CN106206993A - 玻璃基板的激光密封结构及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提出了一种玻璃基板的激光密封结构及其制备方法，在上盖玻璃中玻璃料位置的内侧形成环状凹槽，并且在凹槽内填充反射层，在进行封装时，激光溢出的光斑会照射在反射层上，由所述反射层将多余的激光能量反射出去，防止其对器件造成损伤。

Description

玻璃基板的激光密封结构及其制备方法
技术领域
本发明涉及玻璃基板封装领域，尤其涉及一种玻璃基板的激光密封结构及其制备方法。
背景技术
透明传导性玻璃基板除了使用于包括太阳能电池的显示面板及相关材料、部件、设备等以外，还使用于双层真空玻璃(包括上盖玻璃和底板玻璃)之中。上述传导性玻璃基板防止气体向外部泄漏，并在内部具有容易由氧气或水分氧化、劣化的电极，由于氧气对传导性玻璃基板内部的器件性能有极大的影响，因此防止氧气等从外部进入很重要。
基于此，通常情况下，为了密封接合传导性玻璃基板，主要采用高分子粘结剂的接合方式以及在高温烧成炉内加热作为陶瓷玻璃接合材料的玻璃料(Glass frit)而进行接合的方式。在上述方式中，使用密封材料玻璃料密封方式相比利用高分子粘结剂的方式，具有能够防止气体泄漏的气密性良好的优点。
在器件密封期间，上盖玻璃通常位于底板玻璃上，将器件密封在两者之间。具体的，将玻璃料涂敷于传导性玻璃基板之间后，采用激光照射将玻璃料进行熔融，由此熔融的玻璃料才能用于粘结上盖玻璃(Cap glass)和底板玻璃，从而保护底板玻璃上的器件。通常，激光照射玻璃料使其熔融，激光的温度必须高达几百摄氏度以上，由于激光光斑尺寸通常大于玻璃料的宽度，激光多余的光线及残余热量可能会使器件受损，寿命减短。
发明内容
本发明的目的在于提供一种玻璃基板的激光密封结构及其制备方法，能够吸收激光多余的热量，避免激光对器件造成损伤。
为了实现上述目的，本发明提出了一种玻璃基板的激光密封结构，包括：
上盖玻璃；
形成于所述上盖玻璃上呈环状的玻璃料；
形成于所述玻璃料内侧的上盖玻璃中的凹槽；
填充于所述凹槽中的用于发射激光能量的反射层；以及
底板玻璃，所述上盖玻璃通过所述玻璃料固定在所述底板玻璃上形成一密封空间，以密封器件。
进一步的，在所述的玻璃基板的激光密封结构中，所述凹槽为一环状凹槽或者多个凹槽排列成环状的凹槽。
进一步的，在所述的玻璃基板的激光密封结构中，所述凹槽的宽度与所述玻璃料的宽度相同。
进一步的，在所述的玻璃基板的激光密封结构中，所述凹槽的宽度大于或者小于所述玻璃料的宽度。
进一步的，在所述的玻璃基板的激光密封结构中，所述凹槽深度为1μm～5μm。
进一步的，在所述的玻璃基板的激光密封结构中，所述凹槽位置紧贴所述玻璃料。
进一步的，在所述的玻璃基板的激光密封结构中，所述反射层填充深度小于等于所述凹槽的深度。
进一步的，在所述的玻璃基板的激光密封结构中，所述反射层的材质为Ti或Mo。
在发明的另一方面，还提出了一种玻璃基板的激光密封结构的制备方法，用于制备如上文所述的玻璃基板的激光密封结构，包括步骤：
提供上盖玻璃；
在所述上盖玻璃中形成凹槽；
在所述凹槽内填充反射层；
在所述上盖玻璃上形成玻璃料，所述玻璃料位于所述凹槽的外侧；
所述上盖玻璃通过所述玻璃料固定在所述底板玻璃上形成一密封空间，以密封器件。
进一步的，在所述的玻璃基板的激光密封结构的制备方法中，通过丝网印刷或喷嘴方式将所述玻璃料涂覆在所述凹槽的外侧，经过高温烧结进行固化。
与现有技术相比，本发明的有益效果主要体现在：在上盖玻璃中玻璃料位置的内侧形成环状凹槽，并且在凹槽内填充反射层，在进行封装时，激光溢出的光斑会照射在反射层上，由所述反射层将多余的激光能量反射出去，防止其对器件造成损伤。
附图说明
图1为本发明一实施例中玻璃基板的激光密封结构的俯视图；
图2至图4为本发明一实施例中玻璃基板的激光密封结构形成过程的剖面示意图；
图5为本发明一实施例中玻璃基板的激光密封结构封装后的剖面示意图。
具体实施方式
下面将结合示意图对本发明的玻璃基板的激光密封结构及其制备方法进行更详细的描述，其中表示了本发明的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本发明，而仍然实现本发明的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本发明的限制。
为了清楚，不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中，不详细描述公知的功能和结构，因为它们会使本发明由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中，必须做出大量实施细节以实现开发者的特定目标，例如按照有关系统或有关商业的限制，由一个实施例改变为另一个实施例。另外，应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的，但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。
在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本发明。根据下面说明和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
请参考图1，在本实施例中，提出了一种玻璃基板的激光密封结构，包括：上盖玻璃10，所述上盖玻璃10上设有呈环状的玻璃料20，在所述玻璃料20内侧的上盖玻璃10中设有一环状凹槽或者多个排列成环状的凹槽。
所述玻璃料20可以呈方环状或圆环状，亦可以其它不规则的环形，在此不予限定。所述凹槽的数量的可以为一个或两个以上。若所述凹槽的数量为一个，优选呈环状，更优选地，是与玻璃料20的形状相同，例如呈方环状或圆环状。若所述凹槽的数量为多个，则多个所述凹槽优选排列成环状，更优选地，是排列成与玻璃料20相同的形状，例如排列成方环状或圆环状。在本实施例中，选择采用一个呈环状的凹槽，在所述凹槽中填充有反射层11。
所述凹槽的宽度可以与所述玻璃料的宽度相同，也可以与所述玻璃料的宽度不相同，即所述凹槽的宽度可以大于或者小于所述玻璃料的宽度。本实施例中，凹槽的宽度与所述玻璃料的宽度相同，所述凹槽的深度为1μm～5μm，例如是2μm、3μm、4μm。如图1所示，本实施例中，所述凹槽的位置紧贴所述玻璃料20，即所述凹槽与所述玻璃料紧邻设置。在本发明其它实施例中，所述凹槽与所述玻璃料20之间也可以具有空隙。
如上所述，本发明在上盖玻璃10中玻璃料20位置的内侧形成呈环状的凹槽，所述凹槽纵向截面(垂直于上盖玻璃20表面的截面)可以为矩形、正梯形或倒梯形等多种形状，所述凹槽的开口宽度即可以与玻璃料20的宽度相同，也可以大于或者小于玻璃料20的宽度。所述凹槽内填充有反射层11，所述反射层11可以填满所述凹槽，并且反射层11表面与上盖玻璃10表面齐平(如图5所示)；或者，反射层11还可以不填满所述凹槽，即反射层11表面低于上盖玻璃10的表面；除此之外，反射层11还可以填满所述凹槽，并且反射层11表面高于上盖玻璃10表面，具体的方式可以由具体工艺决定。所述反射层11的材质优选为Ti或Mo，实验发现这两种材质效果较佳。
请参考图5，所述玻璃基板的激光密封结构还包括底板玻璃30，所述上盖玻璃10通过所述玻璃料20固定在所述底板玻璃30上，并密封器件40，所述器件40位于所述底板玻璃30上。本实施例中，器件40是指OLED器件。当然，所述底板玻璃30上并不局限于形成有OLED器件，还可以形成有其它类型的器件。
在进行封装时，激光由上盖玻璃10的上方照射至玻璃料20上，对玻璃料20进行加热融化处理，因此，激光的光斑会照射至玻璃料20上，然而，由于激光的光斑尺寸通常大于玻璃料20的宽度，导致部分激光光斑溢出。由于本实施例中，在玻璃料20内侧形成了凹槽，并且在凹槽内填充了反射层11，当溢出的激光光斑照射至反射层11上时，可以被反射层11将多余的能量反射出去，避免激光光斑产生的热量对器件40造成损伤。
本实施例提出了一种玻璃基板的激光密封结构的制备方法，用于制备如上文所述的玻璃基板的激光密封结构，下面结合图2至图4详细描述该制备方法。
如图2所示，首先，提供上盖玻璃10，所述上盖玻璃10通常由透明的玻璃材质形成，例如由透明传导性玻璃基板形成。
继续参考图2所示，接着，在所述上盖玻璃10上形成呈环状的凹槽12，所述凹槽12位于后续玻璃料位置的内侧，其中，所述凹槽12可通过刻蚀等工艺形成。
如图3所示，在所述凹槽12内填充反射层11。具体的，凹槽12的宽度与所述玻璃料20的宽度相同，所述凹槽12深度为1μm～5μm，例如是4μm。所述凹槽12位置紧贴所述玻璃料20。所述反射层11填充深度小于等于所述凹槽12的深度，优选的为等于凹槽12的深度。所述反射层11的材质为Ti或Mo，其通过PVD工艺或者CVD工艺形成。
如图4所示，在所述上盖玻璃10上形成玻璃料20。在本实施例中，通过丝网印刷或喷嘴方式将所述玻璃料20涂覆在凹槽的外侧，经过高温烧结固化玻璃料，便于进行玻璃基板后续的封装。
综上，在本发明实施例提供的玻璃基板的激光密封结构及其制备方法中，在上盖玻璃中玻璃料位置的内侧形成环状凹槽，并且在凹槽内填充反射层，在进行封装时，激光溢出的光斑会照射在反射层上，由所述反射层将多余的激光能量反射出去，防止其对器件造成损伤。
上述仅为本发明的优选实施例而已，并不对本发明起到任何限制作用。任何所属技术领域的技术人员，在不脱离本发明的技术方案的范围内，对本发明揭露的技术方案和技术内容做任何形式的等同替换或修改等变动，均属未脱离本发明的技术方案的内容，仍属于本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种玻璃基板的激光密封结构，其特征在于，包括：
上盖玻璃；
形成于所述上盖玻璃上呈环状的玻璃料；
形成于所述玻璃料内侧的上盖玻璃中的凹槽；
填充于所述凹槽中的反射层；以及
底板玻璃，所述上盖玻璃通过所述玻璃料固定在所述底板玻璃上形成一密封空间，以密封器件。
2.如权利要求1所述的玻璃基板的激光密封结构，其特征在于，所述凹槽为一环状凹槽。
3.如权利要求1所述的玻璃基板的激光密封结构，其特征在于，所述凹槽的数量为多个，多个所述凹槽排列成环状。
4.如权利要求1所述的玻璃基板的激光密封结构，其特征在于，所述凹槽的宽度与所述玻璃料的宽度相同。
5.如权利要求1所述的玻璃基板的激光密封结构，其特征在于，所述凹槽位置紧贴所述玻璃料。
6.如权利要求1所述的玻璃基板的激光密封结构，其特征在于，所述反射层填充深度小于或等于所述凹槽的深度。
7.如权利要求1所述的玻璃基板的激光密封结构，其特征在于，所述反射层的材质为Ti或Mo。
8.一种玻璃基板的激光密封结构的制备方法，用于制备如权利要求1至7中任一种所述的玻璃基板的激光密封结构，其特征在于，包括步骤：
提供上盖玻璃；
在所述上盖玻璃中形成凹槽；
在所述凹槽内填充反射层；
在所述上盖玻璃上形成玻璃料，所述玻璃料位于所述凹槽的外侧；
采用激光加热所述玻璃料使所述上盖玻璃通过所述玻璃料固定在底板玻璃上形成一密封空间，以密封器件。
9.如权利要求8所述的玻璃基板的激光密封结构的制备方法，其特征在于，通过丝网印刷或喷嘴方式将所述玻璃料涂覆在所述凹槽的外侧，再通过烧结工艺进行固化。
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