CN106370117A - 光阻膜厚测量方法及光阻膜厚测量装置 - Google Patents

光阻膜厚测量方法及光阻膜厚测量装置 Download PDF

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刘学敏
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    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material

Abstract

本发明提供一种光阻膜厚测量方法及光阻膜厚测量装置。所述方法包括：将光阻膜厚测量装置的探针放置于彩膜基板的非显示区，并自非显示区向显示区移动，以彩膜基板中的基板为基准面测出显示区中的黑矩阵相较于基板的厚度为原始厚度；将探针按照第一、第二及第三颜色光阻的涂布方向滑过显示区的各个颜色光阻，以测出第一、第二及第三颜色光阻分别以黑矩阵为基准面的厚度为第一厚度、第二厚度及第三厚度；识别探针滑过的第一、第二及第三颜色光阻的颜色；将原始厚度加上第一厚度得出第一颜色光阻以基板为基准面的厚度，将原始厚度加上第二厚度得出第二颜色光阻以基板为基准面的厚度，将原始厚度加上第三厚度得出第三颜色光阻以基板为基准面的厚度。

Description

光阻膜厚测量方法及光阻膜厚测量装置
技术领域
本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种光阻膜厚测量方法及光阻膜厚测量装置。
背景技术
液晶显示装置(Liquid Crystal Display,LCD)作为一种常见的电子装置，由于其具有功耗低、体积小、质量轻等特点，而备受用户的青睐。彩膜基板(Color Filter,CF)是LCD的重要组成部分，CF一般通过将黑矩阵(Black Matrix,BM)、红色(Red,R)光阻材料、绿色(Green，G)光阻材料、蓝色(Blue，B)光阻材料、保护膜(OC)及间隔物(Photo Spacer,PS)涂布于基板上，经过曝光、显影和烘干后形成。R光阻材料、G光阻材料及B光阻材料经过曝光、显影及烘干后分别形成R光阻、G光阻及B光阻。R光阻、G光阻及B光阻的膜厚一般通过薄膜测量仪(Surface Profile,SP)测量得出，并反馈给涂布机(Coater)进行管控。由于高精细和超薄化是当今LCD技术发展的趋势，而超薄化要求要对CF中的R光阻、G光阻及B光阻的膜厚进行严格的控制，且R光阻、G光阻及B光阻到CF中的基板的膜厚关系到LCD在进行彩色显示的时候，显示的颜色是否满足光学需要及OC的平坦性。随着每英寸像素数量(PixelPer Inch,PPI)的提高，LCD的显示区中像素开口的减小，R光阻、G光阻及B光阻通常被设计为交叠形状。由于SP测量R光阻、G光阻及B光阻的膜厚时需要基准面进行分析，也就是说使用SP测量R光阻、G光阻及B光阻的膜厚时需要基于空白玻璃(Dummy Glass)进行计算，而LCD的显示区中没有空白(Dummy)区域，从而导致无法直接测量LCD的显示区中R光阻、G光阻及B光阻到CF中的基板的膜厚，即现有技术中无法直接测量LCD显示区中的R光阻、G光阻及B光阻到CF中的基板的高度。
发明内容
本发明提供一种光阻膜厚测量方法，所述光阻膜厚测量方法包括：
第一测量步骤：将光阻膜厚测量装置的探针放置于彩膜基板的非显示区，并自所述非显示区向彩膜基板的显示区移动，以彩膜基板中的基板为基准面测出所述显示区中的黑矩阵相较于基板的厚度为原始厚度，其中，所述非显示区与所述显示区之间设置黑矩阵；
第二测量步骤：将所述探针按照第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的涂布方向滑过所述显示区的各个颜色光阻，以所述显示区中的黑矩阵为基准面测量出第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻分别相较于所述黑矩阵的厚度，所述第一颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第一厚度，所述第二颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第二厚度、所述第三颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第三厚度，其中，所述第一颜色光阻、所述第二颜色光阻及所述第三颜色光阻分别为红色光阻、绿色光阻及蓝色光阻的任意组合，且所述第一颜色光阻、所述第二颜色光阻及所述第三颜色光阻的颜色各不相同；
颜色识别步骤：识别所述探针滑过的第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的颜色；及
计算步骤：将所述原始厚度加上所述第一厚度得出所述第一颜色光阻以所述基板为基准面的厚度，将所述原始厚度加上所述第二厚度得出所述第二颜色光阻以所述基板为基准面的厚度，将所述原始厚度加上所述第三厚度得出所述第三颜色光阻以所述基板为基准面的厚度。
本发明还提供了一种光阻膜厚测量装置，所述光阻膜厚测量装置包括：
第一测量模块，用于感测光阻膜厚测量装置的探针放置于彩膜基板的非显示区，并自所述非显示区向彩膜基板的显示区移动，以彩膜基板中的基板为基准面测出所述显示区中的黑矩阵相较于基板的厚度为原始厚度，其中，所述非显示区与所述显示区之间设置黑矩阵；
第二测量模块，用于感测所述探针按照第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的涂布方向滑过所述显示区的各个颜色光阻，以所述显示区中的黑矩阵为基准面测量出第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻分别相较于所述黑矩阵的厚度，所述第一颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第一厚度，所述第二颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第二厚度、所述第三颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第三厚度，其中，所述第一颜色光阻、所述第二颜色光阻及所述第三颜色光阻分别为红色光阻、绿色光阻及蓝色光阻的任意组合，且所述第一颜色光阻、所述第二颜色光阻及所述第三颜色光阻的颜色各不相同；
颜色识别模块，用于识别所述探针滑过的第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的颜色；及
计算模块，用于将所述原始厚度加上所述第一厚度得出所述第一颜色光阻以所述基板为基准面的厚度，将所述原始厚度加上所述第二厚度得出所述第二颜色光阻以所述基板为基准面的厚度，将所述原始厚度加上所述第三厚度得出所述第三颜色光阻以所述基板为基准面的厚度。
相较于现有技术，本发明的光阻膜厚测量方法在测量所述第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻距离所述基板的高度时，测量出黑矩阵相较于基板的厚度为原始厚度，测量出第一颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第一厚度，测量出第二颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第二厚度，测量出第三颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第三厚度，将所述原始厚度与所述第一厚度相加得到第一颜色光阻以所述基板为基准面的厚度(高度)，将原始厚度与第二厚度相加得到第二颜色光阻以所述基板为基准面的厚度，将原始厚度与第三厚度相加得到第三颜色光阻以所述基板为基准面的厚度。从而克服了现有技术中无法直接测量到第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻到彩膜基板中的基板的高度的技术缺陷。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明一较佳实施方式的光阻膜厚测量方法的流程图。
图2为本发明一较佳实施方式的彩膜基板的结构示意图。
图3为图2中沿I-I线的剖面结构示意图。
图4为本发明光阻膜厚测量方法中的第一测量步骤的测量曲线示意图。
图5为本发明光阻膜厚测量方法中的第二测量步骤的测量曲线示意图。
图6为本发明一较佳实施方式的光阻膜厚测量装置的结构示意图。
图7为本发明另一较佳实施方式的光阻膜厚测量装置的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施方式中的附图，对本发明实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施方式是本发明的一部分实施方式，而不是全部实施方式。基于本发明中的实施方式，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施方式，都应属于本发明保护的范围。
需要说明的是，在本发明实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本发明。在本发明实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。
请参阅图1，图1为本发明一较佳实施方式的光阻膜厚测量方法的流程图。所述光阻膜厚测量方法用于测量液晶显示装置中的彩膜基板中显示区中的红色光阻、绿色光阻及蓝色光阻以所述基板为基准面的厚度。即，所述光阻膜厚测量方法用于测量彩膜基板中显示区中的红色光阻、绿色光阻及蓝色光阻的远离所述基板的表面到所述基板邻近所述红色光阻、绿色光阻及蓝色光阻的表面之间的距离。所述光阻膜厚测量方法包括但不仅限于以下步骤。
步骤S110(也称为第一测量步骤)，将光阻膜厚测量装置的探针放置于彩膜基板的非显示区，并自所述非显示区向彩膜基板的显示区移动，以彩膜基板中的基板为基准面测出所述显示区中的黑矩阵相较于基板的厚度为原始厚度，其中，所述非显示区与所述显示区之间设置黑矩阵。
请一并参阅图2及图3，图2为本发明一较佳实施方式的彩膜基板的结构示意图；图3为图2中沿I-I线的剖面结构示意图。所述彩膜基板100包括显示区100a及非显示区100b。所述显示区100a用于在所述彩膜基板100所应用的液晶显示装置进行显示时根据所述液晶显示装置中的背光模组中出射的白光得到多种单色光，比如，红光，蓝光及绿光。所述非显示区100b围绕所述显示区100a设置，通常而言，所述非显示区100b及所述显示区100a形成一个“回”字。从另外一个维度上来说，所述彩膜基板100包括基板101、黑矩阵102、第一颜色光阻103、第二颜色光阻104及第三颜色光阻105。所述基板101为透明基板，比如所述基板101可以为玻璃基板或者为塑料基板等。所述黑矩阵102设置在所述基板101的一个表面上，且所述黑矩阵102设置在所述非显示区100b和所述显示区100a交界之处以及所述显示区100a内。所述第一颜色光阻103、所述第二颜色光阻104及所述第三颜色光阻105设置在所述显示区100a内，且所述第一颜色光阻103、所述第二颜色光阻104及所述第三颜色光阻105在所述显示区100a内规律排布且两个相邻的光阻之间设置黑矩阵102，且相邻的光阻覆盖所述黑矩阵102。
请参阅图4，图4为本发明光阻膜厚测量方法中的第一测量步骤的测量曲线示意图。图4中的测量曲线示意出了以彩膜基板中的基板为基准面测出所述显示区中的黑矩阵相较于基板的厚度曲线。
步骤S120(也称为第二测量步骤)，将所述探针按照第一颜色光阻103、第二颜色光阻104及第三颜色光阻105的涂布方向滑过所述显示区100a的各个颜色光阻，以所述显示区100a中的黑矩阵102为基准面测量出第一颜色光阻103、第二颜色光阻104及第三颜色光阻105分别相较于所述黑矩阵102的厚度，所述第一颜色光阻103以所述黑矩阵102为基准面的厚度为第一厚度，所述第二颜色光阻104以所述黑矩阵102为基准面的厚度为第二厚度、所述第三颜色光阻105以所述黑矩阵102为基准面的厚度为第三厚度，其中，所述第一颜色光阻103、所述第二颜色光阻104及所述第三颜色光阻105分别为红色光阻、绿色光阻及蓝色光阻的任意组合，且所述第一颜色光阻103、所述第二颜色光阻104及所述第三颜色光阻105的颜色各不相同。
请参阅图5，图5为本发明光阻膜厚测量方法中的第二测量步骤的测量曲线示意图。图5中的测量曲线示意出了第一颜色光阻103、第二颜色光阻104及第三颜色光阻105以所述黑矩阵102为基准面的厚度。
具体地，由于所述第一颜色光阻103、所述第二颜色光阻104及所述第三颜色光阻105的膜厚不同，所述探针在滑过所述第一颜色光阻103、所述第二颜色光阻104及所述第三颜色光阻105时会上下运动。在一实施方式中，所述探针和互感线圈电连接，探针的上下运动会带动互感线圈的电压变化。相应地，所述步骤S120包括：随着所述探针沿各个颜色光阻的涂布方向的滑动，感测与探针相连接的互感线圈输出的模拟电压信号，将所述模拟电压信号转换为数字信号，其中，所述数字信号指示所述探针滑过每个位置的光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度。
在本实施方式中，在所述步骤S120中，所述探针测量时每次移动的距离小于所述第一颜色光阻的宽度、第二颜色光阻的宽度及第三颜色光阻的宽度中最小的宽度。当所述光阻膜厚测量装置中的探针移动距离过大时，从测量曲线上则不容易区分出所述第一颜色光阻103、所述第二颜色光阻104及所述第三颜色光阻105，进而不容易测出所述第一颜色光阻103以所述黑矩阵102为基准面的厚度、所述第二颜色光阻104以所述黑矩阵102为基准面的厚度及所述第三颜色光阻105以所述黑矩阵102为基准面的厚度。通常而言，所述探针每次移动的距离设置为300μm。
所述步骤S120包括：将所述探针按照第一颜色光阻103、第二颜色光阻104及第三颜色光阻105的涂布方向滑过各个光阻，以得到各个颜色的光阻以所述黑矩阵102为基准面的膜厚曲线，其中，所述膜厚曲线由第一颜色光阻103、第二颜色光阻104及第三颜色光阻105膜厚曲线段按各个颜色光阻的涂布方向组成。
这里，膜厚曲线可以指示探针滑过的位置的光阻的膜厚变化情况，且所述膜厚曲线由各个颜色光阻的膜厚曲线段按照各个颜色光阻的涂布方向形成。由于探针每滑过一定的距离，光阻的颜色才会发生变化，对于一个像素单元由红色、绿色和蓝色三个子像素组成的显示屏，所述膜厚曲线由红色光阻的膜厚曲线段、绿色光阻的膜厚曲线段以及蓝色光阻的膜厚曲线段循环交替组成。在本实施方式中，所述膜厚曲线由第一颜色光阻103的膜厚曲线段、第二颜色光阻104的膜厚曲线段及第三颜色光阻105的膜厚曲线段循环交替组成。
通过以下步骤可以确定任意一种颜色光阻以所述黑矩阵102为基准面的膜厚：
步骤S121，在膜厚曲线的任意一种颜色光阻的膜厚曲线段中确定两个基准点；
步骤S122，确定所述膜厚曲线段中的第一个上升或下降的膜边；
步骤S123，根据所述膜边确定所述任意一种颜色的光阻的上表面与所述黑矩阵的上表面之间的段差的低点和高点；
步骤S124，获取所述段差的低点和高点之间的高度差，所述高度差为任意一种颜色的光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度。这里，可以将所述两个基准点中的一个基准点作为所述低点。
对于一个像素由第一颜色光阻103、第二颜色光阻104及第三颜色光阻105组成的彩膜基板100而言，在制作的过程中，一般将第一颜色光阻103、第二颜色光阻104及第三颜色光阻105按照预定顺序交替均匀地涂布在所述基板101上，每个颜色光阻涂布的面积一般相同。因此，所述探针每滑过一定距离，光阻的颜色会发生变化。
步骤S130(也称为颜色识别步骤)，识别所述探针滑过的第一颜色光阻103、第二颜色光阻104及第三颜色光阻105的颜色。
这里，可以通过各种可识别光阻颜色的方法来识别滑过的每个位置的光阻的颜色。具体地，在本实施方式中，所述步骤S130包括：通过图像传感器拍摄所述探针滑过的每个位置的光阻的图像，基于拍摄的图像识别出所述探针滑过的每个位置的光阻的颜色。所述图像传感器是可以光阻膜厚测量方法的光阻膜厚测量装置中的侧视镜头相机。具体来说，可将所述侧视镜头相机对准所述彩膜基板100之后，实时拍摄所述探针沿各个颜色光阻的涂布方向的滑动的图像，识别图像中探针所在位置的颜色，即可得到探针滑过的每个位置的光阻的颜色。如前面所述，由于所述探针每滑过一定的距离，光阻的颜色才会发生变化，也可以通过探针所处的当前位置光阻的颜色与上一位置的颜色进行对比来确定所述探针所处的当前位置的光阻颜色，这样可以减小数据的处理量。
步骤S140(也称为计算步骤)，将所述原始厚度加上所述第一厚度得出所述第一颜色光阻103以所述基板101为基准面的厚度，将所述原始厚度加上所述第二厚度得出所述第二颜色光阻104以所述基板101为基准面的厚度，将所述原始厚度加上所述第三厚度得出所述第三颜色光阻105以所述基板101为基准面的厚度。
相较于现有技术，本发明的光阻膜厚测量方法在测量所述第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻距离所述基板的高度时，测量出黑矩阵相较于基板的厚度为原始厚度，测量出第一颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第一厚度，测量出第二颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第二厚度，测量出第三颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第三厚度，将所述原始厚度与所述第一厚度相加得到第一颜色光阻以所述基板为基准面的厚度(高度)，将原始厚度与第二厚度相加得到第二颜色光阻以所述基板为基准面的厚度，将原始厚度与第三厚度相加得到第三颜色光阻以所述基板为基准面的厚度。从而克服了现有技术中无法直接测量到第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻到彩膜基板中的基板的高度的技术缺陷。
下面结合本发明的光阻膜厚测量方法对本发明的光阻膜厚测量装置进行介绍。请参阅图6，图6为本发明一较佳实施方式的光阻膜厚测量装置的结构示意图。所述光阻膜厚测量装置300包括探针310、图像传感器320、第一测量模块330、第二测量模块340、颜色识别模块350及计算模块360。各个模块的功能详细介绍如下。
所述探针310用于探测所述黑矩阵102以所述基板101为基准面的厚度，以及探测所述第一颜色光阻103、所述第二颜色光阻104及所述第三颜色光阻105分别以所述黑矩阵102为基准面的厚度。
所述图像传感器320用于拍摄所述探针310滑过的每个位置的光阻的图像。在一实施方式中，所述图像传感器320可以是侧视镜头相机，所述侧视镜头相机可以拍摄所述探针310沿各个颜色光阻的涂布方向的滑动的图像。
所述第一测量模块330，用于感测所述光阻膜厚测量装置300的探针310放置于彩膜基板100的非显示区100b，并自所述非显示区100b向彩膜基板100的显示区100a移动，以彩膜基板100中的基板101为基准面测出所述显示区100a中的黑矩阵102相较于基板101的厚度为原始厚度，其中，所述非显示区100b与所述显示区100a之间设置黑矩阵102。
所述第二测量模块340，用于感测所述探针310按照第一颜色光阻103、第二颜色光阻104及第三颜色光阻105的涂布方向滑过所述显示区100a的各个颜色光阻，以所述显示区100a中的黑矩阵102为基准面测量出第一颜色光阻103、第二颜色光阻104及第三颜色光阻105分别相较于所述黑矩阵102的厚度，所述第一颜色光阻103以所述黑矩阵102为基准面的厚度为第一厚度，所述第二颜色光阻104以所述黑矩阵102为基准面的厚度为第二厚度、所述第三颜色光阻105以所述黑矩阵102为基准面的厚度为第三厚度，其中，所述第一颜色光阻103、所述第二颜色光阻104及所述第三颜色光阻105分别为红色光阻、绿色光阻及蓝色光阻的任意组合，且所述第一颜色光阻103、所述第二颜色光阻104及所述第三颜色光阻105的颜色各不相同。
在本实施中，所述光阻膜厚测量装置300还包括互感线圈370。所述第二测量模块340用于随着所述探针310沿各个颜色光阻的涂布方向的滑动，感测与探针310相连接的互感线圈370输出的模拟电压信号，将所述模拟电压信号转换为数字信号，其中，所述数字信号指示所述探针滑过每个位置的光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度。
所述第二测量模块340用于感测所述探针310按照第一颜色光阻103、第二颜色光阻104及第三颜色光阻105的涂布方向滑过各个光阻，以得到各个颜色的光阻以所述黑矩阵102为基准面的膜厚曲线，其中，所述膜厚曲线由第一颜色光阻103、第二颜色光阻104及第三颜色光阻105膜厚曲线段按各个颜色光阻的涂布方向组成。
在本实施方式中，所述第二测量模块340包括基准点确定子模块341、膜边确定子模块342、高低点确定子模块343及膜厚确定子模块344。各个子模块的功能介绍如下。
所述基准点确定子模块341，用于在膜厚曲线的任意一种颜色光阻的膜厚曲线段中确定两个基准点；
所述膜边确定子模块342，用于确定所述膜厚曲线段中的第一个上升或下降的膜边；
所述高低点确定子模块343，用于根据所述膜边确定所述任意一种颜色的光阻的上表面与所述黑矩阵102的上表面之间的段差的低点和高点；
所述膜厚确定子模块344，用于获取所述段差的低点和高点之间的高度差，所述高度差为任意一种颜色的光阻以所述黑矩阵102为基准面的厚度。
所述颜色识别模块350，用于识别所述探针滑过的第一颜色光阻103、第二颜色光阻104及第三颜色光阻105的颜色。
具体地，所述颜色识别模块350用于开启所述光阻膜厚测量装置300中的图像传感器320，通过图像传感器320拍摄所述探针310滑过的每个位置的光阻的图像，基于拍摄的图像识别出所述探针310滑过的每个位置的光阻的颜色。
所述计算模块360，用于将所述原始厚度加上所述第一厚度得出所述第一颜色光阻103以所述基板101为基准面的厚度，将所述原始厚度加上所述第二厚度得出所述第二颜色光阻104以所述基板101为基准面的厚度，将所述原始厚度加上所述第三厚度得出所述第三颜色光阻105以所述基板101为基准面的厚度。
优选地，所述探针310测量时每次移动的距离小于所述第一颜色光阻103的宽度、第二颜色光阻104的宽度及第三颜色光阻105的宽度中最小的宽度。
请参阅图7，图7为本发明另一较佳实施方式的光阻膜厚测量装置的结构示意图。所述光阻膜厚测量装置70可以包括：探针70a，互感线圈70b及图像传感器70c，至少一个处理器701，例如中央处理器(central processing unit,CPU)，至少一个网络接口704，用户接口703，存储器705，至少一个通信总线702以及显示屏706。其中，通信总线702用于实现这些组件之间的连接通信。其中，用户接口703可以包括显示屏(Display)706，可选用户接口703还可以包括标准的有线接口、无线接口。通信接口704可选的可以包括标准的有线接口(如数据线接口、网线接口等)、无线接口(如WI-FI接口、蓝牙接口、近场通讯接口)。存储器705可以是高速随机存取存储器(random access memory，RAM)，也可以是非不稳定的存储器(non-volatile memory)，例如至少一个磁盘存储器。存储器705可选的还可以是至少一个位于远离前述处理器701的存储装置。如图6所示，作为一种计算机存储介质的存储器705中可以包括操作系统、网络通信模块、用户接口模块以及光阻膜厚测量程序。
在图7所示的光阻膜厚测量装置70中，处理器701可以用于调用存储器705中存储的光阻膜厚测量的程序，并执行以下操作：
将光阻膜厚测量装置的探针放置于彩膜基板的非显示区，并自所述非显示区向彩膜基板的显示区移动，以彩膜基板中的基板为基准面测出所述显示区中的黑矩阵相较于基板的厚度为原始厚度，其中，所述非显示区与所述显示区之间设置黑矩阵；
将所述探针按照第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的涂布方向滑过所述显示区的各个颜色光阻，以所述显示区中的黑矩阵为基准面测量出第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻分别相较于所述黑矩阵的厚度，所述第一颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第一厚度，所述第二颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第二厚度、所述第三颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第三厚度，其中，所述第一颜色光阻、所述第二颜色光阻及所述第三颜色光阻分别为红色光阻、绿色光阻及蓝色光阻的任意组合，且所述第一颜色光阻、所述第二颜色光阻及所述第三颜色光阻的颜色各不相同；
识别所述探针滑过的第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的颜色；及
将所述原始厚度加上所述第一厚度得出所述第一颜色光阻以所述基板为基准面的厚度，将所述原始厚度加上所述第二厚度得出所述第二颜色光阻以所述基板为基准面的厚度，将所述原始厚度加上所述第三厚度得出所述第三颜色光阻以所述基板为基准面的厚度。
当处理器701可以调用存储器705中存储的光阻膜厚测量的程序，执行“将所述探针按照第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的涂布方向滑过所述显示区的各个颜色光阻，以所述显示区中的黑矩阵为基准面测量出第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻分别相较于所述黑矩阵的厚度，所述第一颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第一厚度，所述第二颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第二厚度、所述第三颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第三厚度，其中，所述第一颜色光阻、所述第二颜色光阻及所述第三颜色光阻分别为红色光阻、绿色光阻及蓝色光阻的任意组合，且所述第一颜色光阻、所述第二颜色光阻及所述第三颜色光阻的颜色各不相同”操作时，处理器701可以调用存储器705中存储的光阻膜厚测量的程序以执行：
随着所述探针沿各个颜色光阻的涂布方向的滑动，感测与探针相连接的互感线圈输出的模拟电压信号，将所述模拟电压信号转换为数字信号，其中，所述数字信号指示所述探针滑过每个位置的光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度。
优选地，所述探针测量时每次移动的距离小于所述第一颜色光阻的宽度、第二颜色光阻的宽度及第三颜色光阻的宽度中最小的宽度。
当处理器701可以调用存储器705中存储的光阻膜厚测量的程序，执行“将所述探针按照第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的涂布方向滑过所述显示区的各个颜色光阻，以所述显示区中的黑矩阵为基准面测量出第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻分别相较于所述黑矩阵的厚度，所述第一颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第一厚度，所述第二颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第二厚度、所述第三颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第三厚度，其中，所述第一颜色光阻、所述第二颜色光阻及所述第三颜色光阻分别为红色光阻、绿色光阻及蓝色光阻的任意组合，且所述第一颜色光阻、所述第二颜色光阻及所述第三颜色光阻的颜色各不相同”操作时，处理器701可以调用存储器705中存储的光阻膜厚测量的程序以执行：
将所述探针按照第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的涂布方向滑过各个光阻，以得到各个颜色的光阻以所述黑矩阵为基准面的膜厚曲线，其中，所述膜厚曲线由第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻膜厚曲线段按各个颜色光阻的涂布方向组成。
确定任意一种颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的膜厚时，处理器701可以调用存储器705中存储的光阻膜厚测量的程序以执行：
在膜厚曲线的任意一种颜色光阻的膜厚曲线段中确定两个基准点；
确定所述膜厚曲线段中的第一个上升或下降的膜边；
根据所述膜边确定所述任意一种颜色的光阻的上表面与所述黑矩阵的上表面之间的段差的低点和高点；
获取所述段差的低点和高点之间的高度差，所述高度差为任意一种颜色的光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度。
当处理器701可以调用存储器705中存储的光阻膜厚测量的程序，执行“识别所述探针滑过的第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的颜色”时，处理器701可以调用存储器705中存储的光阻膜厚测量的程序以执行：
通过图像传感器拍摄所述探针滑过的每个位置的光阻的图像，基于拍摄的图像识别出所述探针滑过的每个位置的光阻的颜色。
本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例方法中的全部或部分流程，是可以通过计算机程序来指令相关的硬件来完成，光阻膜厚测量的程序可存储于一计算机可读取存储介质中，该程序在执行时，可包括如上述各方法的实施例的流程。其中，的存储介质可为磁碟、光盘、只读存储记忆体(Read-Only Memory，ROM)或随机存储记忆体(RandomAccess Memory，RAM)等。
以上所揭露的仅为本发明一种或多种较佳实施例而已，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (10)

1.一种光阻膜厚测量方法，其特征在于，所述光阻膜厚测量方法包括：
第一测量步骤：将光阻膜厚测量装置的探针放置于彩膜基板的非显示区，并自所述非显示区向彩膜基板的显示区移动，以彩膜基板中的基板为基准面测出所述显示区中的黑矩阵相较于基板的厚度为原始厚度，其中，所述非显示区与所述显示区之间设置黑矩阵；
第二测量步骤：将所述探针按照第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的涂布方向滑过所述显示区的各个颜色光阻，以所述显示区中的黑矩阵为基准面测量出第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻分别相较于所述黑矩阵的厚度，所述第一颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第一厚度，所述第二颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第二厚度、所述第三颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第三厚度，其中，所述第一颜色光阻、所述第二颜色光阻及所述第三颜色光阻分别为红色光阻、绿色光阻及蓝色光阻的任意组合，且所述第一颜色光阻、所述第二颜色光阻及所述第三颜色光阻的颜色各不相同；
颜色识别步骤：识别所述探针滑过的第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的颜色；及
计算步骤：将所述原始厚度加上所述第一厚度得出所述第一颜色光阻以所述基板为基准面的厚度，将所述原始厚度加上所述第二厚度得出所述第二颜色光阻以所述基板为基准面的厚度，将所述原始厚度加上所述第三厚度得出所述第三颜色光阻以所述基板为基准面的厚度。
2.如权利要求1所述的光阻膜厚测量方法，其特征在于，所述第二测量步骤包括：随着所述探针沿各个颜色光阻的涂布方向的滑动，感测与探针相连接的互感线圈输出的模拟电压信号，将所述模拟电压信号转换为数字信号，其中，所述数字信号指示所述探针滑过每个位置的光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度。
3.如权利要求1所述的光阻膜厚测量方法，其特征在于，所述颜色识别步骤包括：通过图像传感器拍摄所述探针滑过的每个位置的光阻的图像，基于拍摄的图像识别出所述探针滑过的每个位置的光阻的颜色。
4.如权利要求1所述的光阻膜厚测量方法，其特征在于，在所述第二测量步骤中，所述探针测量时每次移动的距离小于所述第一颜色光阻的宽度、第二颜色光阻的宽度及第三颜色光阻的宽度中最小的宽度。
5.如权利要求1所述的光阻膜厚测量方法，其特征在于，在所述第二测量步骤中，将所述探针按照第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的涂布方向滑过各个光阻，以得到各个颜色的光阻以所述黑矩阵为基准面的膜厚曲线，其中，所述膜厚曲线由第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻膜厚曲线段按各个颜色光阻的涂布方向组成；
通过以下步骤确定任意一种颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的膜厚：
在膜厚曲线的任意一种颜色光阻的膜厚曲线段中确定两个基准点；
确定所述膜厚曲线段中的第一个上升或下降的膜边；
根据所述膜边确定所述任意一种颜色的光阻的上表面与所述黑矩阵的上表面之间的段差的低点和高点；
获取所述段差的低点和高点之间的高度差，所述高度差为任意一种颜色的光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度。
6.一种光阻膜厚测量装置，其特征在于，所述光阻膜厚测量装置包括：
第一测量模块，用于感测光阻膜厚测量装置的探针放置于彩膜基板的非显示区，并自所述非显示区向彩膜基板的显示区移动，以彩膜基板中的基板为基准面测出所述显示区中的黑矩阵相较于基板的厚度为原始厚度，其中，所述非显示区与所述显示区之间设置黑矩阵；
第二测量模块，用于感测所述探针按照第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的涂布方向滑过所述显示区的各个颜色光阻，以所述显示区中的黑矩阵为基准面测量出第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻分别相较于所述黑矩阵的厚度，所述第一颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第一厚度，所述第二颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第二厚度、所述第三颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第三厚度，其中，所述第一颜色光阻、所述第二颜色光阻及所述第三颜色光阻分别为红色光阻、绿色光阻及蓝色光阻的任意组合，且所述第一颜色光阻、所述第二颜色光阻及所述第三颜色光阻的颜色各不相同；
颜色识别模块，用于识别所述探针滑过的第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的颜色；及
计算模块，用于将所述原始厚度加上所述第一厚度得出所述第一颜色光阻以所述基板为基准面的厚度，将所述原始厚度加上所述第二厚度得出所述第二颜色光阻以所述基板为基准面的厚度，将所述原始厚度加上所述第三厚度得出所述第三颜色光阻以所述基板为基准面的厚度。
7.如权利要求6所述的光阻膜厚测量装置，其特征在于，所述第二测量模块用于随着所述探针沿各个颜色光阻的涂布方向的滑动，感测与探针相连接的互感线圈输出的模拟电压信号，将所述模拟电压信号转换为数字信号，其中，所述数字信号指示所述探针滑过每个位置的光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度。
8.如权利要求6所述的光阻膜厚测量装置，其特征在于，所述颜色识别模块开启所述光阻膜厚测量装置中的图像传感器，通过图像传感器拍摄所述探针滑过的每个位置的光阻的图像，基于拍摄的图像识别出所述探针滑过的每个位置的光阻的颜色。
9.如权利要求6所述的光阻膜厚测量装置，其特征在于，所述探针测量时每次移动的距离小于所述第一颜色光阻的宽度、第二颜色光阻的宽度及第三颜色光阻的宽度中最小的宽度。
10.如权利要求6所述的光阻膜厚测量装置，其特征在于，所述第二测量模块用于感测所述探针按照第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的涂布方向滑过各个光阻，以得到各个颜色的光阻以所述黑矩阵为基准面的膜厚曲线，其中，所述膜厚曲线由第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻膜厚曲线段按各个颜色光阻的涂布方向组成；
且所述第二测量模块包括：
基准点确定子模块，用于在膜厚曲线的任意一种颜色光阻的膜厚曲线段中确定两个基准点；
膜边确定子模块，用于确定所述膜厚曲线段中的第一个上升或下降的膜边；
高低点确定子模块，用于根据所述膜边确定所述任意一种颜色的光阻的上表面与所述黑矩阵的上表面之间的段差的低点和高点；
膜厚确定子模块，用于获取所述段差的低点和高点之间的高度差，所述高度差为任意一种颜色的光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度。
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