CN106449477A - 晶圆片的清洗烘干系统 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种晶圆片的清洗烘干系统，包括带状清洗槽、安装于所述清洗槽两侧的多根清洗管及安装于清洗槽底部的排水槽，所述清洗槽的前端安装有分输箱，清洗槽包括清洗区及烘干区，所述清洗区的两侧槽板上具有喷洗孔，所述烘干区两侧槽板上具有喷气孔，所述喷洗孔及喷气孔贯穿槽板的两侧并朝晶圆片的输送方向倾斜，所述喷洗孔与清洗管连通，所述清洗管连接清洗泵，所述喷气孔与烘干腔连通，所述烘干腔连接热风机。本发明采用带状清洗槽，对晶圆片进行移动时清洗，可缩短清洗时间，并无需二次冲洗，节省清洗操作，降低成本；并且，于清洗槽的尾端设置烘干区，晶圆片清洗完成后，直接进行烘干，整个操作流畅，效率高。

Description

晶圆片的清洗烘干系统
技术领域
本发明属于集成电路的生产设备领域，特别涉及集成电路的晶圆片用清洗设备。
背景技术
现有的半导体晶圆片的清洗设备，将一批晶圆片集中置于清洗槽中，并利用升降装置对晶圆片进行升降，通过冲洗作用，将晶圆片的表面清洗干净。这种清洗设备，虽然能实现批量清洗，但每次清洗的时间较长，需要浸泡处理，并且清洗完成后，还需要进行对晶圆片表面的残留水进行冲洗，整个清洗时间较长；并且，为防止晶圆片之间相互碰撞，还需对清洗槽中通入气体，保证清洗槽中不断产生气泡，对晶圆片进行保护。
发明内容
针对上述晶圆片清洗设备存在的问题，申请人进行研究及设计，提供一种晶圆片的清洗烘干系统，采用带状清洗槽，实现移动式清洗，缩短清洗时间，简化设备结构。
为了解决上述问题，本发明采用如下方案：
一种晶圆片的清洗烘干系统，包括带状清洗槽、安装于所述清洗槽两侧的多根清洗管及安装于清洗槽底部的排水槽，所述清洗槽的前端安装有分输箱，清洗槽包括清洗区及烘干区，所述清洗区的两侧槽板上具有喷洗孔，所述烘干区两侧槽板上具有喷气孔，所述喷洗孔及喷气孔贯穿槽板的两侧并朝晶圆片的输送方向倾斜，所述喷洗孔与清洗管连通，所述清洗管连接清洗泵，所述喷气孔与烘干腔连通，所述烘干腔连接热风机。
作为上述技术方案的进一步改进：
所述清洗管间隔布置于槽板的侧面，每根清洗管与独立的清洗泵连接，清洗管的侧面具有与所述喷洗孔连通的出水孔。
本发明的技术效果在于：
本发明采用带状清洗槽，对晶圆片进行移动时清洗，可缩短清洗时间，并无需二次冲洗，节省清洗操作，降低成本；并且，于清洗槽的尾端设置烘干区，晶圆片清洗完成后，直接进行烘干，整个操作流畅，效率高。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
图2为图1的俯视图。
图中：1、清洗槽；2、清洗管；3、排水槽；4、槽板；5、喷洗孔；6、晶圆片；7、分输箱；8、烘干腔；9、喷气孔；101、清洗区；102、烘干区。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步说明。
如图1、图2所示，本实施例的晶圆片的清洗烘干系统，包括带状清洗槽1、安装于清洗槽1两侧的多根清洗管2及安装于清洗槽1底部的排水槽3，清洗槽1的前端安装有分输箱7，清洗槽1包括清洗区101及烘干区102，清洗区101的两侧槽板4上具有喷洗孔5，烘干区102两侧槽板4上具有喷气孔9，喷洗孔5及喷气孔9贯穿槽板4的两侧并朝晶圆片6的输送方向倾斜，喷洗孔5与清洗管2连通，清洗管2连接清洗泵，喷气孔9与烘干腔8连通，烘干腔8连接热风机。
清洗管2间隔布置于槽板4的侧面，每根清洗管2与独立的清洗泵连接，清洗管2的侧面具有与喷洗孔5连通的出水孔。当所需喷洗压力不大时，可以将多个清洗管2共同连接一个清洗泵，以降低能耗。
使用时，将晶圆片6置于分输箱7中，分输箱7中具有与清洗槽1对应的、倾斜设置的输送槽，晶圆片6从该输送槽中输出至清洗槽1中，将晶圆片6置于清洗槽1中后，开启清洗泵，高压水从喷洗孔5中喷出，由于喷洗孔5倾斜设置，对晶圆片6表面清洗的同时将其向前推送，从而对晶圆片6进行移动式清洗，晶圆片6走完整个清洗槽1的清洗区101后，完成清洗操作；晶圆片6继续向前移动，经过烘干区102时，热空气吹向其表面，将其表面的水吹干，同样，喷气孔9倾斜布置，对晶圆片6向前有推送作用。
以上所举实施例为本发明的较佳实施方式，仅用来方便说明本发明，并非对本发明作任何形式上的限制，任何所属技术领域中具有通常知识者，若在不脱离本发明所提技术特征的范围内，利用本发明所揭示技术内容所作出局部改动或修饰的等效实施例，并且未脱离本发明的技术特征内容，均仍属于本发明技术特征的范围内。

Claims (2)

1.一种晶圆片的清洗烘干系统，其特征在于：包括多个平行设置的带状清洗槽(1)、安装于所述清洗槽(1)两侧的多根清洗管(2)及安装于清洗槽(1)底部的排水槽(3)，所述清洗槽(1)的前端安装有分输箱(7)，清洗槽(1)包括清洗区(101)及烘干区(102)，所述清洗区(101)的两侧槽板(4)上具有喷洗孔(5)，所述烘干区(102)两侧槽板(4)上具有喷气孔(9)，所述喷洗孔(5)及喷气孔(9)贯穿槽板(4)的两侧并朝晶圆片(6)的输送方向倾斜，所述喷洗孔(5)与清洗管(2)连通，所述清洗管(2)连接清洗泵，所述喷气孔(9)与烘干腔(8)连通，所述烘干腔(8)连接热风机。
2.根据权利要求1所述的晶圆片的清洗烘干系统，其特征在于：所述清洗管(2)间隔布置于槽板(4)的侧面，每根清洗管(2)与独立的清洗泵连接，清洗管(2)的侧面具有与所述喷洗孔(5)连通的出水孔。
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CN113566510A (zh) * 2021-09-26 2021-10-29 常州市豪迈干燥工程有限公司 一种半导体晶圆用的桨叶干燥机

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