CN106094300B - 一种显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示面板及其制作方法、显示装置,用以在增强有机膜层强度的前提下,避免由于有机膜层受热后膨胀不均导致有机膜层断裂的现象,从而提高显示面板产品的良率。所述显示面板,包括:位于衬底基板上的有机膜层;位于所述有机膜层上方和/或所述衬底基板和有机膜层之间的无机绝缘膜层;以及位于所述无机绝缘膜层和有机膜层之间且与所述无机绝缘膜层和有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-LCD)是目前市场上最主流的显示器,已经得到了充分的普及,应用于我们生活的方方面面。显示薄膜晶体管液晶显示器的结构包括在对盒设置的阵列基板和对向基板之间放置液晶,阵列基板上设置有薄膜晶体管的结构,对向基板上设置有彩色滤光片(CF),通过阵列基板中TFT上的电信号的改变来控制液晶分子的转动方向,从而达到控制每个像素点偏振光出射与否而达到显示彩色画面的目的。
近年来,随着TFT-LCD显示技术的发展,越来越多的TFT技术受到关注。目前高分辨率、低功耗的液晶显示技术成为主流。在现有产品中加入有机树脂材料是其中一种颇为有效的方法,有机膜材料有优良的台阶覆盖性能,能够提高阵列基板表面的平坦度,同时有机膜材料有较低的介电常数,可以提高像素开口率并降低功耗。但是有机膜材料热膨胀系数较大且强度较差,当经过TFT-LCD制程的高温处理工序,容易由于受热不均或膨胀不均导致膜层断裂,进一步的会造成TFT-LCD产品出现不良。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种显示面板及其制作方法、显示装置,用以在增强有机膜层强度的前提下,避免由于有机膜层受热后膨胀不均导致有机膜层断裂的现象,从而提高显示面板产品的良率。
本发明实施例提供了一种显示面板,包括:
位于衬底基板上的有机膜层;
位于所述有机膜层上方和/或所述衬底基板和有机膜层之间的无机绝缘膜层;
以及位于所述无机绝缘膜层和有机膜层之间且与所述无机绝缘膜层和有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层。
在一种可能的实施方式中,本发明实施例提供的上述显示面板中,所述中间膜层的材料为钨酸锆。
在一种可能的实施方式中,本发明实施例提供的上述显示面板中,所述有机膜层内包括具有导热性的颗粒。
在一种可能的实施方式中,本发明实施例提供的上述显示面板中,所述导热性的颗粒均匀分布在所述有机膜层内。
在一种可能的实施方式中,本发明实施例提供的上述显示面板中,所述导热性的颗粒为石墨烯。
在一种可能的实施方式中,本发明实施例提供的上述显示面板中,所述有机膜层的至少部分区域与所述无机绝缘膜层相接触。
在一种可能的实施方式中,本发明实施例提供的上述显示面板中,所述无机绝缘膜层与所述有机膜层相接触的表面为锯齿状结构。
在一种可能的实施方式中,本发明实施例提供的上述显示面板中,所述无机绝缘膜层的材料为氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、氧化铝和类金刚石碳中的任何一种或几种。
在一种可能的实施方式中,本发明实施例提供的上述显示面板中,所述有机膜层的材料为酚醛树脂、聚丙烯酸脂、聚对二甲苯、环氧树脂、聚酰胺、聚酰亚胺、氟基聚合物中的任何一种或几种。
相应地,本发明实施例还提供了一种显示装置,包括本发明实施例提供的任一种的显示面板。
相应地,本发明实施例还提供了一种本发明实施例提供的任一种的显示面板的制作方法,该方法包括:
在衬底基板上形成所述有机膜层的图形;
在所述有机膜层的上方形成与所述有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形;
在所述中间膜层上方形成与所述中间膜层相接触的无机绝缘膜层的图形;
和/或,在衬底基板上形成所述有机膜层的图形之前,该方法还包括:
在衬底基板上形成无机绝缘膜层的图形;
在所述无机绝缘膜层的上方形成与所述无机绝缘膜层和所述有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形。
在一种可能的实施方式中,本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法中,在所述有机膜层的上方形成与所述有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形,和/或,在所述无机绝缘膜层的上方形成与所述无机绝缘膜层和有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形,包括:
采用构图工艺在所述有机膜层的上方的部分区域形成与所述有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形;
和/或,
采用构图工艺在所述无机绝缘膜层的上方的部分区域形成与所述无机绝缘膜层和有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形。
在一种可能的实施方式中,本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法中,在衬底基板上形成所述有机膜层的图形,和/或,在衬底基板上形成无机绝缘膜层的图形,包括:
采用构图工艺在所述无机绝缘膜层与所述有机膜层相接触的表面形成锯齿状结构。
在一种可能的实施方式中,本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法中,在衬底基板上形成所述有机膜层的图形,包括:
在有机膜层的材料中混合石墨烯材料,并通过沉积的方式在所述衬底基板上形成有机膜层的图形;
和/或,
在有机膜层的材料中混合石墨烯材料,并通过沉积的方式在所述中间膜层的上方形成与所述中间膜层相接触的有机膜层的图形。
本发明有益效果如下:
本发明实施例提供了一种显示面板及其制作方法、显示装置,所述显示面板包括:位于衬底基板上的有机膜层;位于所述有机膜层上方和/或所述衬底基板和有机膜层之间的无机绝缘膜层;以及位于所述无机绝缘膜层和有机膜层之间且与所述无机绝缘膜层和有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层。因此,本发明实施例提供的显示面板形成有机膜层后,为了避免有机膜层在受热后由于膨胀不均而导致的断裂,在与有机膜层相接触的面形成具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层,从而在受热后具有收缩的效果,有利于提供足够的空间给有机膜层进行膨胀;同时为了避免中间膜层与其他膜层之间的导电作用,在中间膜层与有机膜层相接触的另一面增加无机绝缘膜层,由于无机绝缘膜层的强度大于有机膜层的强度,从而增加了有机膜层的强度的同时也与其他膜层相绝缘。所以,本发明实施例提供的显示面板在增强有机膜层强度的前提下,避免由于有机膜层受热后膨胀不均导致有机膜层断裂的现象,从而提高显示面板产品的良率。
附图说明
图1(a)-图1(c)分别为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图;
图2为本发明实施例提供的第二种显示面板的结构示意图;
图3为本发明实施例提供的第三种显示面板的结构示意图;
图4为本发明实施例提供的第四种显示面板的结构示意图;
图5为本发明实施例提供的第五种显示面板的结构示意图;
图6为本发明实施例提供的第六种显示面板的结构示意图;
图7为本发明实施例提供的第七种显示面板的结构示意图;
图8为本发明实施例提供的第八种显示面板的结构示意图;
图9为本发明实施例提供的第九种显示面板的结构示意图;
图10为本发明实施例提供的第十种显示面板的结构示意图;
图11(a)-图11(c)分别为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程示意图;
图12(a)-图12(d)分别为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法每个步骤后得到的显示面板的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供了一种显示面板及其制作方法、显示装置,用以在增强有机膜层强度的前提下,避免由于有机膜层受热后膨胀不均导致有机膜层断裂的现象,从而提高显示面板产品的良率。
下面结合附图,对本发明实施例提供的显示面板及其制作方法、显示装置的具体实施方式进行详细地说明。
附图中各部件的形状和大小不反映显示面板的真实比例,目的只是示意说明本发明内容。
需要说明的是,在本发明实施例或附图中,当描述元素A在另一元素B“上方”或“下方”,它可以表示A直接在B的“上方”或“下方”,也可以表示A和B之间有其他介质元素;元素A或元素B可以是层、区域或基板等,其他介质元素也可以是层、区域或基板等,在此不做限制。相反,当描述A在B“上”或“下”且相互接触时,则表明A和B之间没有任何其他介质元素的存在。当描述元件C与元件D“连接“或“电性连接”,它可以表示元件C直接或间接的与元件D连接或电连接,元件C或元件D可以是薄膜晶体管、二极管、电容、电阻、以及栅线、数据线、公共电极、引出线等各种连接线等,在此不做限制。
参见图1(a)-图1(c)为本发明实施例提供的一种显示面板,其中,参见图1(a),本发明实施例提供的显示面板包括:位于衬底基板11上的有机膜层12;位于有机膜层上方的无机绝缘膜层14,位于无机绝缘膜层14和有机膜层12之间且与无机绝缘膜层14和有机膜层12相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层13。
参见图1(b),本发明实施例提供的显示面板包括:位于衬底基板11上的无机绝缘膜层14;位于无机绝缘膜层14上方的有机膜层12,位于无机绝缘膜层14和有机膜层12之间且与无机绝缘膜层14和有机膜层12相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层13。
参见图1(c),本发明实施例还提供了一种显示面板包括:位于衬底基板上11的有机膜层12,位于有机膜层上方和下方的无机绝缘膜层14,以及位于无机绝缘膜层14和有机膜层12之间且与无机绝缘膜层14和有机膜层12相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层13。
本发明实施例提供的一种显示面板包括:位于衬底基板上的有机膜层;位于所述有机膜层上方和/或所述衬底基板和有机膜层之间的无机绝缘膜层;以及位于所述无机绝缘膜层和有机膜层之间且与所述无机绝缘膜层和有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层。因此,本发明实施例提供的显示面板形成有机膜层后,为了避免有机膜层在受热后由于膨胀不均而导致的断裂,在与有机膜层相接触的面形成具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层,从而在受热后具有收缩的效果,有利于提供足够的空间给有机膜层进行膨胀;同时为了避免中间膜层与其他膜层之间的导电作用,在中间膜层与有机膜层相接触的另一面增加无机绝缘膜层,由于无机绝缘膜层的强度大于有机膜层的强度,从而增加了有机膜层的强度的同时也与其他膜层相绝缘。所以,本发明实施例提供的显示面板在增强有机膜层强度的前提下,避免由于有机膜层受热后膨胀不均导致有机膜层断裂的现象,从而提高显示面板产品的良率。
需要说明的是,本发明实施例提供的显示面板中,无机绝缘膜层增加了有机膜层的强度,同时避免了中间膜层与其他膜层之间的导电作用。
在具体实施例中,本发明实施例提供的显示面板中,中间膜层的材料可以为钨酸锆ZrW2O8。其中,ZrW2O8具有负热膨胀系数,且从0.3K到1050K的温度范围内ZrW2O8可以使有机膜层在受热后有足够的弹性空间进行膨胀,避免了有机膜层出现断裂或者裂纹的现象。
需要说明的是,本发明实施例中的中间膜层的材料不仅为钨酸锆,还可以为其他具有负膨胀系数的材料,在此不做具体限定。
在具体实施例中,为了加快有机膜层在受热后将热量传递给中间膜层,本发明实施例提供的显示面板中,参见图2,有机膜层12内还包括具有导热性的颗粒121。其中,图2仅以图1(b)所示的显示面板进一步进行描述,但不限于仅以图1(b)所示的显示面板进行改进,当然本发明实施例中任何一种显示面板的结构的有机膜层中均可以设置具有导热性的颗粒,均属于本发明的保护范围。
需要说明的是,有机膜层中包括的具有导热性的颗粒可以为一个或者多个,为了进一步提高有机膜层在受热后将热量传递给中间膜层,可以在中间膜层的内部设置多个具有导热性的颗粒。进一步地,一般具有导热性的颗粒也会有导电性,为了避免具有导热性的颗粒具有导电性,从而改变有机膜层绝缘的性质,因此具有导电性的颗粒需要设置在有机膜层内部,不能设置在有机膜层的表面。
在具体实施例中,为了避免有机膜层的受热不均,以及方便有机膜层将热量传递给其他膜层,本发明实施例提供的显示面板,参见图3,导热性的颗粒121均匀分布在有机膜层12内。
需要说明的是,导热性的颗粒可以均匀分布在有机膜层的内部,也可以非均匀的分布在有机膜层的内部,在此不做具体限定。
在具体实施例中,本发明实施例提供的显示面板中,导热性的颗粒可以为石墨烯。通过将石墨烯的颗粒掺杂在有机膜层内,可以有效防止有机膜层受热不均而导致的裂纹的现象。
在具体实施例中,本发明实施例提供的显示面板中,参见图4,有机膜层12的至少部分区域与无机绝缘膜层14相接触。其中,图4仅以图1(b)所示的显示面板进一步进行描述,但不限于仅以图1(b)所示的显示面板进行改进,当然本发明实施例中任何一种显示面板的结构的有机膜层均可以少部分区域与无机绝缘膜层相接触,均属于本发明的保护范围。
为了详细描述有机膜层的至少部分区域与无机绝缘膜层相接触的情况,下面通过具体实施例以及附图进行介绍。
具体地,有机膜层与无机绝缘膜层进行相接触,是由于中间膜层与有机膜层或者无机绝缘膜层的部分区域相接触。下面通过详细描述中间膜层的结构来体现有机膜层与无机绝缘膜层相接触的情况。
参见图5,显示面板包括显示区域A和边框区域A1,其中,有机膜层覆盖显示区域和边框区域(图中未画出),中间膜层13位于边框区域A1的图形为连续结构,且覆盖边框区域,中间膜层13位于显示区域A的图形为非连续结构,且均匀分布于显示区域。其中位于边框区域的中间膜层用于防止边框区域在收到封框胶固化的作用时产生的局部受热的现象,位于显示区域的中间膜层可以为非连续的结构,从而增大了有机膜层与无机绝缘膜层的接触面积,增加了有机膜层的强度。
参见图6,显示面板包括显示区域A和边框区域A1,其中,有机膜层覆盖显示区域和边框区域(图中未画出),中间膜层13位于边框区域A1的图形为连续结构,且覆盖边框区域,中间膜层13位于显示区域A的图形为连续结构,且中间膜层13包括沿横向延伸和纵向延伸的结构,且均匀分布于显示区域。其中位于边框区域的中间膜层用于防止边框区域在受到封框胶固化的作用时产生的局部受热的现象,位于显示区域的中间膜层为连续的结构,但不覆盖整个显示区域,通过将中间膜层设置为沿横向延伸和纵向延伸的结构,从而增大了有机膜层与无机绝缘膜层的接触面积,增加了有机膜层的强度。
当然也可以将中间膜层设置为覆盖显示面板的整个区域,参见图7,显示面板中的中间膜层覆盖显示区域和边框区域。如图7所示的结构,有机膜层与无机绝缘膜层则不会有接触面。
在具体实施例中,当有机膜层与无机绝缘膜层有接触面时,由于无机绝缘膜层的强度比有机膜层的强度大,为了增加有机膜层的强度,可以增加有机膜层与无机绝缘膜层之间的接触面积,本发明实施例提供的上述显示面板中,参见图8,无机绝缘膜层14与有机膜层12相接触的表面为锯齿状结构15。其中,锯齿状的结构可以为如图9所示的凹凸结构151。具体地,在形成无机绝缘膜层时通过构图工艺形成具有锯齿状结构的图案,或者在形成有机膜层时通过构图工艺形成具有锯齿状结构的图案,只要是增加无机绝缘膜层与有机膜层之间接触面积的结构,均属于本发明的保护范围,具体结构在此不做具体限定。
在具体实施例中,本发明实施例提供的上述任一种显示面板,无机绝缘膜层的材料为氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、氧化铝和类金刚石碳中的任何一种或几种。
其中,类金刚石碳是具有类似于金刚石正四面体键结构的多晶或非晶碳膜。类金刚石碳的主要成分是碳,是一种兼有高硬度和优质摩擦性能的非晶体硬质薄膜,且具有优异的电绝缘性能,高的化学稳定性及红外透光性能。类金刚石碳可以采用离子束沉积的方式进行制备,在此不做赘述。
在具体实施例中,本发明实施例提供的上述任一种显示面板,有机膜层的材料为酚醛树脂、聚丙烯酸脂、聚对二甲苯、环氧树脂、聚酰胺、聚酰亚胺、氟基聚合物中的任何一种或几种。
具体地,下面通过液晶显示面板为例进行详细描述本发明实施例提供的显示面板。参见图10,显示面板包括对盒设置的阵列基板21和对向基板22,其中,阵列基板21上包括位于衬底基板11上的栅极211、栅极绝缘层212、有源层213、源极214、漏极215、以及与漏极215相连的像素电极层216、位于源漏电极上方的无机绝缘膜层14、位于无机绝缘膜层14上方且与无机绝缘膜层14相接触的中间膜层13,以及位于中间膜层上方且与中间膜层和无机绝缘膜层相接触的有机膜层12,其中中间膜层位于无机绝缘膜层上方的部分区域,其中有机膜层内包括均匀分布的具有导热性的颗粒121。其中,有机膜层上方还包括公共电极层217,其中,当公共电极层与其他层结构需要电性相连时,可以通过在有机膜层和无机绝缘膜层中设置过孔(图中并未画出)。其中,对向基板22包括位于衬底基板221面向阵列基板一侧的黑矩阵222的图形,以及与黑矩阵同层设置的有色树脂层223,对向基板和阵列基板的边框区域通过封框胶23进行固定,且对向基板和阵列基板之间填充有液晶24,阵列基板与液晶之间,以及液晶与对向基板之间包括配向膜25,配向膜用于为液晶提供初始配向角度。
需要说明的是,根据实际需要,可以在有机膜层和无机绝缘膜层中设置过孔,或者仅在无机绝缘膜层或者仅在有机膜层中设置过孔。其中,在膜层中设置过孔的构图工艺与现有技术相同,在此不再赘述。由于中间膜层的材料具有导电性,因此在设计过孔时尽量避开中间膜层的区域。
基于同一发明思想,本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法,针对图1(a)所示的显示面板的制作方法,参见图11(a),包括:
S1101、在衬底基板上形成有机膜层的图形;
S1102、在有机膜层的上方形成与有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形;
S1103、在中间膜层上方形成与中间膜层相接触的无机绝缘膜层的图形。
针对图1(b)所示的显示面板的制作方法,参见图11(b),包括:
S1104、在衬底基板上形成无机绝缘膜层的图形;
S1105、在无机绝缘膜层的上方形成与无机绝缘膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形;
S1106、在中间膜层上方形成与中间膜层相接触的有机膜层的图形。
针对图1(c)所示的显示面板的制作方法,参见图11(c),包括:
S1107、在衬底基板上形成无机绝缘膜层的图形;
S1108、在无机绝缘膜层的上方形成与无机绝缘膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形;
S1109、在中间膜层上方形成与中间膜层相接触的有机膜层的图形;
S11010、在有机膜层的上方形成与有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形;
S11011、在中间膜层上方形成与中间膜层相接触的无机绝缘膜层的图形。
需要说明的是,在衬底基板上形成无机绝缘膜层的图形或者有机膜层的图形之前,还包括在衬底基板上采用构图工艺形成薄膜晶体管的结构,以及与薄膜晶体管连接的栅线、数据线等金属走线。
在具体实施例中,本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法中,步骤S1102和步骤S11010中在有机膜层的上方形成与有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形,包括:采用构图工艺在有机膜层的上方的部分区域形成与有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形。
在具体实施例中,本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法中,步骤S1105和步骤S1108中在无机绝缘膜层的上方形成与无极绝缘膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形,包括:采用构图工艺在无机绝缘膜层的上方的部分区域形成与无机绝缘膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形。
具体地,可以采用磁控溅射、气象化学沉积或者蒸渡的方式将具有负膨胀系数特性的材料进行沉积。然后通过构图工艺中的曝光刻蚀、或者掩膜版蒸镀等方法将不需要有中间膜层区域的中间膜层刻蚀掉。其中,中间膜层的厚度一般为100-200nm。中间膜层的厚度不做具体限定。
在具体实施例中,本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法中,步骤S1101在衬底基板上形成有机膜层的图形,和/或,步骤S1104在衬底基板上形成无机绝缘膜层的图形,包括:采用构图工艺在无机绝缘膜层与有机膜层相接触的表面形成锯齿状结构。
具体地,在形成有机膜层后,在有机膜层与无机绝缘膜层相接触的表面形成锯齿状结构,然后在形成无机绝缘膜层时,通过沉积或者涂覆的方式,无机绝缘膜层的表面具有与有机膜层相吻合的锯齿状结构。或者,在形成无机绝缘膜层时,在无机绝缘膜层与有机膜层相接触的表面形成锯齿状结构,然后在形成有机膜层时,通过沉积或者涂覆的方式,有机膜层的表面具有与无机绝缘膜层相吻合的锯齿状结构。
其中,无机绝缘膜层的厚度可以为100-200nm,形成无机绝缘膜层中的锯齿状结构时可以采用磁控溅射方式进行镀膜,然后通过构图工艺形成锯齿状结构,以及需要设计的过孔结构。
在具体实施例中,本发明实施例提供的上述显示面板的制作方法中,在衬底基板上形成所述有机膜层的图形,或者在中间膜层上方形成与中间膜层相接触的有机膜层的图形,包括:在有机膜层的材料中混合石墨烯材料,并通过沉积的方式在衬底基板上形成有机膜层的图形;和/或,在有机膜层的材料中混合石墨烯材料,并通过沉积的方式在中间膜层的上方形成与中间膜层相接触的有机膜层的图形。
具体地,形成有机膜层的方式包括,将石墨烯可以通过预混合加入有机膜层材料中,然后采用沉积的方式形成有机膜层的图形,如物理涂覆或者蒸镀等方法,有机膜层的厚度一般为1000-3000nm。其中石墨烯可以通过化学气相沉积、水热法、氧化石墨还原法以及外延生长法等方法进行制备。在此不做赘述。
下面通过具体实施例详细描述本发明实施例提供的显示面板制作方法。
步骤一,在衬底基板11上形成栅极211、栅极绝缘层212、有源层213、源极214、漏极215、以及与漏极215相连的像素电极层216的图形,如图12(a)所示。
步骤二,在像素电极216以及源漏极的上方形成无机绝缘膜层14,同时采用构图工艺在无机绝缘膜层中形成过孔31,过孔中填充导电物质,用于与薄膜晶体管的源极214电性相连,同时采用构图工艺,在无机绝缘膜层与有机膜层相接触的表面形成锯齿状结构,如图12(b)所示。
步骤三,在无机绝缘膜层14上方形成中间膜层13的图形,如图12(c)所示。
步骤四,在中间膜层13的上方形成有机膜层的图形,如图12(d)所示。
通过上述步骤中形成薄膜晶体管的结构以及薄膜晶体管上方的其他层结构需要采用构图工艺进行构图。构图工艺可只包括光刻工艺,或,可以包括光刻工艺以及刻蚀步骤,同时还可以包括打印、喷墨等其他用于形成预定图案的工艺;光刻工艺是指包括成膜、曝光、显影等工艺过程的利用光刻胶、掩模板、曝光机等形成图案的工艺。在具体实施时,可根据本发明中所形成的结构选择相应的构图工艺。
基于同一发明思想,本发明实施例还提供了一种显示装置,包括本发明实施例提供的上述任一种的显示面板。该显示装置可以为:手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置的实施可以参见上述显示面板的实施例,重复之处不再赘述。
综上所述,本发明实施例提供的一种显示面板及其制作方法、显示装置,所述显示面板包括:位于衬底基板上的有机膜层;位于所述有机膜层上方和/或所述衬底基板和有机膜层之间的无机绝缘膜层;以及位于所述无机绝缘膜层和有机膜层之间且与所述无机绝缘膜层和有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层。因此,本发明实施例提供的显示面板形成有机膜层后,为了避免有机膜层在受热后由于膨胀不均而导致的断裂,在与有机膜层相接触的面形成具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层,从而在受热后具有收缩的效果,有利于提供足够的空间给有机膜层进行膨胀;同时为了避免中间膜层与其他膜层之间的导电作用,在中间膜层与有机膜层相接触的另一面增加无机绝缘膜层,由于无机绝缘膜层的强度大于有机膜层的强度,从而增加了有机膜层的强度的同时也与其他膜层相绝缘。所以,本发明实施例提供的显示面板在增强有机膜层强度的前提下,避免由于有机膜层受热后膨胀不均导致有机膜层断裂的现象,从而提高显示面板产品的良率。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (13)
1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括:
位于衬底基板上的有机膜层;
位于所述有机膜层上方和/或所述衬底基板与有机膜层之间的无机绝缘膜层;
以及位于所述无机绝缘膜层和有机膜层之间且与所述无机绝缘膜层和有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述中间膜层的材料为钨酸锆。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述有机膜层内包括具有导热性的颗粒。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述导热性的颗粒均匀分布于所述有机膜层内。
5.根据权利要求3或4所述的显示面板,其特征在于,所述导热性的颗粒为石墨烯。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述有机膜层的至少部分区域与所述无机绝缘膜层相接触。
7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述无机绝缘膜层与所述有机膜层相接触的表面为锯齿状结构。
8.根据权利要求1、6或7任一权项所述的显示面板,其特征在于,所述无机绝缘膜层的材料为氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、氧化铝和类金刚石碳中的任何一种或几种。
9.根据权利要求1、3、4、6或7任一权项所述的显示面板,其特征在于,所述有机膜层的材料为酚醛树脂、聚丙烯酸脂、聚对二甲苯、环氧树脂、聚酰胺、聚酰亚胺、氟基聚合物中的任何一种或几种。
10.一种权利要求1-9任一权项所述的显示面板的制作方法,其特征在于,该方法包括:
在衬底基板上形成所述有机膜层的图形,在所述有机膜层的上方形成与所述有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形,在所述中间膜层上方形成与所述中间膜层相接触的无机绝缘膜层的图形;或者,
在衬底基板上形成无机绝缘膜层的图形,在所述无机绝缘膜层的上方形成与所述无机绝缘膜层和有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形,在所述中间膜层上方形成所述有机膜层的图形,在所述有机膜层的上方形成与所述有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形,在所述中间膜层上方形成与所述中间膜层相接触的无机绝缘膜层的图形;或者,
在衬底基板上形成无机绝缘膜层的图形,在所述无机绝缘膜层的上方形成与所述无机绝缘膜层和有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形,在所述中间膜层上方形成有机膜层的图形。
11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,在所述有机膜层的上方形成与所述有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形,包括:
采用构图工艺在所述有机膜层的上方的部分区域形成与所述有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形;
在所述无机绝缘膜层的上方形成与所述无机绝缘膜层和有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形,包括:
采用构图工艺在所述无机绝缘膜层的上方的部分区域形成与所述无机绝缘膜层和有机膜层相接触的由具有负膨胀系数特性的材料组成的中间膜层的图形。
12.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,在衬底基板上形成所述有机膜层的图形,和/或,在衬底基板上形成无机绝缘膜层的图形,包括:
采用构图工艺在所述无机绝缘膜层与所述有机膜层相接触的表面形成锯齿状结构。
13.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,在衬底基板上形成所述有机膜层的图形,包括:
在有机膜层的材料中混合石墨烯材料,并通过沉积的方式在所述衬底基板上形成有机膜层的图形;
和/或,
在有机膜层的材料中混合石墨烯材料,并通过沉积的方式在所述中间膜层的上方形成与所述中间膜层相接触的有机膜层的图形。
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