CN1332369A - 核径迹微孔荧光综合防伪标识的制造方法及其制品 - Google Patents
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Abstract
本发明属于防伪技术领域制造方法,包括以下步骤:用具有一定能量和质量的重离子对透明的高分子聚合物薄膜进行辐照;在辐照过的薄膜上,制作激光彩虹模压全息图像;在照射过的薄膜上,印刷核微孔防伪标识图案和文字;在激光彩虹全息图像的上面复合或涂布一层荧光保护层;用化学蚀刻剂对经过上述薄膜进行成孔蚀刻,清洗和干燥处理。本发明集多重防伪性、美观性、实用性于一体,以满足商品市场对防伪技术越来越高的要求。
Description
技术领域：
本发明属于防伪技术领域，涉及核微孔径迹荧光综合防伪标识的制造方法及其制品，特别是以核微孔防伪技术为主、以荧光及其光谱分析及其它多种防伪技术为辅的综合手段制造防伪标识的方法。
背景技术：
综合防伪是防伪技术发展的一个方向。激光防伪标识曾一度发挥重要作用。但在实际应用中，有些真的标识不易识别，一些仿真标识又能以假乱真，极大地降低了激光全息防伪标识在人们心目中的地位。
高分子聚合物在膜上的核微孔是经过重离子辐照和化学蚀刻步骤产生的。核微孔具有高度均一的孔径。肉眼看不见的核微孔，作为核密码信息的载体，在防伪中可以发挥两方面的重要作用。一方面，用于设置和贮存重离子辐射诱发产生的、无法仿制的微观参数和统计参数，给仿造者造成根本不能逾越的障碍；另一方面，核微孔膜具有光学透明性和液体渗透性，使由百万量级核微孔群体组成的防伪标识显示出肉眼可见的防伪图文影像，经过彩笔透印后，就可在底膜上获得防伪图文，供大众鉴别真伪，让消费者自己参与识别防伪技术。更为重要的是，核微孔防伪标识制造过程中的重离子辐照步骤，必须依靠重离子加速器或核反应堆。加速器和反应堆都是高科技、高投入的国家专控的数量很少的大型核设施，具有高度的垄断性和唯一性，从而加强了防伪控制的力度，缩小了打假追查的范围。因此，核微孔防伪标识具有独特的防伪功能，必将在防伪领域独树一帜。但核微孔防伪标识的美观性却不如激光全息防伪标识，因而也使其应用范围受到影响。
以前的专利曾研究和开发一种核微孔综合防伪标识(专利申请号为99119551)，将激光全息防伪标识的美观性和真空蒸镀核微孔膜的光学特性，同核微孔防伪技术相结合，创造出一种集多重防伪性为一体的防伪标识，使防伪技术迈出了重要的一步。
二、发明内容：
本发明的目的是在上述防伪方法的基础上，在其保护胶中再加入荧光物质，开发出一种核径迹微孔荧光综合防伪标识的制造方法及其制品，增加了荧光光谱分析的防伪技术手段，使其集多重防伪性、美观性、实用性于一体，以满足商品市场对防伪技术越来越高的要求。
本发明提出的一种荧光核微孔综合防伪标识制造方法，包括以下步骤：
1)、用具有一定能量和质量的重离子对透明的高分子聚合物薄膜进行辐照；
2)、在所说的辐照过的透明高分子聚合物薄膜上，制作激光彩虹模压全息图像；
3)、在照射过的透明高分子聚合物薄膜上，涂布一层加有一种或几种荧光物质的耐碱或酸保护层，形成防伪标识图案和文字；
4)用化学蚀刻剂对经过上述步骤处理过的透明高分子聚合物薄膜进行成孔蚀刻，化学蚀刻后对薄膜进行清洗和干燥处理，再与纸制印刷品，防伪全息纸，电镀铝膜或激光彩虹模压全息防伪标识等复合在一起，得到综合防伪标识。
以上步骤，1、2可任意先后进行。
在上述步骤的基础上，还可用真空蒸镀法在核微孔膜表面和微孔内壁上镀一层光亮的铝膜。
经过上述步骤制造的防伪标识，就是核微孔综合防伪标识，它以核微孔防伪技术为主，集激光彩虹全息防伪与核微孔真空蒸镀技术及荧光技术于一体，不但具有核微孔标识的防伪特性，而且具备彩色荧光及激光全息防伪标识的美观性。
在所说的耐碱或酸保护层保护层中加入的荧光物质的范围为耐碱或酸物质的0.01-10％，最好的范围是0.1-5％，于20-140℃范围内与耐碱或酸均匀混合。
所说的荧光物质可以是具有荧光的有机化合物或含稀土元素的化合物。
所说的具有荧光的有机化合物可以是：二苯乙稀类，香豆素类，萘二甲酰亚胺类，吡唑啉类，唑类，较好的是二苯乙烯类，唑类：
(1)二苯乙烯类 其分子式为：
(2)香豆素类，其分子式为：
(3)萘二甲酰亚胺类，其分子式为：
(4)唑类，其分子式为：
含稀土元素的有机配合物代表式为：RE(C6H4CO2)3
如邻菲咯啉三氟乙酰丙酮合铕Eu(TTA)3Phen
邻菲咯啉三氟乙酰丙酮合钇Y(TTA)3Phen
本发明提出一种采用上述制作方法的核微孔综合防伪标识制品，其特征在于，由带有激光全息图象的核径迹微孔防伪膜，荧光保护层、镀铝层或纸层，不干胶层及硅油纸结合而成。
本发明在防伪标识中引入特定的荧光物质，在紫外灯照射下，标识可以发出不同颜色的荧光，增加美观性：同时，由于荧光物质种类繁多，不同的荧光物质具有不同的荧光光谱，通过鉴定荧光光谱可以鉴别标识的真伪。与微孔膜配合使用，进一步加强了防伪力度，增加了仿造的难度。
应用本发明制造的综合防伪标识，不仅保留了核微孔防伪标识和激光全息防伪标识造价低、生产率高、便于自动化的优点，还具有在一片塑料薄膜标识上有机地综合了四种防伪要素，使得本发明所制造的产品不能利用单一的方法宋伪冒，能更好地表明被保护物品的真实性，更好地维护名优产品及其企业的声誉。
具体实施例方式：
下面介绍本发明的实施例。
实施例I为一种蓝色荧光核微孔综合防伪标识的制造方法
本实施例的制造蓝色荧光核微孔综合防伪标识的方法，基本上可以分为五个相对独立的制做步骤：
1、重离子辐照 山重离子加速器产生的重离子，在辐照真空腔内照射透明的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜。重离子辐照过程是一种无序的随机过程，因而在受照PET薄膜内形成服从统计规律分布的核潜迹：
2、激光彩虹模压全息图像制作 本步骤与上述步骤1完全独立，便与制约和管理。应用激光彩虹全息图制版技术和模压复制技术，在受照过的透明PET薄膜上制作一种可视的或不可视的图象，并按激光全息防伪技术加密；
3、将0.05％荧光物质A加入保护胶中，于40℃搅拌溶解并混合均匀，荧光物质A的分子式为：
4、印刷防伪标识将通过电脑设计绘制的标识图案，制成印刷母版。在印刷机上均匀而清晰地把标识图案印刷到受照近过的PET薄膜。有时可根据要求以随机方式排布标识图案；
5、核微孔舶化学蚀刻在化学蚀刻之前，先在复膜机上将热熔胶预涂膜与具有激光彩虹膜压全息图像的PET薄膜表面平整地复合。复膜时的工作温度为85℃。然后，将复合膜在核孔膜蚀刻机内进行化学蚀刻；
6、核微孔真空蒸镀本步骤与上述4个步骤相对独立。具有核微孔图文和激光彩虹模压全息图像的PET薄膜，在真空镀膜机内通过蒸发镀上一层铝膜，核微孔的内壁同时也镀上一层铝膜。镀铝层的厚度在熔化铝量一定的前提下山PET薄膜的传动速度调制，以保证核微孔的透印特性和镀铝层的高反射率；
7、复膜本步骤与上述五个步骤完全独立。化学蚀刻后，将带有蓝色荧光保护层的具有核微孔的综合防伪标识膜在复膜机上与塑料电镀铝膜复合后，最后按图象裁切成标识产品。
本实施例方法制成的兰色荧光核微孔综合防伪标识结构，自上而下各层结构为：带有激光全息图象的核径迹微孔防伪标识，荧光保护层纸或镀铝层，不干胶层，硅油纸。
该综合防伪标识集核微孔防伪标识、荧光技术、激光彩虹模压全息防伪标识和真空蒸镀核微孔的特点于一身，是任何单一的方法不能仿造的。
实施例2为一种紫色荧光核微孔综合防伪标识的制造方法
紫色荧光核微孔综合防伪标识是综合防伪标识中的一种。本发明制造紫色荧光核微孔综合防伪标识的方法，基本上可以分为6个相对独立的步骤：
1、重离子辐照；本步骤与实施例1的步骤1相同
2、激光彩虹模压全息图像制作；本步骤与实施例1的步骤2相同。
3、将8％荧光物质B加入保护胶中，于115—120℃搅拌溶解并混合均匀。荧光物质B的分子式为：
4、印刷防伪标识；本步骤与实施例1的步骤4相同。
5、核微孔的化学蚀刻；本步骤与实施例1的步骤5相同。
6、复膜将带有紫色荧光保护层的具有核微孔的综合防伪标识膜在复膜机上与紫色纸复合后，按图象裁切成标识产品。
实施例3为一种红色荧光核微孔综合防伪标识的制造方法
红色荧光核微孔综合防伪标识是综合防伪标识中的一种。本发明制造红色荧光核微孔综合防伪标识的方法，基本上可以分为6个相对独立的步骤：
1、重离子辐照；本步骤与实施例1的步骤1相同
2、激光彩虹模压全息图像制作；本步骤与实施例1的步骤2相同。
3、将4.5％邻菲咯啉三氟乙酰丙酮合铕加入保护胶中，于65-68℃搅拌溶解并混合均匀。
4、印刷防伪标识；本步骤与实施例1的步骤4相同。
5、核微孔的化学蚀刻；本步骤与实施例1的步骤5相同。
6、复膜将带有红色荧光保护层的具有核微孔的综合防伪标识膜在复膜机上与防伪全息纸复合后，最后按图象裁切成标识产品。
实施例4黄色荧光核微孔防伪标识的制造方法
1、重离子辐照；本步骤与实施例1步骤1相同.
2、激光彩虹模压全息图像制作；本步骤与实施例1步骤2相同。
3、将0.2％邻苯二甲酸铽加入保护胶中，于25℃搅拌溶解并混合均匀。
4、印刷防伪标识；本步骤与实施例1步骤4相同。
5、核微孔的化学蚀刻；本步骤与实施例1的步骤5相同。
6、复膜将带有黄色荧光保护层的具有核微孔的综合防伪标识膜在复膜机上与激光彩虹模压全息防伪标识复合后，最后按图象裁切成标识产品。
利用本发明制造的核微孔荧光综合防伪标识集多重防伪性、美观性和实用性于一体，具有很强的防伪功能和艺术视觉效果，不仅防信性能可靠，而且容易实现大众识别，使用配套的荧光光谱仪和显微镜还可以准确无误地进行真伪鉴别。
Claims (10)
1、一种荧光核微孔综合防伪标识制造方法，包括以下步骤：
1)、用具有一定能量和质量的重离子对透明的高分子聚合物薄膜进行辐照；
2)、在所说的辐照过的透明高分子聚合物薄膜上，制作激光彩虹模压全息图像；
3)、在照射过的透明高分子聚合物薄膜上，涂布一层加有一种或几种荧光物质的耐碱或酸保护层，形成防伪标识图案和文字；
4)用化学蚀刻剂对经过上述步骤处理过的透明高分子聚合物薄膜进行成孔蚀刻，化学蚀刻后对薄膜进行清洗和干燥处理，再与纸制印刷品，防伪全息纸，电镀铝膜或激光彩虹模压全息防伪标识等复合在一起，得到综合防伪标识。
以上步骤，1、2可任意先后进行。
2、如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，在所说的第4步骤后，还用真空蒸镀法在核微孔膜表面和微孔内壁上镀一层光亮的铝膜。
3、如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，在所说的耐碱或酸保护层中加入的荧光物质的范围为耐碱或酸物质的0.01-10％，于20-140℃范围内与耐碱或酸均匀混合。
4、如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，在所说的耐碱或酸保护层保护层中加入的荧光物质的范围为耐碱或酸物质的的0.1-5％，于20-140℃范围内与耐碱或酸均匀混合。
5、如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所说的荧光物质是具有荧光的有机化合物或含稀土元素的化合物。
6、如权利要求5所述的制造方法，其特征在于，所说的具有荧光的有机化合物是：二苯乙稀类，香豆素类，萘二甲酰亚胺类，吡唑啉类，唑类：
(1)二苯乙烯类 其分子式为：
(2)香豆素类，其分子式为：
(3)萘二甲酰亚胺类，其分子式为：
(4)唑类 其分子式为：
7、如权利要求5所述的制造方法，其特征在于，所说的含稀土元素的化合物包括：稀土元素与芳香羧酸类的二元配合物，稀土与芳香羧酸类及另一配体形成的三元配合物。
8、如权利要求7所述的制造方法，其特征在于，所说的稀土元素与芳香羧酸类的二元配合物，代表式为：RE(R’-C6H4CO2)3其中RE为三价稀土元素，R’为H、NH2、COOH、OH等；三元配合物代表式：
RE(R’-C6H4CO2)3·Phen，其中RE为三价稀土元素，R’为H、NH2、COOH、
OH等，Phen为邻菲咯啉。
9、如权利要求7所述的制造方法，其特征在于，所说的稀土元素与其它配体形成的配合物包括：邻菲咯啉三氟乙酰丙酮合铕Eu(TTA)3Phen；邻菲咯啉三氟乙酰丙酮合钇Y(TTA)3Phen。
10、一种采用如权利要求1所述方法制造的核径迹微孔荧光综合防伪标识制品，其特征在于，由带有激光全息图象的核径迹微孔防伪标识，荧光保护层、镀铝层或纸层，不干胶层及硅油纸结合而成。
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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