CN106468831B - 一种裸眼3d显示设备、视觉屏障及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种裸眼3D显示设备、视觉屏障及其制备方法，该方法包括：在基底的上表面沉积吸收材料，形成第一薄膜层；在所述第一薄膜层的上表面继续沉积反射材料，形成第二薄膜层；在所述第二薄膜层的表面铺设具有设定图形的光刻胶；按照同一刻蚀工艺对所述第一薄膜层、所述第二薄膜层进行刻蚀，形成叠置的反射层和吸收层；其中，所述第一薄膜层和所述第二薄膜层的刻蚀速率相近。按照同一刻蚀工艺对第一薄膜层、第二薄膜层进行刻蚀，进而简化了视觉屏障的制备工艺。在同一刻蚀工序下进行，得到的反射层和吸收层的图形一致，可以避免因吸收层线宽大于反射层线宽导致显示设备背光利用效率较低的问题。

Description

一种裸眼3D显示设备、视觉屏障及其制备方法
技术领域
本发明实施例涉及裸眼3D领域，尤其涉及一种裸眼3D显示设备、视觉屏障及其制备方法。
背景技术
专利201510052064.0，提出一个带有反射层和吸收层的后置视觉屏障式的裸眼3D显示设备，包括一个图形反射结构，图形反射结构设置于背光源和穿透式显示屏之间，图形反射结构为反射层和吸收层的叠层结构，其下层(靠近背光源)为反射层，主要作用为提高背光利用率，上层(靠近显示屏)为吸收层，避免杂散光入射到观察者的眼睛。
上述反射层的材质通常为银，吸收层的材质通常为树脂或氧化铬。吸收层和反射层可采用光刻的方法制备，如，在一基板上先后依形成第一薄膜层和第二薄膜层，对第二薄膜层进行曝光、显影形成吸收层，将吸收层作为掩膜，刻蚀第一薄膜层形成反射层，如第一薄膜层为银，第二薄膜层为黑色树脂。对黑色树脂进行曝光显影后形成的吸收层，与将吸收层作为掩膜对银进行刻蚀形成的反射层，其图形存在一定的差异(如反射层刻蚀的较多，吸收层刻蚀的较少)，这是因为为保证反射层没有刻蚀残留需要增加刻蚀时间从而导致银的线宽小于作为掩模的黑色树脂的线宽，因吸收层和反射层的图形差异，如吸收层的光吸收面积大于反射层的光反射面积，导致反射光的利用率降低，进而影响裸眼3D显示设备的显示。
此外，因为材料特性差异，反射层通常采用物理气相沉积方式成膜，黑色树脂吸收层通常采用涂布成膜，两层薄膜需要两种完全不同且相互独立的工艺设备成膜。并且黑色树脂吸收层是通过曝光显影方式形成图形，而反射层通常采用湿法刻蚀(也有采用干法刻蚀)方法形成图形，也需要两个完全不同的工艺设备进行制作。
综上，现有后置视觉屏障的制备工艺，存在背光利用效率较低，且工艺复杂等技术问题。
发明内容
本发明实施例提供一种裸眼3D显示设备、视觉屏障及其制备方法，用以解决现有后置视觉屏障的制备工艺，存在的背光利用效率较低，且工艺复杂的技术问题。
本发明实施例提供一种视觉屏障的制备方法，包括：
在基底的上表面沉积吸收材料，形成第一薄膜层；
在所述第一薄膜层的上表面继续沉积反射材料，形成第二薄膜层；
在所述第二薄膜层的表面铺设具有设定图形的光刻胶；
按照同一刻蚀工艺对所述第一薄膜层、所述第二薄膜层进行刻蚀，形成叠置的反射层和吸收层；其中，所述第一薄膜层和所述第二薄膜层的刻蚀速率相近。
进一步地，所述在基底的上表面沉积吸收材料，包括：
在所述基底上沉积作为吸收材料的一金属、一金属氧化物，或者一金属与该金属的金属氧化物的叠层结构；
所述在所述第一薄膜层的上表面继续沉积反射材料，包括：
在所述吸收材料的上表面继续沉积作为反射材料的一金属或一金属叠层，所述金属叠层包括至少一种金属。
进一步地，若所述吸收材料为金属氧化物；
所述在基底的上表面沉积吸收材料，包括：
在惰性气体和氧气气氛中，采用物理气相沉积法在所述基底的上表面沉积所述金属氧化物，调整通入氧气的速率，从而调整所述金属氧化物中金属和氧的比例，以得到刻蚀速率与所述反射材料的刻蚀速率相近的吸收材料；或者，
所述吸收材料为所述金属与所述金属氧化物的叠层结构；
在基底的上表面沉积吸收材料，包括：
先在惰性气体气氛中，采用采用物理气相沉积法在所述基底上沉积一层所述金属；
然后在所述惰性气体气氛中通入氧气，继续在所述金属的上表面沉积所述金属的金属氧化物，得到所述叠层结构；调整通入氧气的速率，从而调整所述叠层结构中所述金属和氧的比例，以得到刻蚀速率与所述反射材料的刻蚀速率相近的吸收材料。
进一步地，所述在基底的上表面沉积吸收材料，包括：
在所述基底的上表面沉积一层ITO薄膜，然后将所述ITO薄膜放置在还原气氛中，使所述ITO薄膜的表面发生还原反应，得到形成于所述基底上的吸收材料。
本发明实施例提供一种视觉屏障，采用上述任一方法制备得到，所述视觉屏障包括基底，位于所述基底上的吸收层，以及叠置于所述吸收层上的反射层。
本发明实施例提供一种裸眼3D显示设备，包括显示屏和背光源，还包括上述任一视觉屏障，所述视觉屏障设置在所述显示屏和所述背光源之间；其中，所述视觉屏障的吸收层靠近所述显示屏，所述视觉屏障的反射层靠近所述背光源。
本发明实施例提供一种视觉屏障的制备方法，包括：
在基底的上表面沉积反射材料，形成第一薄膜层；
在所述第一薄膜层的上表面继续沉积吸收材料，形成第二薄膜层；
在所述第二薄膜层的表面铺设具有设定图形的光刻胶；
按照同一刻蚀工艺对所述第一薄膜层和所述第二薄膜层进行刻蚀，形成叠置的吸收层和反射层；其中，所述第一薄膜层和所述第二薄膜层的刻蚀速率相近。
进一步地，在基底的上表面沉积反射材料，形成第一薄膜层，包括：
在所述基底的上表面沉积作为反射材料的一金属或一金属叠层，所述金属叠层包括至少一种金属；
在所述第一薄膜层的上表面继续沉积吸收材料，形成第二薄膜层，包括：
在所述反射材料的上表面继续沉积作为吸收材料的一金属、一金属氧化物，或者一金属与该金属的金属氧化物的叠层结构。
进一步地，若所述吸收材料为一金属氧化物；在所述反射材料的上表面继续沉积吸收材料，包括：
在惰性气体和氧气气氛中，采用物理气相沉积法在所述反射材料的上表面沉积所述金属氧化物，调整通入氧气的速率，从而调整所述金属氧化物中金属和氧的比例，以得到刻蚀速率与所述反射材料的刻蚀速率相近的吸收材料；或者，
所述吸收材料为一金属与该金属的金属氧化物的叠层结构；则在所述反射材料的上表面继续沉积吸收材料，包括：
先在惰性气体气氛中，采用采用物理气相沉积法在所述反射材料上沉积一层所述金属；
然后在所述惰性气体气氛中通入氧气，继续在所述金属的上表面沉积所述金属的金属氧化物，得到所述叠层结构；调整通入氧气的速率，从而调整所述叠层结构中所述金属和氧的比例，以得到刻蚀速率与所述反射材料的刻蚀速率相近的吸收材料。
进一步地，在所述反射材料的上表面继续沉积吸收材料，包括：
在所述反射材料的上表面继续沉积一层ITO薄膜，然后将所述ITO薄膜放置在还原气氛中，使所述ITO薄膜的表面发生还原反应，得到形成于所述反射材料上的吸收材料。
本发明实施例提供一种视觉屏障，采用上述任一方法制备得到，所述视觉屏障包括基底，位于所述基底上的反射层，以及叠置于所述反射层上的吸收层。
本发明实施例提供一种裸眼3D显示设备，包括显示屏和背光源，还包括上述任一视觉屏障，所述视觉屏障设置在所述显示屏和所述背光源之间；其中，所述视觉屏障的吸收层靠近所述显示屏，所述视觉屏障的反射层靠近所述背光源。
本发明实施例中，第一薄膜层和第二薄膜层的刻蚀速率相近，因此可按照同一刻蚀工艺(干法或湿法)对第一薄膜层、第二薄膜层进行刻蚀，形成叠置的反射层和吸收层，进而简化了视觉屏障的制备工艺。以湿法刻蚀为例，因第一薄膜层和第二薄膜层的刻蚀速率相近，吸收材料和反射材料可采用同一刻蚀液进行刻蚀，并且吸收材料与刻蚀液的反应速率，与反射材料与刻蚀液的反应速率相近，因此，可采用同一刻蚀设备对吸收材料和反射材料进行一次刻蚀工序，即可得到叠置的吸收层和反射层，因吸收材料和反射材料在同一刻蚀工序下进行，几乎不存在银刻蚀残留问题，进而得到图形一致的反射层和吸收层，反射层和吸收层的图形一致，可以避免因吸收层线宽大于反射层线宽导致显示设备背光利用效率较低的问题。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1为本发明实施例提供的一种视觉屏障的制备方法示意图；
图2为本发明实施例提供的一种视觉屏障的制备方法示意图；
图3至图7为发明实施例提供的一种视觉屏障的制备流程的结构示意图；
图8为本发明实施例提供的一种应用了视觉屏障的裸眼3D显示设备的结构示意图；
图9至图13为发明实施例提供的一种视觉屏障的制备流程的结构示意图；
图14为本发明实施例提供的一种应用了视觉屏障的裸眼3D显示设备的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明所解决的技术问题、技术方案以及有效果更加清楚明白，以下结合说明书附图对本发明的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。并且在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
若反射层为银，吸收层为氧化铬，在刻蚀形成吸收层、反射层时，也需要采用不同的刻蚀工艺完成，这是因为氧化铬与银相比，化学性质比较稳定，较难刻蚀，氧化铬的刻蚀液通常是硝酸二胺铈与硝酸的混合液，银的刻蚀液通常是醋酸、硝酸和磷酸的混合液。因刻蚀液的不同，导致氧化铬吸收层是通过第一种湿法刻蚀工序方式形成图形，而反射层银通常采用第二种湿法刻蚀(也有采用干法刻蚀)方法形成图形，需要两个完全不同的工艺设备进行制作。刻蚀形成氧化铬吸收层之后，以氧化铬吸收层为掩膜对银进行刻蚀形成的反射层。氧化铬吸收层和银反射层的图形存在一定的差异(如反射层刻蚀的较多，吸收层刻蚀的较少)，这是因为为保证银反射层没有刻蚀残留需要增加刻蚀时间，从而导致银的线宽小于作为掩模的氧化铬吸收层的线宽，因吸收层和反射层的图形差异，如吸收层的光吸收面积大于反射层的光反射面积，导致反射光的利用率降低，进而影响裸眼3D显示设备的显示。
综上，现有技术中，无法实现吸收层材料和反射层材料因材质的特性不同，导致视觉屏障制备过程中，吸收层材料和反射层材料无法同时刻蚀，并且制备的图形还存在线宽不一致的问题。
为解决上述技术问题，本发明实施例提供一种视觉屏障的制备方法，如图1所示，包括：
步骤101，在基底的上表面沉积吸收材料，形成第一薄膜层；
步骤102，在第一薄膜层的上表面继续沉积反射材料，形成第二薄膜层；
步骤103，在第二薄膜层的表面铺设具有设定图形的光刻胶；
步骤104，按照同一刻蚀工艺对第一薄膜层、第二薄膜层进行刻蚀，形成叠置的反射层和吸收层；其中，第一薄膜层和第二薄膜层的刻蚀速率相近。
具体的，步骤101中，在基底的上表面沉积吸收材料，包括：
在基底上沉积作为吸收材料的一金属、一金属氧化物，或者一金属与该金属的金属氧化物的叠层结构中的任一种。
具体的，步骤102中，在第一薄膜层的上表面继续沉积反射材料，包括：
在吸收材料的上表面继续沉积作为反射材料的一金属或一金属叠层，金属叠层包括至少一种金属。该金属可以为银，也可以为铝，金属叠层可以是钼和铝，或者铌和铝，或者，银与钼，或者银与铌构成的金属叠层。
一种可选的实施例中，若吸收材料为金属氧化物；则步骤101中，在基底的上表面沉积吸收材料，包括：
在惰性气体和氧气气氛中，采用物理气相沉积法在基底的上表面沉积金属氧化物，调整通入氧气的速率，从而调整金属氧化物中金属和氧的比例，以得到刻蚀速率与反射材料的刻蚀速率相近的吸收材料。
以作为吸收材料的金属氧化物为氧化钼，反射材料为银为例，因吸收材料氧化钼和反射材料银可采用同一刻蚀液进行刻蚀，刻蚀液可以是醋酸、硝酸和磷酸的混合液，并且吸收材料氧化钼与刻蚀液的反应速率，与反射材料银与刻蚀液的反应速率相近，因此，可采用同一刻蚀设备(也可以是干法刻蚀，考虑到成本问题，优选采用低成本的湿法刻蚀)对吸收材料氧化钼和反射材料银进行一次刻蚀工序，即可得到吸收层氧化钼和反射层银，进而简化了视觉屏障的制备工艺。因吸收材料氧化钼和反射材料银在同一刻蚀工序下进行，几乎不存在银刻蚀残留问题，吸收层和反射层的线宽差异很小，进而得到图形一致的反射层和吸收层。反射层和吸收层的图形一致，可以避免因吸收层线宽大于反射层线宽导致显示设备背光利用效率较低的问题。反射层和吸收层的图形一致，可以避免因吸收层线宽大于反射层线宽导致显示设备背光利用效率较低的问题。
可选的，金属氧化物也可以是氧化铌，吸收材料氧化铌和反射材料银也可采用同一刻蚀液进行刻蚀，刻蚀液可以是醋酸、硝酸和磷酸的混合液，并且吸收材料氧化铌与刻蚀液的反应速率，与反射材料银与刻蚀液的反应速率相近，因此，可采用同一刻蚀设备(也可以是干法刻蚀，考虑到成本问题，优选采用低成本的湿法刻蚀)对吸收材料氧化铌和反射材料银进行一次刻蚀工序，即可得到吸收层氧化钼和反射层银，进而简化了视觉屏障的制备工艺。因吸收材料氧化铌和反射材料银在同一刻蚀工序下进行，几乎不存在银刻蚀残留问题，吸收层和反射层的线宽差异很小，进而得到图形一致的反射层和吸收层。反射层和吸收层的图形一致，可以避免因吸收层线宽大于反射层线宽导致显示设备背光利用效率较低的问题。
另一种可选的实施例中，吸收材料为金属与金属氧化物的叠层结构，如氧化钼与金属钼的叠层结构，此时，步骤101中，在基底的上表面沉积吸收材料，包括：
先在惰性气体气氛中，采用采用物理气相沉积法在基底上沉积一层金属；
然后在惰性气体气氛中通入氧气，继续在金属的上表面沉积金属的金属氧化物，得到叠层结构；调整通入氧气的速率，从而调整叠层结构中金属和氧的比例，以得到刻蚀速率与反射材料的刻蚀速率相近的吸收材料。
以作为吸收材料的金属与金属氧化物的叠层结构为钼与氧化钼的叠层结构，反射材料为银为例，钼与氧化钼的叠层结构和反射层材料银也可采用同一刻蚀液进行刻蚀，刻蚀液可以是醋酸、硝酸和磷酸的混合液，并且钼与氧化钼的叠层结构与刻蚀液的反应速率，与反射材料银与刻蚀液的反应速率相近，因此，可采用同一刻蚀设备(也可以是干法刻蚀，考虑到成本问题，优选采用低成本的湿法刻蚀)，对钼与氧化钼的叠层结构和反射材料银进行一次刻蚀工序，即可得到叠置的吸收层和反射层，进而简化了视觉屏障的制备工艺。因吸收材料钼与氧化钼的叠层结构和反射材料银在同一刻蚀工序下进行，几乎不存在银刻蚀残留问题，吸收层和反射层的线宽差异很小，进而得到图形一致的反射层和吸收层。反射层和吸收层的图形一致，可以避免因吸收层线宽大于反射层线宽导致显示设备背光利用效率较低的问题。
可选的，金属与金属氧化物的叠层也可以是铌与氧化铌的叠层结构。铌与氧化铌的叠层结构和反射层材料银也可采用同一刻蚀液进行刻蚀，刻蚀液可以是醋酸、硝酸和磷酸的混合液，并且吸收材料铌与氧化铌的叠层结构与刻蚀液的反应速率，与反射材料银与刻蚀液的反应速率相近，因此，可采用同一刻蚀设备(也可以是干法刻蚀，考虑到成本问题，优选采用低成本的湿法刻蚀)，对吸收层材料铌与氧化铌的叠层结构和反射层材料银进行一次刻蚀工序，即可得到叠置的吸收层和反射层，进而简化了视觉屏障的制备工艺。因吸收材料铌与氧化铌的叠层结构和反射材料银在同一刻蚀工序下进行，几乎不存在银刻蚀残留问题，吸收层和反射层的线宽差异很小，进而得到图形一致的反射层和吸收层。反射层和吸收层的图形一致，可以避免因吸收层线宽大于反射层线宽导致显示设备背光利用效率较低的问题。
另一种可选的实施例中，步骤101中，在基底的上表面沉积吸收材料，包括：
在基底的上表面沉积一层ITO薄膜，然后将ITO薄膜放置在还原气氛中，使ITO薄膜的表面发生还原反应，得到形成于基底上的吸收材料。
按照这种方式，ITO薄膜的表面发生还原反应后形成黑色材料也可作为吸收材料，与上述金属氧化物氧化钼或氧化铌相比，成本可大大降低。且这种吸收材料与反射材料银采用同一刻蚀工艺(干法刻蚀或湿法刻蚀，考虑到成本问题，优选采用低成本的湿法刻蚀)，由ITO薄膜的表面发生还原反应得到的吸收材料和反射层材料银也可采用同一刻蚀液进行刻蚀，刻蚀液可以是醋酸、硝酸和磷酸的混合液，并且由ITO薄膜的表面发生还原反应得到的吸收材料与刻蚀液的反应速率，与反射材料银与刻蚀液的反应速率相近，因此，可采用同一刻蚀设备对由ITO薄膜的表面发生还原反应得到的吸收材料和反射材料银进行一次刻蚀工序，即可得到吸收层和反射层，进而简化了视觉屏障的制备工艺。因在同一刻蚀工序下进行，几乎不存在银刻蚀残留问题，吸收层和反射层的线宽差异很小，进而得到图形一致的反射层和吸收层。反射层和吸收层的图形一致，可以避免因吸收层线宽大于反射层线宽导致显示设备背光利用效率较低的问题。
上述步骤101制备吸收材料的示意图参见图3，上述步骤102制备反射材料的示意图参见图4，上述步骤103在吸收材料表面涂光刻胶的示意图参见图5，上述步骤104进行吸收材料和反射材料一次刻蚀的示意图参见图6，除了步骤101至步骤104，还包括：去除吸收层表面的光刻胶，得到图形一致的反射层和吸收层，参照图7。其中，图1至图7中，1为基底，2为反射材料，3为吸收材料，4为光刻胶。
基于上述方法流程，本发明实施例还提供一种采用上述任一制备方法制备的视觉屏障，视觉屏障包括基底，位于基底上的吸收层，以及叠置于吸收层上的反射层，参照图7。
实施例3
本发明实施例还提供一种裸眼3D显示设备，包括显示屏和背光源，以及采用上述任一制备方法制备的视觉屏障，视觉屏障设置在显示屏和背光源之间；其中，视觉屏障的吸收层靠近显示屏，视觉屏障的反射层靠近背光源，基底位于吸收层和显示屏之间，参照图8，其中，1为基底，2为反射材料，3为吸收材料，4为光刻胶，5为显示屏，6为背光源。
实施例4
如图2所示，本发明实施例还提供一种视觉屏障的制备方法，包括：
步骤201，在基底的上表面沉积反射材料，形成第一薄膜层；
步骤202，在第一薄膜层的上表面继续沉积吸收材料，形成第二薄膜层；
步骤203，在第二薄膜层的表面铺设具有设定图形的光刻胶；
步骤204，按照同一刻蚀工艺对第一薄膜层和第二薄膜层进行刻蚀，形成叠置的吸收层和反射层；其中，第一薄膜层和第二薄膜层的刻蚀速率相近。
上述步骤201中，在基底的上表面沉积反射材料，形成第一薄膜层，包括：
在基底的上表面沉积作为反射材料的一金属或一金属叠层，金属叠层包括至少一种金属。该金属可以为银，也可以为铝，金属叠层可以是钼和铝，或者铌和铝，或者，银与钼，或者银与铌构成的金属叠层。
上述步骤202中，在第一薄膜层的上表面继续沉积吸收材料，形成第二薄膜层，包括：
在反射材料的上表面继续沉积作为吸收材料的一金属、一金属氧化物，或者一金属与该金属的金属氧化物的叠层结构。
一种可选的实施例中，若吸收材料为一金属氧化物；则上述步骤202中，在反射材料的上表面继续沉积吸收材料，包括：
在惰性气体和氧气气氛中，采用物理气相沉积法在反射材料的上表面沉积金属氧化物，调整通入氧气的速率，从而调整金属氧化物中金属和氧的比例，以得到刻蚀速率与反射材料的刻蚀速率相近的吸收材料。
以作为吸收材料的金属氧化物为氧化钼，反射材料为银为例，因吸收材料氧化钼和反射材料银可采用同一刻蚀液进行刻蚀，刻蚀液可以是醋酸、硝酸和磷酸的混合液，并且吸收材料氧化钼与刻蚀液的反应速率，与反射材料银与刻蚀液的反应速率相近，因此，可采用同一刻蚀设备(也可以是干法刻蚀，考虑到成本问题，优选采用低成本的湿法刻蚀)对吸收材料氧化钼和反射材料银进行一次刻蚀工序，即可得到吸收层氧化钼和反射层银，进而简化了视觉屏障的制备工艺。因吸收材料氧化钼和反射材料银在同一刻蚀工序下进行，几乎不存在银刻蚀残留问题，吸收层和反射层的线宽差异很小，进而得到图形一致的反射层和吸收层。反射层和吸收层的图形一致，可以避免因吸收层线宽大于反射层线宽导致显示设备背光利用效率较低的问题。
可选的，金属氧化物也可以是氧化铌，吸收材料氧化铌和反射材料银也可采用同一刻蚀液进行刻蚀，刻蚀液可以是醋酸、硝酸和磷酸的混合液，并且吸收材料氧化铌与刻蚀液的反应速率，与反射材料银与刻蚀液的反应速率相近，因此，可采用同一刻蚀设备对吸收材料氧化铌和反射材料银进行一次刻蚀工序，即可得到吸收层氧化钼和反射层银，进而简化了视觉屏障的制备工艺。因吸收材料氧化铌和反射材料银在同一刻蚀工序下进行，几乎不存在银刻蚀残留问题，吸收层和反射层的线宽差异很小，进而得到图形一致的反射层和吸收层。反射层和吸收层的图形一致，可以避免因吸收层线宽大于反射层线宽导致显示设备背光利用效率较低的问题。
一种可选的实施例中，吸收材料为一金属与该金属的金属氧化物的叠层结构；则上述步骤202中，在反射材料的上表面继续沉积吸收材料，包括：
先在惰性气体气氛中，采用采用物理气相沉积法在反射材料上沉积一层金属；
然后在惰性气体气氛中通入氧气，继续在金属的上表面沉积金属的金属氧化物，得到叠层结构；调整通入氧气的速率，从而调整叠层结构中金属和氧的比例，以得到刻蚀速率与反射材料的刻蚀速率相近的吸收材料。
以作为吸收材料的金属与金属氧化物的叠层结构为钼与氧化钼的叠层结构，反射材料为银为例，钼与氧化钼的叠层结构和反射层材料银也可采用同一刻蚀液进行刻蚀，刻蚀液可以是醋酸、硝酸和磷酸的混合液，并且钼与氧化钼的叠层结构与刻蚀液的反应速率，与反射材料银与刻蚀液的反应速率相近，因此，可采用同一刻蚀设备，对钼与氧化钼的叠层结构和反射材料银进行一次刻蚀工序，即可得到吸收层和反射层，进而简化了视觉屏障的制备工艺。因吸收材料钼与氧化钼的叠层结构和反射材料银在同一刻蚀工序下进行，几乎不存在银刻蚀残留问题，吸收层和反射层的线宽差异很小，进而得到图形一致的反射层和吸收层。反射层和吸收层的图形一致，可以避免因吸收层线宽大于反射层线宽导致显示设备背光利用效率较低的问题。
可选的，金属与金属氧化物的叠层也可以是铌与氧化铌的叠层结构。铌与氧化铌的叠层结构和反射层材料银也可采用同一刻蚀液进行刻蚀，刻蚀液可以是醋酸、硝酸和磷酸的混合液，并且吸收材料铌与氧化铌的叠层结构与刻蚀液的反应速率，与反射材料银与刻蚀液的反应速率相近，因此，可采用同一刻蚀设备，对吸收层材料铌与氧化铌的叠层结构和反射层材料银进行一次刻蚀工序，即可得到吸收层和反射层，进而简化了视觉屏障的制备工艺。因吸收材料铌与氧化铌的叠层结构和反射材料银在同一刻蚀工序下进行，几乎不存在银刻蚀残留问题，吸收层和反射层的线宽差异很小，进而得到图形一致的反射层和吸收层。反射层和吸收层的图形一致，可以避免因吸收层线宽大于反射层线宽导致显示设备背光利用效率较低的问题。
一种可选的实施例中，步骤202中，在反射材料的上表面继续沉积吸收材料，包括：
在反射材料的上表面继续沉积一层ITO薄膜，然后将ITO薄膜放置在还原气氛中，使ITO薄膜的表面发生还原反应，得到形成于反射材料上的吸收材料。
按照这种方式，ITO薄膜的表面发生还原反应后形成黑色材料也可作为吸收材料，与上述金属氧化物氧化钼或氧化铌相比，成本可大大降低。且这种吸收材料与反射材料银采用同一刻蚀工艺(干法刻蚀或湿法刻蚀，考虑到成本问题，优选采用低成本的湿法刻蚀)，由ITO薄膜的表面发生还原反应得到的吸收材料和反射层材料银也可采用同一刻蚀液进行刻蚀，刻蚀液可以是醋酸、硝酸和磷酸的混合液，并且由ITO薄膜的表面发生还原反应得到的吸收材料与刻蚀液的反应速率，与反射材料银与刻蚀液的反应速率相近，因此，可采用同一刻蚀设备对由ITO薄膜的表面发生还原反应得到的吸收材料和反射材料银进行一次刻蚀工序，即可得到吸收层和反射层，进而简化了视觉屏障的制备工艺。因在同一刻蚀工序下进行，几乎不存在银刻蚀残留问题，吸收层和反射层的线宽差异很小，进而得到图形一致的反射层和吸收层。反射层和吸收层的图形一致，可以避免因吸收层线宽大于反射层线宽导致显示设备背光利用效率较低的问题。
上述步骤201制备吸收材料的示意图参见图9，上述步骤202制备反射材料的示意图参见图10，上述步骤203在吸收材料表面涂光刻胶的示意图参见图11，上述步骤204进行吸收材料和反射材料一次刻蚀的示意图参见图12，除了步骤201至步骤204，还包括：去除吸收层表面的光刻胶，得到图形一致的反射层和吸收层，参照图13，其中，图9至图13中，1为基底，2为反射材料，3为吸收材料，4为光刻胶，5为显示屏，6为背光源。
本发明实施例还提供一种视觉屏障，采用上述任一方法流程制备得到，视觉屏障包括基底，位于基底上的反射层，以及叠置于反射层上的吸收层，参照图13。
本发明实施例还提供一种裸眼3D显示设备，包括显示屏和背光源，还包括采用上述步骤201至步骤204的方法流程制备得到的视觉屏障，视觉屏障设置在显示屏和背光源之间；其中，视觉屏障的吸收层靠近显示屏，视觉屏障的反射层靠近背光源，基底位于背光源与反射层之间，参照图14，其中，1为基底，2为反射材料，3为吸收材料，4为光刻胶，5为显示屏，6为背光源。
尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (7)

1.一种视觉屏障的制备方法，其特征在于，包括：
在基底的上表面沉积吸收材料，形成第一薄膜层；
在所述第一薄膜层的上表面继续沉积反射材料，形成第二薄膜层；
在所述第二薄膜层的表面铺设具有设定图形的光刻胶；
按照同一刻蚀工艺对所述第一薄膜层、所述第二薄膜层进行一次刻蚀，形成叠置的反射层和吸收层；其中，所述第一薄膜层和所述第二薄膜层的刻蚀速率相近；
所述在基底的上表面沉积吸收材料，包括：
在所述基底上沉积作为吸收材料的一金属、一金属氧化物，或者一金属与该金属的金属氧化物的叠层结构；
所述在所述第一薄膜层的上表面继续沉积反射材料，包括：
在所述吸收材料的上表面继续沉积作为反射材料的一金属或一金属叠层，所述金属叠层包括至少一种金属；
若所述吸收材料为金属氧化物；所述在基底的上表面沉积吸收材料，包括：
在惰性气体和氧气气氛中，采用物理气相沉积法在所述基底的上表面沉积所述金属氧化物，调整通入氧气的速率，从而调整所述金属氧化物中金属和氧的比例，以得到刻蚀速率与所述反射材料的刻蚀速率相近的吸收材料，所述金属包括铌；或者，
若所述吸收材料为所述金属与所述金属氧化物的叠层结构；所述在基底的上表面沉积吸收材料，包括：
先在惰性气体气氛中，采用物理气相沉积法在所述基底上沉积一层所述金属；
然后在所述惰性气体气氛中通入氧气，继续在所述金属的上表面沉积所述金属的金属氧化物，得到所述叠层结构；调整通入氧气的速率，从而调整所述叠层结构中所述金属和氧的比例，以得到刻蚀速率与所述反射材料的刻蚀速率相近的吸收材料，所述金属包括铌。
2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在基底的上表面沉积吸收材料，包括：
在所述基底的上表面沉积一层ITO薄膜，然后将所述ITO薄膜放置在还原气氛中，使所述ITO薄膜的表面发生还原反应，得到形成于所述基底上的吸收材料。
3.一种视觉屏障，采用权利要求1或2所述的方法制备得到，其特征在于，所述视觉屏障包括基底，位于所述基底上的吸收层，以及叠置于所述吸收层上的反射层。
4.一种视觉屏障的制备方法，其特征在于，包括：
在基底的上表面沉积反射材料，形成第一薄膜层；
在所述第一薄膜层的上表面继续沉积吸收材料，形成第二薄膜层；
在所述第二薄膜层的表面铺设具有设定图形的光刻胶；
按照同一刻蚀工艺对所述第一薄膜层和所述第二薄膜层进行一次刻蚀，形成叠置的吸收层和反射层；其中，所述第一薄膜层和所述第二薄膜层的刻蚀速率相近；
在基底的上表面沉积反射材料，形成第一薄膜层，包括：
在所述基底的上表面沉积作为反射材料的一金属或一金属叠层，所述金属叠层包括至少一种金属；
在所述第一薄膜层的上表面继续沉积吸收材料，形成第二薄膜层，包括：
在所述反射材料的上表面继续沉积作为吸收材料的一金属、一金属氧化物，或者一金属与该金属的金属氧化物的叠层结构；
若所述吸收材料为一金属氧化物；在所述反射材料的上表面继续沉积吸收材料，包括：
在惰性气体和氧气气氛中，采用物理气相沉积法在所述反射材料的上表面沉积所述金属氧化物，调整通入氧气的速率，从而调整所述金属氧化物中金属和氧的比例，以得到刻蚀速率与所述反射材料的刻蚀速率相近的吸收材料，所述金属包括铌；或者，
若所述吸收材料为一金属与该金属的金属氧化物的叠层结构；则在所述反射材料的上表面继续沉积吸收材料，包括：
先在惰性气体气氛中，采用物理气相沉积法在所述反射材料上沉积一层所述金属；
然后在所述惰性气体气氛中通入氧气，继续在所述金属的上表面沉积所述金属的金属氧化物，得到所述叠层结构；调整通入氧气的速率，从而调整所述叠层结构中所述金属和氧的比例，以得到刻蚀速率与所述反射材料的刻蚀速率相近的吸收材料，所述金属包括铌。
5.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，在所述反射材料的上表面继续沉积吸收材料，包括：
在所述反射材料的上表面继续沉积一层ITO薄膜，然后将所述ITO薄膜放置在还原气氛中，使所述ITO薄膜的表面发生还原反应，得到形成于所述反射材料上的吸收材料。
6.一种视觉屏障，采用权利要求4或5所述的方法制备得到，其特征在于，所述视觉屏障包括基底，位于所述基底上的反射层，以及叠置于所述反射层上的吸收层。
7.一种裸眼3D显示设备，包括显示屏和背光源，其特征在于，还包括权利要求3或6所述的视觉屏障，所述视觉屏障设置在所述显示屏和所述背光源之间；其中，所述视觉屏障的吸收层靠近所述显示屏，所述视觉屏障的反射层靠近所述背光源。
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