CN106567980A - 管尾关断装置以及基板处理装置 - Google Patents

Abstract

一种基板处理装置包含一平台、至少一管路以及一管尾关断装置。平台用以承载一基板。管路用以输出一流体至基板。管尾关断装置设置于管路的流体出口端，并包含一本体以及一活动件。本体具有至少一流道，其与管路的流体出口相对应，以使管路输出的流体流经流道。活动件设置于本体内，并于一导通位置以及一关断位置之间往复移动，以选择性关断流道。上述基板处理装置可在停止供应流体时防止流体滴落。

Description

管尾关断装置以及基板处理装置

【技术领域】

本发明是有关一种关断装置以及基板处理装置，特别是一种防止流体滴落的管尾关断装置以及基板处理装置。

【背景技术】

在半导体制程或其它类似制程中，常需要将化学液以供应系统推送至管路的出口端流出，并涂布或喷洒于基板表面以对基板进行蚀刻或清洗等操作。蚀刻或清洗的均匀性为影响制程成败的关键，因此，如何控制化学液于供应停止时不致继续滴落而造成非预期的结果，成为制程控制上的操作重点之一。

一种已知的防止流体滴落的方法是在流体的供应系统中设置一回吸阀(suck back valve)。然而，回吸阀是设置于流体输送帮浦的出口端，其与管路的出口端相距甚远，因此，管路中的残留液体过多，导致液体重量大于回吸阀所产生的回吸力，进而发生管路出口的垂滴现象，尤其是粘度、比重、温度、挥发性、表面张力等流体特性相异的液体较常发生。

另一种已知的防止流体滴落的方法是将垂滴于管路出口处的流体经由原管路或额外设置的一回吸管路吸引至它处。然而，此方法导致供应管路的复杂化。另一种已知的防止流体滴落的方法是将出口处的管路形成多处转折，例如呈N型，以使流体可暂存于转折处。然而，此方法亦使得管路出口端的空间复杂化。

有鉴于此，如何使不同流体特性的流体于停止供应时确实关断，且在输送管路等速或加减速移动时不使残留的流体滴出便是目前极需努力的目标。

【发明内容】

本发明提供一种管尾关断装置以及基板处理装置，其是在管路的出口端设置管尾关断装置，以在停止供应流体时能够确实关断流体出口，以避免流体滴落或垂滴于管路的出口。

本发明一实施例的管尾关断装置是设置于一管路的一流体出口端，并包含一本体以及一活动件。本体具有至少一流道，其与管路的流体出口相对应，以使管路中的一流体流经本体中的流道。活动件设置于本体内，并于一导通位置以及一关断位置之间往复移动，以选择性关断本体中的流道。

本发明另一实施例的基板处理装置包含一平台、至少一管路以及一管尾关断装置。平台用以承载一基板。管路设置于平台的上方其中管路具有一流体出口，用以输出一流体至基板，以处理基板。管尾关断装置设置于管路的流体出口端，并包含一本体以及一活动件。本体具有至少一流道，其与管路的流体出口相对应，以使管路输出的流体流经流道。活动件设置于本体内，并于一导通位置以及一关断位置之间往复移动，以选择性关断流道。

以下借由具体实施例配合所附的图式详加说明，当更容易了解本发明的目的、技术内容、特点及其所达成的功效。

【附图说明】

下面，参照附图，对于熟悉本技术领域的人员而言，从对本发明的详细描述中，本发明的上述和其他目的、特征和优点将显而易见。

图1为一示意图，显示本发明第一实施例的基板处理装置的局部元件。

图2为一示意图，显示本发明第二实施例的基板处理装置的管尾关断装置。

图3为一示意图，显示本发明第三实施例的基板处理装置的管尾关断装置。

图4为一示意图，显示本发明第四实施例的基板处理装置的管尾关断装置。

【符号说明】

10 平台

11 旋转轴

20a、20b 管路

21 管路支撑元件

22 气体管路

30 管尾关断装置

31 本体

311a、311b 流道

32a～32d 活动件

321 气体通道

321a 第一气体通道

321b 第二气体通道

322 凸块

323 弹性元件

33 固定件

40 基板

【具体实施方式】

以下将详述本发明的各实施例，并配合图式作为例示。除了该多个详细说明之外，本发明亦可广泛地施行于其它的实施例中，任何所述实施例的轻易替代、修改、等效变化都包含在本发明的范围内，并以申请专利范围为准。在说明书的描述中，为了使读者对本发明有较完整的了解，提供了许多特定细节；然而，本发明可能在省略部分或全部特定细节的前提下，仍可实施。此外，众所周知的步骤或元件并未描述于细节中，以避免对本发明形成不必要的限制。图式中相同或类似的元件将以相同或类似符号来表示。特别注意的是，图式仅为示意之用，并非代表元件实际的尺寸或数量，有些细节可能未完全绘出，以求图式的简洁。

请参照图1，本发明的一实施例的基板处理装置包含一平台10、至少一管路20a以及一管尾关断装置30。举例而言，基板处理装置可为基板的蚀刻、清洗或其它湿式制程的处理装置。平台10用以承载一基板40。可以理解的是，平台10可借由旋转轴11驱动而旋转，进而带动基板40旋转。于一实施例中，基板40可为半导体基板、太阳能基板、显示器玻璃基板或LED基板等。管路20a设置于平台10的上方。管路20a具有一流体出口，用以输出一流体至基板40，以处理基板40，例如蚀刻或清洗基板40。可以理解的是，图1所示的基板处理装置仅显示其局部的元件，基板处理装置尚包含流体供应系统(例如帮浦)、泄液系统、抽气/排气系统以及控制系统等元件。基板处理装置的其它详细结构可依据现有的技术加以实现，在此不再赘述。

接续上述说明，管尾关断装置30设置于管路20a的流体出口端。于一实施例中，本发明的基板处理装置更包含一管路支撑元件21，其为一管状。管路20a可设置于管路支撑元件21内，而管尾关断装置30可连接于管路支撑元件21的末端。管尾关断装置30包含一本体31以及一活动件32a。本体31具有至少一流道311a，且流道311a与管路20a的流体出口相对应，如此一来，管路20a输出的流体即可流经本体31内的流道311a。活动件32a则设置于本体31内，并于一导通位置以及一关断位置之间往复移动，以选择性关断本体31内的流道311a。可以理解的是，活动件32a的移动方向可平行或垂直于流道311a。请参照图1，于一实施例中，活动件32a可为一膜片，而流道311a中具有一凸块322。当一压力气体经由一气体通道321导入时，膜片即被压力气体驱动至关断位置，亦即抵靠于流道311a中的凸块322，如图1中的虚线所示，如此即可关断流道311a，使流体不再输出。由于关断位置靠近出口端，因此管路残留的流体极少，因此流体不会在管路出口端垂滴或滴落。

于图1所示的实施例中，管路支撑元件21内可设置多个管路20a、20b，而本体31亦具有多个与多个管路20a、20b相对应的流道311a、311b，而活动件32a为一个，且仅选择性关断流道311a。换言之，对应流道311b的管路20b即未在管路出口端额外设置管尾关断装置。可以理解的是，管路20b可供应不影响制程结果的流体，例如纯水，或是不容易垂滴或滴落的流体。或者，亦可依据实际需求设置于多个活动件32a，以选择性关断多个管路20a、20b。

请再参照图1，管尾关断装置30更包含一固定件33，其用以固定管尾关断装置30于管路支撑元件21。举例而言，固定件33可为一螺帽，管尾关断装置30即可锁固于管路支撑元件21，并在需要时拆卸下来维修或清洗保养。需注意者，本体31可为一件式元件或由多个元件组合而成。此外，可在本体31内的适当位置设置垫片等防漏元件，以防止流体泄露。

请参照图2，于一实施例中，活动件32b能够以一弹性元件323驱动，并沿流道311a的方向移动至关断位置而抵靠于流道的出口，以关断流道311a。举例而言，当供应流体时，流道311a内即产生较大压力而推开活动件32b，流体即可正常输出，此时弹性元件323被压缩。当停止供应流体时，流道311a内的压力降低，此时弹性元件323的回复力可推动活动件32b至关断位置而关断流道311a，流体即不会在管路的出口端垂滴或滴落。

于一实施例中，活动件能够以压力气体驱动，并在导通位置以及关断位置往复移动。举例而言，请参照图3，一第一压力气体可从一第一气体通道321a输入以驱动活动件32c，并使活动件32c沿垂直流道311a的方向移动至关断位置而关断流道311a。而一第二压力气体可从一第二气体通道321b输入以驱动活动件32c至导通位置而导通流道311a。

于一实施例中，活动件能够以压力气体以及弹性元件驱动，并在导通位置以及关断位置往复移动。举例而言，请参照图4，活动件32d能够以经由气体管路22以及气体通道321输入的压力气体驱动，使活动件32d移动至关断位置，并压缩弹性元件323。当停止输入压力气体，亦即移除压力气体时，活动件32d被弹性元件323的回复力推回至导通位置，流导311a因而导通。于一实施例中，流道311a具有转折，例如N型转折，而活动件32d是沿平行管路20a的流体出口的方向(亦即垂直基板的方向)在关断位置以及导通位置往复移动。依据此结构，管尾关断装置30的体积可较图3所示的实施例为小。

综合上述，本发明的管尾关断装置以及基板处理装置是在管路的出口端设置管尾关断装置，且管尾关断装置可透过弹性元件或压力气体控制，以选择性关断管尾关断装置中的流道。由于管尾关断装置是设置于管路的出口端，因此在停止供应流体时能够确实关断流体出口，且关断后流道内的残留流体极少，因而避免流体滴落或垂滴于管路的出口。

以上所述的实施例仅是为说明本发明的技术思想及特点，其目的在使熟习此项技艺的人士能够了解本发明之内容并据以实施，当不能以的限定本发明的专利范围，即大凡依本发明所揭示的精神所作的均等变化或修饰，仍应涵盖在本发明的专利范围内。

Claims (11)

1.一种管尾关断装置，其设置于一管路的一流体出口端，其特征在于，该管尾关断装置包含：

一本体，其具有至少一流道，其与该管路的该流体出口相对应，以使该管路中的一流体流经该流道；以及

一活动件，其设置于该本体内，并于一导通位置以及一关断位置之间往复移动，以选择性关断该流道。

2.如权利要求1所述的管尾关断装置，其特征在于，该活动件的移动方向平行于该流道。

3.如权利要求1所述的管尾关断装置，其特征在于，该活动件的移动方向垂直于该流道。

4.如权利要求1所述的管尾关断装置，其特征在于，该活动件为一膜片，该流道具有一凸块，且该膜片以一压力气体驱动至该关断位置而抵靠于该凸块，以关断该流道。

5.如权利要求1所述的管尾关断装置，其特征在于，该活动件以一弹性元件驱动，并沿该流道的方向移动至该关断位置而抵靠于该流道的出口，以关断该流道。

6.如权利要求1所述的管尾关断装置，其特征在于，该活动件以一第一压力气体驱动，并沿垂直该流道的方向移动至该关断位置，以关断该流道，且该活动件以一第二压力气体驱动至该导通位置，以导通该流道。

7.如权利要求1所述的管尾关断装置，其特征在于，该流道具有转折，该活动件以一压力气体驱动，并沿平行该管路的该流体出口的方向移动至该关断位置，以关断该流道，且该活动件在移除该压力气体时，以一弹性元件的回复力驱动至该导通位置，以导通该流道。

8.如权利要求1所述的管尾关断装置，其特征在于，该管路为多个，该本体具有多个与该多个管路相对应的该流道，且该活动件为一个或多个以选择性关断一个或多个该流道。

9.一种基板处理装置，其特征在于，包含：

一平台，其用以承载一基板；

至少一管路，其设置于该平台的上方，其中该管路具有一流体出口，用以输出一流体至该基板，以处理该基板；以及

如权利要求1至8任一所述的一管尾关断装置，其设置于该管路的该流体出口端。

10.如权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，更包含一管路支撑元件，其为一管状，且该管路设置于该管路支撑元件内，其中，该管尾关断装置连接于该管路支撑元件的末端。

11.如权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于，该管尾关断装置更包含一固定件，其用以固定该管尾关断装置于该管路支撑元件。