CN106252376B - 显示设备及制造显示设备的方法 - Google Patents
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Abstract
公开了显示设备及制造显示设备的方法。显示设备具有第一区域和第二区域,显示设备包括基底、在基底上的显示部、在显示部上并对应于第一区域的第一基层、以第一浓度处于第一基层的内部并具有彩色的颜色的多个第一光学功能粒子、在显示部上并对应于第二区域的第二基层、以及以比第一浓度高的第二浓度处于第二基层的内部并具有彩色的颜色的多个第二光学功能粒子。
Description
相关申请的交叉引用
本申请要求于2015年6月11日提交至韩国知识产权局的第10-2015-0082566号韩国专利申请的优先权和权益,该韩国专利申请的公开内容通过引用整体并入本文。
技术领域
一个或多个示例性实施方式涉及显示设备及制造显示设备的方法。
背景技术
随着以信息为导向的技术的发展,增加了可用作用户与信息之间的媒介的显示设备的市场。相应地,增加了平板显示设备,诸如液晶显示器(LCD)、有机发光二极管(OLED)或者等离子体显示面板(PDP)等的使用。
为了用户方便,可改善显示设备的图像质量特性。同时,由于近来在各种环境下和在各种条件下对显示设备的使用,以及由于显示设备的制造过程特性,导致对显示设备的图像质量的改善受到限制。
发明内容
一个或多个示例性实施方式包括显示设备及制造显示设备的方法。
根据一个或多个示例性实施方式,显示设备具有第一区域和第二区域,显示设备包括基底、在基底上的显示部、在显示部上并对应于第一区域的第一基层、以第一浓度处于第一基层的内部并具有彩色的颜色的多个第一光学功能粒子、在显示部上并对应于第二区域的第二基层、以及以比第一浓度高的第二浓度处于第二基层的内部并具有彩色的颜色的多个第二光学功能粒子。
第二区域可对应于弯曲区域。
第二区域的上表面可与第一区域的上表面的延长线隔开。
第一区域的上表面的至少一部分可以是平坦的。
第二区域的上表面的至少一部分可以是倾斜的或弯曲的。
第二区域可接触第一区域。
第二区域可以处于第一区域的两侧,且第一区域位于第二区域之间。
第一基层和第二基层中的至少一个可包括绝缘材料。
第一基层和第二基层可彼此一体形成并且可包括相同的材料。
第一光学功能粒子或者第二光学功能粒子可包括彩色材料。
第一光学功能粒子或者第二光学功能粒子可包括颜料。
显示设备可进一步包括与第一基层和第二基层中的至少一个邻接的光反射减少构件。
第一基层或者第二基层可覆盖光反射减少构件。
光反射减少构件可包括黑矩阵形成材料。
光反射减少构件可以构图为彼此隔开的多个形状,并且显示部可配置为生成经由光反射减少构件的多个形状之间的空间发射的光。
显示设备可进一步包括第一绝缘层,第一绝缘层位于显示部与第一基层和第二基层中的至少一个之间。
显示设备可进一步包括位于第一基层和第二基层中的至少一个的上部处的第二绝缘层。
基底可具有柔性。
显示部可包括第一电极、第二电极以及中间层,中间层在第一电极和第二电极之间包括发射层。
显示设备可进一步包括覆盖层,覆盖层位于显示部与第一基层和第二基层中的至少一个之间。
显示设备可进一步包括保护层,保护层位于覆盖层与第一基层和第二基层中的至少一个之间。
根据示例性实施方式的显示设备可改善图像质量特性。
此外,根据示例性实施方式的显示设备可具有减小的厚度。
当然,除了来源于上述内容之外,示例性实施方式的效果还可来源于以下参照附图所描述的内容。
附图说明
通过下面结合附图对示例性实施方式的描述,上述和/或其它方面将变得显而易见且更易于理解,在附图中:
图1是示出根据示例性实施方式的显示设备的一部分的剖视图;
图2是示出图1的区域A的示意性放大剖视图;
图3是示出根据另一示例性实施方式的显示设备的一部分的剖视图;
图4是示出根据另一示例性实施方式的显示设备的剖视图;
图5是示出根据另一示例性实施方式的显示设备的剖视图;
图6是示出根据另一示例性实施方式的显示设备的剖视图;
图7是示出根据另一示例性实施方式的显示设备的剖视图;
图8是示出根据另一示例性实施方式的显示设备的剖视图;
图9是示出根据另一示例性实施方式的显示设备的剖视图;
图10是示出根据另一示例性实施方式的显示设备的剖视图;
图11是示出根据另一示例性实施方式的显示设备的剖视图;
图12是示出根据另一示例性实施方式的显示设备的立体图;以及
图13是沿图12的线XIII-XIII截取的剖视图。
具体实施方式
通过参照下面对实施方式的详细描述和附图,可以更易于理解发明构思的特征以及实现发明构思的方法。然而,发明构思可以以多种不同的形式实施并且不应被解释为局限于本文所阐述的实施方式。在下文中,将参照附图更详细地描述示例性实施方式,其中贯穿全文,相同的参考数字指示相同的元件。然而,本发明可以以各种不同的形式实施并且不应被解释为仅限于本文所阐明的实施方式。相反,这些实施方式作为示例被提供以使本公开将是彻底的和完全的,并将本发明的诸多方面和特征充分地传达给本领域技术人员。相应地,可能没有描述对于具有本领域的普通技能的人员完全理解本发明的诸多方面和特征来说不是必需的过程、元件和技术。除非另外指出,否则贯穿附图和所撰写的说明书,相同的参考数字表示相同的元件,并因此,将不会重复其描述。在附图中,为了清楚起见,可以夸大元件、层以及区域的相对尺寸。
将理解的是,尽管术语“第一”、“第二”、“第三”等可以在本文中用于描述多个元件、组件、区域、层和/或段,但是这些元件、组件、区域、层和/或段不应受这些术语限制。这些术语用于将一个元件、组件、区域、层或段与另一元件、组件、区域、层或段区分开。因此,在不背离本发明的精神和范围的情况下,以下描述的第一元件、组件、区域、层或段可被称为第二元件、组件、区域、层或段。
空间上的相对术语,诸如“在...之下”、“在…下方”、“下部”、“在...下面”、“在…上方”、“上部”等,可以是为了便于说明而在本文中用于描述如附图中所示出的一个元件或特征与另外的元件或特征的关系。将理解的是,空间上的相对术语意图除了包含附图中描绘的方向之外还包含在使用时或在操作时设备的不同方向。例如,如果将图中的设备翻过来,则描述为在其它元件或特征“下方”或“之下”或“下面”的元件随后将被定向为在其它元件或特征“上方”。因此,示例性术语“在…下方”和“在...下面”可包含在…上方和在…下方这两个方向。设备可以其它方式定向(例如,旋转90度或在其它方向)并且应相应地解释本文中使用的空间上的相对描述词。
将理解的是,当元件或层被称为在另一元件或层“上”、“连接至”或者“耦接至”另一元件或层时,该元件或层可以直接在另一元件或层上,直接连接至或者直接耦接至另一元件或层,或者可以存在一个或多个介于中间的元件或层。此外,还将理解的是,当元件或层被称为在两个元件或层“之间”时,该元件或层可以是这两个元件或层之间的唯一元件或层,或者也可存在一个或多个介于中间的元件或层。
本文中使用的术语仅仅是出于描述具体实施方式的目的,并且不意图成为本发明的限制。除非上下文另外清楚地指示,否则如本文中使用的,单数形式“一个(a)”、“一个(an)”以及“该(the)”也意图包括复数形式。将进一步理解的是,当在本说明书中使用时,术语“包括(comprises)”、“包括(comprising)”、“包括(includes)”和“包括(including)”指明叙述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件的存在,但是不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组的存在或添加。如本文中使用的,术语“和/或”包括相关所列项中的一个或多个的任意和所有组合。当诸如“...中的至少一个”的表述在一列元件之后时,该表述修饰整列元件而非修饰该列中的单独的元件。
如本文中使用的,术语“大体上”、“大约”以及类似术语用作近似的术语而非用作程度的术语,并且意图说明测量的或计算的值的固有偏差,这是可由本领域普通技术人员认识到的。此外,当描述本发明的实施方式时,“可以”的使用指的是“本发明的一个或多个实施方式”。如本文中使用的,术语“使用(use)”、“使用(using)”和“使用(used)”可被认为是分别与术语“利用(utilize)”、“利用(utilizing)”和“利用(utilized)”同义。此外,术语“示例性的”意图指示示例或图例。
根据本文描述的本发明的实施方式的电子设备或电设备和/或任何其它相关设备或组件可利用任何适当的硬件、固件(例如,专用集成电路)、软件、或者软件、固件和硬件的组合实现。例如,这些设备的各种组件可以在一个集成电路(IC)芯片上或在单独的IC芯片上。此外,这些设备的各种组件可在柔性印刷电路薄膜、带式载体封装(TCP)、印刷电路板(PCB)上实现,或者在一个基板上实现。此外,这些设备的各种组件可以是进程或线程,该进程或线程在一个或多个计算设备中的一个或多个处理器上运行、执行计算机程序指令、以及与用于执行本文描述的各种功能的其它系统组件交互。计算机程序指令存储在可以使用标准存储设备在计算设备中实现的存储器,诸如例如随机存取存储器(RAM)中。计算机程序指令也可存储在其它非暂时性计算机可读介质中,诸如例如CD-ROM、闪存驱动器等。此外,本领域技术人员应认识到的是,在不背离本发明的示例性实施方式的精神和范围的情况下,多种计算设备的功能可结合或集成到单个计算设备中,或者特定计算设备的功能可分布在一个或多个其它计算设备上。
除非另有限定,否则本文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属的领域中的普通技术人员通常所理解的含义相同的含义。将进一步理解的是,术语诸如在常用词典中限定的术语,应解释为具有与它们在相关领域的上下文和/或本说明书中的含义一致的含义,并且除非在本文中明确如此限定,否则不应以理想化的或过于正式的意义解释这些术语。
当某一实施方式可不同地实现时,处理顺序可以执行为与所描述的顺序不同。例如,两个连续描述的过程可以大体上同时执行或以与所描述的顺序相反的顺序执行。
图1是示出根据示例性实施方式的显示设备1000的一部分的剖视图,并且图2是示出图1的区域A的示意性放大剖视图。
如图1所示,根据本实施方式的显示设备1000可包括第一区域F,在第一区域F中生成用户可识别的可见光,并且根据本实施方式的显示设备1000还可包括不与第一区域F重叠的第二区域B。此外,根据本实施方式的显示设备1000可包括基底100、显示部200、第一基层410、第一光学功能粒子4100、第二基层430以及第二光学功能粒子4300。
基底100可包括各种材料。例如,基底100可包括玻璃材料和/或其它绝缘材料,和/或可包括金属薄膜。在另一示例性实施方式中,基底100可包括柔性材料。例如,基底100可包括有机材料。在另一示例性实施方式中,基底100可包括聚酰亚胺、硅基聚合物、聚氨酯、聚氨酯丙烯酸酯、丙烯酸酯聚合物和/或丙烯酸酯三元共聚物中的至少一个,并且硅基聚合物可包括例如聚二甲硅氧烷(PDMS)、六甲基二硅醚(HMDSO)等。
根据本实施方式的显示设备1000通过使基底100形成为柔性的而可允许基底100二维地被拉长或伸展。在另一示例性实施方式中,基底100可包括具有0.4或更大的泊松比的材料。泊松比指的是一个比值,当在与第一方向相交的第二方向上延伸的一侧的长度拉伸和延长/伸展时,在第一方向上延伸的另一侧的长度按照该比值减小。通过使用具有0.4或更大的泊松比的材料形成基底100,也就是说,通过允许基底100具有容易拉长的特性,改善了基底100的柔性,并且基底100可具有弯曲区域。相应地,本实施方式的显示设备1000可包括弯曲区域。
尽管未示出,但是基底100的下部可具有与上部类似的形状。也就是说,基底100的下部可具有对应于其上部的形状。在另一实施方式中,基底100的下部可与基底100的上部不同。例如,基底100的下部可具有平坦表面。
显示部200在基底100上,并且配置为生成用户可识别的可见光。显示部200可包括各种设备,诸如例如有机发光设备(OLED)、液晶显示设备等。在根据本实施方式的显示设备1000中,显示部200具有OLED。
如图2所示,OLED可包括第一电极281、包括有机发射层的中间层283、以及第二电极285。分别从OLED的第一电极281和第二电极285注入的空穴和电子可在中间层283的有机发射层中复合以发光。
第一电极281和第二电极285可包括各种导电材料。在另一示例性实施方式中,第一电极281和/或第二电极285可包括光透射材料或反射材料。光透射材料可包括ITO、IZO或In2O3,并且反射材料可包括Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr和/或它们的混合物等。
中间层283可以形成在第一电极281和第二电极285之间,并可包括有机发射层。在另一示例性实施方式中,中间层283可包括有机发射层,并且可附加地包括空穴注入层(HIL)、空穴传输层、电子传输层和/或电子注入层。然而,本实施方式不限于此,并且中间层283可包括有机发射层和各种其它功能层。
第一基层410和第二基层430在显示部200上。第一光学功能粒子4100和第二光学功能粒子4300分别设置在第一基层410和第二基层430的内部。
一个或多个层(诸如例如绝缘层或导电层)可以在显示部200与第一基层410之间,或者可以在显示部200与第二基层430之间。
第一基层410可以在对应于第一区域F的位置处,并且第二基层430可以在对应于第二区域B的位置处。第一基层410可包括各种材料,诸如例如绝缘材料。在其它示例性实施方式中,第一基层410可包括有机材料,或者可具有能够通过喷墨过程形成的流动性。
第二基层430可包括各种材料,诸如例如绝缘材料。在其它示例性实施方式中,第二基层430可包括有机材料,或者可具有能够通过喷墨过程形成的流动性。
在另一示例性实施方式中,第一基层410或第二基层430可包括聚丙烯酸酯树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚苯醚树脂、聚苯硫醚树脂和/或苯并环丁烯(BCB)。在其它示例性实施方式中,第一基层410和第二基层430可包括相同的材料,和/或可彼此一体形成。
第一光学功能粒子4100位于第一基层410的内部,设置为多个,并且具有彩色。第一光学功能粒子4100的彩色可多样地确定。例如,第一光学功能粒子4100可具有可对应于滤色器的颜色的红色、绿色和蓝色中的一个。在另一示例性实施方式中,第一光学功能粒子4100中的一个可具有与第一光学功能粒子4100中的另一个的颜色不同的颜色。
第二光学功能粒子4300位于第二基层430的内部,设置为多个,并且具有彩色。第二光学功能粒子4300的彩色可多样地确定。例如,第二光学功能粒子4300可具有可对应于滤色器的颜色的红色、绿色和蓝色中的一个。在另一示例性实施方式中,第二光学功能粒子4300中的一个可具有与第二光学功能粒子4300中的另一个的颜色不同的颜色。
在另一示例性实施方式中,第一光学功能粒子4100和第二光学功能粒子4300可具有相同的颜色。第一光学功能粒子4100或第二光学功能粒子4300可包括各种材料,并且可包括滤色器的彩色材料(例如,对应于滤色器的颜色的彩色材料)。在另一示例性实施方式中,第一光学功能粒子4100或者第二光学功能粒子4300可包括颜料。在另一示例性实施方式中,第一光学功能粒子4100和/或第二光学功能粒子4300可包括具有大约25nm至大约40nm的尺寸的颜料。
第一光学功能粒子4100和第二光学功能粒子4300可以以不同的浓度分别包括在第一基层410和第二基层430中。多个第一光学功能粒子4100可以为第一浓度,并且多个第二光学功能粒子4300可以为可比第一浓度高的第二浓度。
在另一示例性实施方式中,第一光学功能粒子4100和第一基层410可通过使用喷墨过程形成,并且第二光学功能粒子4300和第二基层430可通过使用喷墨过程形成。例如,其中第一基层410和第一光学功能粒子4100混合的材料可以通过喷墨过程而在显示部200上,并且第二光学功能粒子4300和第二基层430可以通过相同的过程形成。通过使用喷墨过程可以调节在第一基层410内部的第一光学功能粒子4100的浓度和在第二基层430内部的第二光学功能粒子4300的浓度。也就是说,可以调节在喷墨过程期间第一光学功能粒子4100和第二光学功能粒子4300的尺寸、滴量和块头。因此,根据本实施方式的显示设备1000可通过在喷墨过程中改变用于每个喷墨头的处理配方来调节对于每个位置的、第一光学功能粒子4100和第二光学功能粒子4300的尺寸和/或浓度。
根据本实施方式的显示设备1000可通过第一光学功能粒子4100的使用和第二光学功能粒子4300的使用来改善图像质量。例如,可以减少入射的外界光的反射,并且可以改善从显示部200生成的可见光的亮度。也就是说,通过根据第一区域F和第二区域B的特性改变第一光学功能粒子4100的第一浓度和第二光学功能粒子4300的第二浓度,显示设备1000可以具有不同的光学效果。
此外,通过第一光学功能粒子4100和第二光学功能粒子4300的设计可以改善显示设备1000的对比度,并且显示设备1000可省略偏振构件(例如,可省略偏振膜等),从而能够使显示设备1000的总厚度减小,并且从而改善显示设备1000的柔性,使得可以容易地形成弯曲区域。
通常的偏振构件具有几微米至几百微米的厚度,并且形成为相对较厚,因此在折叠和弯曲通常的显示设备时产生了困难。当偏振构件通过粘合剂附接时,并且当粘合剂在大约零下20度的低温硬化时,在折叠操作过程中,粘合剂的模量可增加,导致粘合剂变硬。因此,粘合剂可将压力施加到显示设备,并可引起暗斑。根据本实施方式的显示设备1000可通过省略偏振构件而减少或解决这类问题。
此外,第一基层410和第二基层430可保护显示部200免于外部杂质、空气或水分,并且可有效地封装可能对空气或水分敏感的OLED。相应地,可以改善显示设备1000的耐用性。此外,可以省略或减少用于封装显示部200的构件,使得可以减少显示设备1000的总厚度,并且使得可以简化显示设备1000的制造过程。
在另一示例性实施方式中,第一区域F可包括用户识别的中央区域。也就是说,例如,第一区域F可包括显示设备1000的中央区域。此外,第二区域B可远离显示设备1000的第一区域F的中央区域延伸,或者可以与第一区域F分开给定的距离。
通过允许第二光学功能粒子4300的浓度高于第一光学功能粒子4100的浓度,可以改善第一区域F和第二区域B的图像质量均匀性,从而改善第二区域B的光学效率,否则第二区域B的光学效率会低于包括在第一区域F中的显示设备1000的中央区域的光学效率。也就是说,在另一示例性实施方式中,第二区域B可包括在远离用户的方向上弯曲的区域。例如,假设图1中所示出的眼睛对应于用户的视野/观察位置,显示设备1000可以形成为使得在远离用户的方向上弯曲的区域对应于第二区域B。然而,显示设备1000弯曲所沿的方向不限于在附图中所示出的示例性实施方式,并且根据另一示例性实施方式,显示设备1000可以在朝向用户的方向上弯曲。在这种情况下,对应于朝向用户弯曲的区域的光学功能粒子的浓度可以低于其它区域的光学功能粒子的浓度。
在另一示例性实施方式中,第二区域B可包括远离用户预期的视点弯曲的区域,并且第二区域B的上表面可与第一区域F的上表面的延长线隔开给定的间隔。
在另一示例性实施方式中,如图1所示,第一区域F的上表面的至少一部分可以是平坦的,或者第一区域F的整个上表面可以是平坦的。此外,第二区域B的上表面的至少一个区域可以具有斜面。例如,如图1所示,第二区域B的至少一部分可以是倾斜的。此外,第二区域B的上表面的至少一部分可以是弯曲的。也就是说,尽管图1示出了第二区域B的上表面的一部分具有斜面,但是本实施方式并不限于此,并且第二区域B的上表面的一个区域可以是弯曲的。当第二区域B的上表面在宽的区域上弯曲时,第二区域B可包括弯曲区域。
对于用户的视点,当光在对应于第二区域B的位置处传输的距离大于光在第一区域F中传输的距离时,横向可见性可以减小。然而,根据本实施方式,通过将第二区域B中的第二光学功能粒子4300的浓度调节为高于第一区域F中的第一光学功能粒子4100的浓度,可以实现具有均匀的图像质量特性的显示设备,从而改善横向可见性。相应地,根据本实施方式的显示设备1000可具有增加的柔性和改善的横向可见性。
图3是示出根据另一示例性实施方式的显示设备的一部分的剖视图。参照图3,显示部200包括薄膜晶体管(TFT)和OLED。
缓冲层110可以在基底100的上部上,并且可防止杂质离子的扩散,可防止水分或空气的侵入,并且可用作用于平坦化表面的屏障层和/或阻挡层。
TFT可以形成在缓冲层110的上部。在下文中示出了顶栅型TFT,在顶栅型TFT中顺序地形成有源层A、栅电极G、源电极S和漏电极D。然而,本实施方式不限于此,并且可以采用诸如底栅型TFT等各种类型的TFT。
有源层A可包括硅基半导体材料、氧化物和/或有机材料。杂质可以选择性地注入有源层A的至少一个区域。栅电极G可与有源层A重叠,并且可包括具有优良的导电性的各种材料。
栅绝缘层210可以形成在栅电极G和有源层A之间以使栅电极G与有源层A绝缘。栅绝缘层210可包括单层或具有各种绝缘材料,诸如二氧化硅、氮化硅等的多层。
层间绝缘层230可以在栅电极G上,并且可包括金属氧化物、金属氮化物等。
源电极S和漏电极D可位于层间绝缘层230的上部上,并且可包括各种导电材料。源电极S和漏电极D中的每个可以与有源层A的相应区域连接。
钝化层250在源电极S和漏电极D上,并且可保护TFT。在其它实施方式中,钝化层250的上表面可平坦化,或者可具有包括单层或多层的结构,该多层包括无机材料、有机材料、和/或有机/无机混合物。
如图3所示,OLED位于钝化层250的上部上。OLED可包括第一电极281、包括有机发射层的中间层283、以及第二电极285。显示设备1000可具有多个像素或子像素,并且图3可示出一个像素或一个子像素中的一个区域。
第一电极281可以在钝化层250上,并且可以与源电极S和漏电极D中的一个电连接。在另一示例性实施方式中,第一电极281可以图案化,例如针对每个像素图案化。显示设备1000可进一步包括像素限定层270,像素限定层270可包括暴露第一电极281的开口270a。
中间层283可形成为对应于开口270a,并且可以与第一电极281电连接。第二电极285可以电连接到中间层283,并且可形成在所有像素之上(例如,作为公共电极)。
图4是示出根据另一示例性实施方式的显示设备2000的剖视图。在图4中,用于图1至图3的相同的参考数字表示相同的构件,并且省略对相同构件的重复描述。
如图4所示,在根据本实施方式的显示设备2000中,第二区域B可以在第一区域F的两侧上,使得第一区域F位于第二区域B之间。也就是说,第一区域F形成在显示设备2000的中央区域中,并且第二区域B中的每个可以在第一区域F的相应侧上。第二区域B可以形成为使得每个第二区域B的至少一部分的上表面包括斜面。在另一示例性实施方式中,如图4所示,第二区域B中的每个的上表面可以形成为使得第二区域B中的每个的上表面中的一个区域被弯曲。此外,在另一示例性实施方式中,第二区域B的整个上表面可以被弯曲,使得第二区域B可以包括弯曲区域。
第一基层410可对应于第一区域F,并且第二基层430可形成在对应于第二区域B的位置处。第一基层410和第二基层430可包括相同或不同的材料,和/或可彼此一体形成。也就是说,在图4中所示出的、根据本实施方式的显示设备2000中,第一基层410和在第一基层410两侧的第二基层430可以一体地连接和形成。第一基层410和第二基层430分别对应于第一区域F和第二区域B。
在根据本实施方式的显示设备2000中,第一基层410和第二基层430可在其中分别包括第一光学功能粒子4100和第二光学功能粒子4300,并且第二光学功能粒子4300的浓度可以比第一光学功能粒子4100的浓度高。
如上所述,因为通过喷墨过程形成显示设备2000的第一基层410和第二基层430,所以可以调节/不同地设计第一光学功能粒子4100和第二光学功能粒子4300的浓度和/或尺寸。可以使得第一光学功能粒子4100和第二光学功能粒子4300的浓度不同,以改善关于包括曲面的第二区域B的视角。
根据本实施方式的显示设备2000的第二区域B处于第一区域F的两侧,并且被弯曲或是弯曲的,使得形成在对应于第二区域B的位置处的第二基层430的透射厚度可以增加。也就是说,因为第二基层430的透射厚度增加,并且因为包括具有高浓度的第二光学功能粒子4300,所以颜色再现范围增加并且可以改善横向可见性。此外,如图1和图4所示,当由于浓度差导致第二光学功能粒子4300的浓度比第一光学功能粒子4100的浓度高时,可以增加在第二区域B(例如,显示设备2000的横向侧)处显示的颜色再现范围。也就是说,因为第二光学功能粒子4300的浓度在可包括曲面或弯曲区域的第二区域B中更高,所以可改善横向可见性白角度依赖性(WAD)。
图5是示出根据另一示例性实施方式的显示设备3000的剖视图。在图5中,用于图1至图3的相同的参考数字表示相同的构件,并且为了简洁而省略对相同构件的重复描述。
根据本实施方式的显示设备3000可进一步包括邻近第一基层410或第二基层430形成的光反射减少构件500。光反射减少构件500配置为通过减少外界光的反射而减小对比度,并且可包括黑矩阵形成材料(例如,可形成为黑矩阵),黑矩阵形成材料吸收具有在可见光区域中的波长的光,不过光反射减少构件500不限于黑矩阵。
在另一示例性实施方式中,如图5所示,光反射减少构件500可覆盖有第一基层410和第二基层430,不过形成位置或形状不限于此。在另一示例性实施方式中,如图5所示,两个光反射减少构件500可以彼此隔开,并且可以覆盖有第一基层410和第二基层430,不过不具体地限制位置或形状,并且光反射减少构件500可以图案化,使得多个光反射减少构件500彼此隔开。
通过形成光反射减少构件500,根据本实施方式的显示设备3000减少或防止外界光通过OLED的电极反射、通过在下部的布线层等反射。也就是说,减少的反射表示通过OLED的电极反射的、通过布线层反射的、或通过在OLED下面的基底100的一部分反射的外界光的减少。
从根据本实施方式的显示设备3000的显示部200生成的光可以经由彼此隔开的光反射减少构件500之间的空间发射。
图6是示出根据另一示例性实施方式的显示设备4000的剖视图。在图6中,用于图1的相同的参考数字表示相同的构件,并且为了简洁而省略对相同构件的重复描述。
根据本实施方式的显示设备4000可进一步包括在显示部200和第一基层410之间或者在显示部200和第二基层430之间的第一绝缘层310。第一绝缘层310可阻挡氧气或水分的侵入。在另一示例性实施方式中,第一绝缘层310可以为单层或可以为包括金属氧化物和/或金属氮化物的堆叠层。无机层可包括SiNx、Al2O3、SiO2和/或TiO2中的一个。
图7是示出根据另一示例性实施方式的显示设备5000的剖视图。在图7中,用于图6的相同的参考数字表示相同的构件,并且为了简洁而省略对相同构件的重复描述。
根据本实施方式的显示设备5000可进一步包括在第一基层410的上部上和/或在第二基层430的上部上的第二绝缘层330。第二绝缘层330可阻挡氧气或水分的侵入。在另一示例性实施方式中,第二绝缘层330可以为单层或者可以为包括金属氧化物和/或金属氮化物的堆叠层。无机层可包括SiNx、Al2O3、SiO2和/或TiO2中的一个。
图8是示出根据另一示例性实施方式的显示设备6000的剖视图。在图8中,用于图6和图7的相同的参考数字表示相同的构件,并且为了简洁而省略对相同构件的重复描述。根据本实施方式的显示设备6000可进一步包括在显示部200和第一基层410之间和/或在显示部200和第二基层430之间的第一绝缘层310,并且第二绝缘层330在第一基层410的上部上和/或在第二基层430的上部上。
第一绝缘层310和第二绝缘层330可阻挡氧气或水分的侵入。在另一示例性实施方式中,第一绝缘层310和/或第二绝缘层330可以为单层或可以为包括金属氧化物和/或金属氮化物的堆叠层。无机层可包括SiNx、Al2O3、SiO2和/或TiO2中的一个。
图9是示出根据另一示例性实施方式的显示设备7000的剖视图,并且图10是示出根据另一示例性实施方式的显示设备8000的剖视图。在图9和图10中,用于图1的相同的参考数字表示相同的构件,并且为了简洁而省略对相同构件的重复描述。
在图9中所示出的、根据本实施方式的显示设备7000可进一步包括在显示部200和第一基层410之间和/或在显示部200和第二基层430之间的覆盖层290,并且覆盖层290可提供使显示部200免于外界环境的保护。
此外,在图10中所示出的、根据示例性实施方式的显示设备8000除了包括覆盖层290之外可进一步包括保护层291,保护层291在覆盖层290和第一基层410之间和/或在覆盖层290和第二基层430之间。因为根据本实施方式的显示设备8000进一步包括覆盖层290和保护层291,所以显示设备8000可有效保护显示部200免于诸如外界氧气、水分等有害因素。保护层291可包括LiF并且可以通过使用诸如蒸发等各种沉积方法沉积,以保护覆盖层290、OLED以及位于显示设备8000的下部的其它元件/构件。
图11是示出根据另一示例性实施方式的显示设备9000的剖视图。在图11中,用于图1至图10的相同的参考数字表示相同的构件,并且为了简洁而省略对相同构件的重复描述。
根据本实施方式的显示设备9000可包括基底100、在基底100上的显示部200、在显示部200的上部上用于保护显示部200的覆盖层290、以及在覆盖层290的上部上用于保护显示部200和覆盖层290的保护层291。
显示设备9000还可包括在保护层291的上部上用于阻挡外界氧气或水分侵入的第一绝缘层310、在第一绝缘层310的上部上的第一基层410、以及在第一绝缘层310的上部上的第二基层430,其中第一基层410包括第一光学功能粒子4100并对应于包括中央部的第一区域F,第二基层430包括第二光学功能粒子4300并对应于包括倾斜部的第二区域B。
显示设备9000还可包括邻近第一基层410和/或邻近第二基层430的光反射减少构件500,并且还可包括在第一基层410的上部上或者在第二基层430的上部上用于阻挡外界氧气或水分侵入的第二绝缘层330。
图12是示出根据另一示例性实施方式的显示设备1的示例性实施方式的立体图。尽管在图12中移动终端示出为根据本实施方式的显示设备1,但是显示设备1不限于移动终端,并且可用于各种显示设备。在根据本实施方式的显示设备1中,第一区域F可以形成在中央区域,并且第二区域B可以形成在第一区域F的两个相应侧。在另一示例性实施方式中,如图12所示,第二区域B可包括弯曲区域。
图13是沿图12的线XIII-XIII截取的剖视图。在图13中,用于图1至图11的相同的参考数字表示相同的构件,并且为了简洁而省略对相同构件的重复描述。
在根据本实施方式的显示设备1中,与图4中所示出的示例性实施方式类似,第二区域B中的每个可以在第一区域F的相应侧,使得第一区域F位于第二区域B之间。也就是说,第一区域F可以形成在中央区域,并且第二区域B可以分别在第一区域F的两侧上。
如图13所示,在根据本实施方式的显示设备1中,光反射减少构件500可以形成为邻近第二区域B。例如,两个光反射减少构件500可以彼此隔开给定的距离并且可覆盖有第二基层430。然而,不会具体限制光反射减少构件500的数量、位置和形状。也就是说,只要多个光反射减少构件500彼此隔开并且邻近第一基层410和/或第二基层430,则可以在不限制其数量和位置的情况下设计光反射减少构件500。
在根据本实施方式的显示设备1中,第一绝缘层310、第一基层410、第二基层430以及第二绝缘层330可以在显示部200的上部上以用作密封显示部200的封装部。也就是说,因为封装部可以设置为薄膜封装,该薄膜封装可包括多个交替堆叠的无机层和有机层,所以根据本实施方式的显示设备1的第一绝缘层310和第二绝缘层330可用作无机层,并且第一基层410和第二基层430可用作有机层。相应地,第一绝缘层310、第一基层410、第二基层430以及第二绝缘层330可用作保护显示部200免于诸如外界氧气、水分等杂质的封装部,并且还可改善从显示部200生成的光的发射效率。
此外,因为在具有倾斜部的第二区域B处,第二基层430中的第二光学功能粒子4300的浓度比第一光学功能粒子4100的浓度高,所以改善了显示设备1的横向可见性白角度依赖性(WAD)。
在下文中,详细描述制造根据示例性实施方式的显示设备的方法。根据示例性实施方式的显示设备可包括第一区域F和第二区域B,其中第一区域F生成可见光以使用户可以识别,并且第二区域B具有至少不与第一区域F重叠的区域。
制造根据示例性实施方式的显示设备的方法可包括:在基底100上形成显示部200;在显示部200上形成对应于第一区域F的第一基层410;在第一基层410的内部形成具有第一浓度的、彩色的多个第一光学功能粒子4100;在显示部200上形成对应于第二区域B的第二基层430;以及在第二基层430的内部形成具有比第一浓度高的第二浓度的、彩色的多个第二光学功能粒子4300。
显示部200的形成可包括形成有源层A、栅绝缘层210以及栅电极G。
有源层A可包括半导体,该半导体包括非晶硅或晶体硅,并且有源层A可通过使用各种沉积方法沉积。晶体硅可以如下形成:通过使用各种方法,诸如快速热退火(RTA)法、固相晶化(SPC)法、准分子激光退火(ELA)法、金属诱导晶化(MIC)法、金属诱导横向晶化(MILC)法、连续横向固化(SLS)法等而使非晶硅结晶。有源层A可经由光刻过程而图案化。
在有源层A的上部上的栅绝缘层210可以通过使用各种沉积方法,诸如溅射、化学气相沉积(CVD)或者等离子体增强化学气相沉积(PECVD)等而形成。
通过栅绝缘层210与有源层A绝缘的栅电极G可以在栅绝缘层210的上部上,并且中间层230可以在栅电极G的上部上。中间层230可以通过使用各种沉积方法,诸如溅射、化学气相沉积(CVD)或者等离子体增强化学气相沉积(PECVD)等而形成。
形成第一基层410和在第一基层410内部的第一光学功能粒子4100可包括使形成第一基层410和第一光学功能粒子4100的材料混合,并且将混合的材料沉积在显示部200上。第一基层410可包括绝缘材料,并且第一光学功能粒子4100可包括颜料,不过不会具体限制形成第一基层410和第一光学功能粒子4100的材料。
通过使用如上所述的喷墨过程,形成混合的第一基层410和第一光学功能粒子4100的材料可以形成在显示部200上。因为使用喷墨过程沉积第一光学功能粒子4100,所以可以调节第一光学功能粒子4100的位置和浓度。
形成第二基层430和在第二基层430内部的第二光学功能粒子4300可包括使形成第二基层430和第二光学功能粒子4300的材料混合,并且将混合的材料沉积在显示部200上。第二基层430可包括绝缘材料,并且第二光学功能粒子4300可包括颜料,不过不会具体限制形成第二基层430和第二光学功能粒子4300的材料。
与第一基层410和第一光学功能粒子4100类似,通过使用喷墨过程,形成第二基层430和第二光学功能粒子4300的混合的材料可沉积在显示部200上。因为通过使用喷墨过程沉积第二光学功能粒子4300,所以可以调节第二光学功能粒子4300的位置和浓度。
制造根据示例性实施方式的显示设备的方法可进一步包括使显示设备远离用户预期的有利位置弯曲。然而,弯曲显示设备所沿的方向不限于此,并且作为另一示例性实施方式,该方法可包括使显示设备朝向用户预期的有利位置弯曲。通过上述操作弯曲的区域可包括在第二区域B中,并且第一区域F可包括由用户识别的中央区域。
第二区域B可以比第一区域F进一步远离显示设备的中央区域。此外,因为第二区域B包括弯曲区域,所以第二区域B的上表面可以与第一区域F的上表面的延长线隔开。
尽管已经参照附图描述了一个或多个示例性实施方式,但是将由本领域普通技术人员理解的是,在不背离如由所附权利要求及其等同物限定的精神和范围的情况下,可以在此做出形式和细节上的各种改变。
Claims (19)
1.一种显示设备,包括:
基底;
显示部,在所述基底上,所述显示部具有第一区域和第二区域;
第一基层,在所述显示部上并对应于所述第一区域;
多个第一光学功能粒子,以第一浓度处于所述第一基层的内部并具有彩色的颜色;
第二基层,在所述显示部上并对应于所述第二区域;以及
多个第二光学功能粒子,处于所述第二基层的内部并具有彩色的颜色,
其中,所述第一区域的上表面的至少一部分是平坦的,
其中,所述第二区域的上表面的至少一部分对于所述第一区域是倾斜的或弯曲的,使得所述第二区域的表面远离用户预期的视点弯曲,以及
其中,所述第二光学功能粒子具有比所述第一浓度高的第二浓度。
2.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述第二区域对应于弯曲区域。
3.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述第二区域的上表面与所述第一区域的上表面的延长线隔开。
4.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述第二区域接触所述第一区域。
5.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述第二区域处于所述第一区域的两侧,且所述第一区域位于所述第二区域之间。
6.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述第一基层和所述第二基层中的至少一个包括绝缘材料。
7.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述第一基层和所述第二基层彼此一体形成并且包括相同的材料。
8.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述第一光学功能粒子或者所述第二光学功能粒子包括彩色材料。
9.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述第一光学功能粒子或者所述第二光学功能粒子包括颜料。
10.根据权利要求1所述的显示设备,进一步包括与所述第一基层和所述第二基层中的至少一个邻接的光反射减少构件。
11.根据权利要求10所述的显示设备,其中,所述第一基层或者所述第二基层覆盖所述光反射减少构件。
12.根据权利要求10所述的显示设备,其中,所述光反射减少构件包括黑矩阵形成材料。
13.根据权利要求10所述的显示设备,其中,所述光反射减少构件构图为彼此隔开的多个形状,以及
其中,所述显示部配置为生成经由所述光反射减少构件的所述多个形状之间的空间发射的光。
14.根据权利要求1所述的显示设备,进一步包括第一绝缘层,所述第一绝缘层位于所述显示部与所述第一基层和所述第二基层中的至少一个之间。
15.根据权利要求1所述的显示设备,进一步包括位于所述第一基层和所述第二基层中的至少一个的上部处的第二绝缘层。
16.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述基底具有柔性。
17.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述显示部包括第一电极、第二电极以及中间层,所述中间层在所述第一电极和所述第二电极之间包括发射层。
18.根据权利要求1所述的显示设备,进一步包括覆盖层,所述覆盖层位于所述显示部与所述第一基层和所述第二基层中的至少一个之间。
19.根据权利要求18所述的显示设备,进一步包括保护层,所述保护层位于所述覆盖层与所述第一基层和所述第二基层中的至少一个之间。
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