CN207529361U

CN207529361U - 一种电容式触摸屏

Info

Publication number: CN207529361U
Application number: CN201721802371.7U
Authority: CN
Inventors: 陈仕奇
Original assignee: TSD ELECTRONICS TECHNOLOGY Co Ltd
Current assignee: TSD ELECTRONICS TECHNOLOGY Co Ltd
Priority date: 2017-12-21
Filing date: 2017-12-21
Publication date: 2018-06-22
Anticipated expiration: 2027-12-21

Abstract

本实用新型涉及触控屏技术领域，提供一种电容式触摸屏。包括：基板；所述基板的第一面覆盖至少一层增透膜和至少一层第一消影膜；所述基板的第二面覆盖至少一层第二消影膜。通过在基板的第一面覆盖增透膜以及消影膜，其中，增透膜会起到增透的作用，消影膜起到消影的作用；即通过膜层结构实现增透与消影的效果，减小了电容式触摸屏的厚度，提高了电容式触摸屏的透光率与反射率。

Description

一种电容式触摸屏

技术领域

本实用新型涉及触摸屏技术领域，具体涉及一种电容式触摸屏。

背景技术

触摸屏是用于手机、电子书、数码相机等电子产品上的复合触摸屏，其中电容式触摸屏为最常用的一种。

电容式触摸屏是利用人体的电流感应进行工作。电容式触摸屏通常是一块四层复合玻璃屏，当用户的收集触摸在电容式触摸屏上时，由于人体电场，用户和电容式触摸屏表面形成一个耦合电容，于是手指从电容式触摸屏表面的触控点吸走一个很小的电流，这个电流从电容式触摸屏的四角上的电极中流出。流经这四个电极的电流与手指到四角的距离成正比，控制器通过对这四个电流比例的精确计算，得出触摸点的位置。

现有的双面ITO(DITO)结构电容式触摸屏通常包括：在玻璃基板两面镀上铟锡金属氧化物(Indium Tin Oxides，简称为ITO)图案的纳米铟锡金属氧化物ITO传感器；对ITO传感器起保护作用的盖板；用于粘合ITO传感器与盖板的光学双面胶；用于计算触控点并汇报给处理器的柔性电路板(FPC)；以及用于显示图像的显示屏。

目前市面上的透射式电容触摸屏上使用的DITO，其透过率为92％，反射率为9％。然而，这种DITO玻璃在需要高透光环境或需要低反射率的应用中就无法满足。为解决这一技术问题，现有技术中在DITO玻璃后面在贴合一片增透玻璃。但是，增透玻璃的贴合会增加该电容式触摸屏的厚度。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题在于克服现有技术中的电容式触摸屏的厚度较大的缺陷。

鉴于此，本实用新型提供一种电容式触摸屏，包括：

基板；

所述基板的第一面覆盖至少一层增透膜和至少一层第一消影膜；

所述基板的第二面覆盖至少一层第二消影膜。

可选地，所述基板的第一面覆盖的所述增透膜和所述第一消影膜交替层叠设置。

可选地，所述基板的第一面覆盖一层增透膜以及一层第一消影膜。

可选地，所述基板的第二面覆盖一层第二消影膜。

可选地，还包括：设置在所述第一面最外层的第一电极层，以及设置在所述第二面最外层的第二电极层。

可选地，所述第一消影膜靠近所述第一电极层设置。

可选地，所述第一电极层包括若干沿第一方向排列的第一电极阵列；所述第二电极层包括若干沿第二方向排列的第二电极阵列。

可选地，还包括封装盖板，所述第二电极层与所述封装盖板固定连接。

可选地，还包括夹设在所述第二电极层与所述封装盖板之间的光学胶层。

可选地，还包括屏体，所述第一电极层与所述屏体固定连接。

本实用新型技术方案，具有如下优点：

1.本实用新型实施例提供的电容式触摸屏，通过在基板的第一面覆盖增透膜以及消影膜，其中，增透膜会起到增透的作用，消影膜起到消影的作用；即通过膜层结构实现增透与消影的效果，减小了电容式触摸屏的厚度，提高了电容式触摸屏的透光率与反射率。

2.本实用新型实施例提供的电容式触摸屏，其中，由于第一电极层与第二电极层为膜层结构，可以采用与增透膜以及消影膜相同的镀膜装置以及工艺实现第一电极层与第二电极层的设置，制备工艺简单，易于实现。

3.本实用新型实施例提供的电容式触摸屏，通过将消影膜靠近第一电极层设置，用于消除电极以及电极缝隙的影子，提高了该电容式触摸屏的透光率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例1中电容式触摸屏的一个具体示意的结构图；

图2为本实用新型实施例1中第一电极层与第二电极层的一个具体示意的结构俯视图；

图3为本实用新型实施例1中覆盖增透膜与反射膜的基板与未覆盖膜层的基板的透过率的对比示意图；

附图标记：

10-基板；20-增透膜；30-第一消影膜；40-第二消影膜；50-第一电极；60-第二电极；70-屏体；80-封装盖板。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

本实用新型可以以许多不同的形式实施，而不应该被理解为限于在此阐述的实施例。相反，提供这些实施例，使得本公开将是彻底和完整的，并且将把本实用新型的构思充分传达给本领域技术人员，本实用新型将仅由权利要求来限定。在附图中，为了清晰起见，会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。应当理解的是，当元件例如层、区域或基板被称作“形成在”或“设置在”另一元件“上”或“层叠”时，该元件可以直接设置在所述另一元件上，或者也可以存在中间元件。相反，当元件被称作“直接形成在”或“直接设置在”另一元件上或“直接层叠”时，不存在中间元件。

此外，下面所描述的本实用新型不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。

实施例1

本实用新型实施例提供一种电容式触摸屏，如图1所示，该电容式触摸屏包括：基板10，其第一面为图1中的a面，第二面为图1中的b面；基板的第一面覆盖有一层增透膜20以及一层第一消影膜30；基板的第二面覆盖有一层第二消影膜40。

通过在基板10的第一面覆盖增透膜以及第一消影膜，其中，增透膜会起到增透的作用，第一消影膜起到消影的作用；即通过膜层结构实现增透与消影的效果，减小了电容式触摸屏的厚度，提高了电容式触摸屏的透光率与反射率。

如图1所示，在基板10的第一面覆盖有层叠设置的一层增透膜20以及一层第一消影膜30，其中，基板10可以采用透明玻璃或透明塑料制备；增透膜20可以为SiO₂层，第一消影膜可以为TiO₂层或Nb₂O₅层的其中之一。

在基板10的第二面覆盖有一层第二消影膜40，其可以为TiO2层或Nb2O5层的其中之一，即第二消影膜40可以与第一消影膜30相同，也可以不同。

此外，在基板10的第二面除了覆盖第二消影膜40之外，也可以设置其他功能层，例如增透膜。在本实施例中，基板10的第二面的最外层用于与封装盖板固定连接，不需要对增加可见光的透光率，只需要消除电极以及电极缝隙的影子即可，因此，在基板10的第二面可以只设置消影膜。

如图1所示，基板10的第一面的最外层设置有图案化的第一电极层，该第一电极层图案化为若干沿第一方向排列的第一电极50阵列；基板10的第二面最外层设置有图案化的第二电极层，该第二电极层图案化为若干沿第二方向排列的第二电极60阵列。其中，第一方向与第二方向垂直。

此外，第一电极层与第二电极层可以为ITO层或AZO层；第一电极层和第二电极层可以相同，也可以不同。

图2示出了第一电极层与第二电极层的俯视图，其中图2中的a)示出了第二电极60阵列，图2中的b)示出了第一电极50阵列。

如图1所示，第一电极层与屏体70固定连接，具体地，第一电极层通过光学胶层(图中未示出)与屏体70固定连接；第二电极层与封装盖板80固定连接；具体地，第二电极层通过光学胶层(图中未示出)与封装盖板80固定连接。

其中，屏体70可以为液晶屏，有机电致发光屏，量子点有机电致发光屏等等。

如图3所示，曲线1用于表示当电容式触摸屏的基板上涂布减反射增透膜层后，光线波长与透光率之间的对应关系；曲线2用于表示电容式触摸屏的基板为空白压花基板时，光线波长与透光率之间的对应关系。对比曲线1与曲线2可以看出，本实施例中提供的覆盖有增透膜以及反射膜的基板的光线透过率，相比较未覆盖任何膜层的基板的光线透过率具有较大的提高。因此，在覆盖有膜层的基板的基础上实现的电容式触摸屏，其整体厚度几乎无改变，同时，其光线透过率以及反射率具有较大的提高。

作为本实施例的一种可替换实施方式，在基板10的第一面设置4层、5层、6层等等的增透膜与第一反射膜，只需保证基板10的第一面覆盖有增透膜以及第一反射膜，且第一反射膜靠近第一电极层设置即可，具体膜层设置和数量与电容式触摸屏的透光率和反射率相关。例如，从基板10的第一面往下依次为：增透膜，第一反射膜，增透膜，第一反射膜；或增透膜，第一反射膜，增透膜，增透膜，第一反射膜。此外，每层膜层的厚度可以不同，使得可见光经过不同膜层的反射光产生光干涉，能够起到提高可见光的透过率，降低反射率的效果，进而提高该电容式触摸屏的透过率。

作为本实施例的另一种可替换实施方式，第一电极层以及第二电极层可以根据实际需求进行图案化，只需保证第一电极层与第二电极层在基板10上的投影具有重合的部分。

作为本实施例的另一种可替换实施方式，第一电极层与第二电极层可以为其他导电层，只需保证第一电极层和第二电极层为透明导电层即可。

作为本实施例的另一种可替换实施方式，第一电极层与屏体70，或第二电极层与封装盖板80可以通过其他方式固定连接，只需保证不会降低该电容式触摸屏的透光率即可。

实施例2

本实用新型实施例提供一种电容式触摸屏的制备方法，具体地，本实施例中将DITO镀膜工艺过程进行变化，从而使其透光率及反射率达到最高要求。即在进行第一电极层以及第二电极层镀膜(ITO镀膜)时，先进行增透镀膜，在增透镀膜层上分别镀消影膜，最后再进行ITO镀膜。其中，增透膜会起到增透的作用，消影膜起到消影的作用，ITO层起到导电的作用，整个动作在镀膜工序中完成，不需要二次加工，将传统两层结构削减至一层，并且起到两种产品的效果。

此外，ITO镀膜完成之后，在其中一个ITO膜层上固定连接封装盖板，在另一个ITO膜层上固定连接屏体，再辅助以其他相关的电路连接以及封装工艺，形成电容式触摸屏。

采用上述工艺制备的电容式触摸屏的透光率达到98％，反射率低于2％，并且电容式触摸屏的厚度无增加，产品可靠性无影响，只需要增加一次镀膜工序的成本，不需要更换加工设备。因此，该方法在成本控制、不良影响、产品结构、产品品质、产品效果都优于传统工艺。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型创造的保护范围之中。

Claims

1.一种电容式触摸屏，其特征在于，包括：

基板；

所述基板的第二面覆盖至少一层第二消影膜。

2.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述基板的第一面覆盖的所述增透膜和所述第一消影膜交替层叠设置。

3.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述基板的第一面覆盖一层增透膜以及一层第一消影膜。

4.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述基板的第二面覆盖一层第二消影膜。

5.根据权利要求1所述的电容式触摸屏，其特征在于，还包括：设置在所述第一面最外层的第一电极层，以及设置在所述第二面最外层的第二电极层。

6.根据权利要求5所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述第一消影膜靠近所述第一电极层设置。

7.根据权利要求5所述的电容式触摸屏，其特征在于，所述第一电极层包括若干沿第一方向排列的第一电极阵列；所述第二电极层包括若干沿第二方向排列的第二电极阵列。

8.根据权利要求5所述的电容式触摸屏，其特征在于，还包括封装盖板，所述第二电极层与所述封装盖板固定连接。

9.根据权利要求8所述的电容式触摸屏，其特征在于，还包括夹设在所述第二电极层与所述封装盖板之间的光学胶层。

10.根据权利要求5所述的电容式触摸屏，其特征在于，还包括屏体，所述第一电极层与所述屏体固定连接。