正胶、负胶、不透明材料混合胶、透明或部分透明材料混合胶，所述加工方法包括化学法加工或物理法加工；

4）第二次覆膜：在第一复合微纳识别层中的第一防伪识别特征层上覆上第一微纳结构层，第一微纳结构层中包括至少由一种不透明或部分透明材料构成的一个或一个以 上的第一微纳膜层，然后在第一微纳结构层上覆上第二复合微纳识别层，所述第二复合微纳识别层中包括不透明或部分透明的第二微纳结构层和用于加工第二防伪识别特征层的第二基础材料层，第二微纳结构层包括至少由一种不透明或部分透明材料构成的一个或一个以上的第二微纳膜层，第二基础材料层中包括至少由一种不透明或部分透明材料构成的一个或一个以上的第二基础膜层；

5）第二次防伪识别特征层加工：通过掩膜工艺，在第二复合微纳识别层中的第二基础材料层中加工出第二防伪标记图案使其成为第二防伪识别特征层，其中所述掩膜材料包含正胶、负胶、不透明材料混合胶、透明或部分透明材料混合胶，所述加工方法包括化学法加工刻蚀或物理法加工刻蚀；得到密集附着在基材上的所述防伪微纳模组；

6）萃取、收集：用萃取液把基材上的过渡膜层溶解，使基材上密集排列的所述防伪微纳模组剥离出来，所述防伪微纳模组相互离散、游离状悬浮在萃取液中，收集萃取液中游离状悬浮的所述防伪微纳模组待用。

10.根据权利要求9所述的一种防伪材料的制备方法，其特征在于： 在步骤5）第二次防伪识别特征层加工后再进行第三次覆膜和第三次防伪识别特征层加工，在第二复合微纳识别层上制备出第三复合微纳识别层；通过如此重复操作，能够根据需要逐层层叠加工。