CN106019446A - 光学装置以及包括该光学装置的有机发光显示器 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及光学装置及包括所述光学装置的有机发光显示器。本公开的实施方案的光学装置包括:包括UV吸收剂的相位差层,以及在所述相位差层上的线性偏振层。所述相位差层还可以包括基膜、液晶层以及在所述液晶层上的覆盖层。所得的光学装置以及包括所述光学装置的有机发光显示器可以具有改善的偏振特性和光学特性如透射率,以及优异的外部光抗反射特性和柔性。
Description
技术领域
本公开的实施方案的一个或多个方面涉及光学装置以及包括该光学装置的有机发光显示器。
背景技术
平板显示器的非限制性实例包括有机发光显示器、液晶显示器、等离子显示面板等。
在相关领域,如果外部光被反射或散射在显示设备的显示表面上,则可能不能很好地看到该设备所显示的图像。这对于便携式设备尤其如此,所述便携式设备如移动电话、PMP(便携式多媒体播放器)、PDA(个人数字助理)和便携式计算机,因为这些显示设备通常在其中存在大量的外部光的室外使用,并且因此经常经历外部光在显示设备的显示表面上的反射和散射的问题。
最近,已经开发出能够弯曲和折叠的可折叠的显示设备。可折叠的显示设备易于携带,同时具有相对大型的屏幕。除了诸如TV和计算机监控器中的多种其它应用之外,可折叠的显示设备可以用于移动设备,如移动电话、PMP、PDP、导航、UMPC(超级移动PC)、电子书和/或电子报纸。
此类可折叠的显示设备可能需要附接抗反射膜,并且为了能够折叠具有较小曲率半径的可折叠的显示设备,需要具有较薄结构的抗反射膜。
在本背景技术部分公开的信息仅用于增强对本公开的背景的理解,并且因此其可以包含不形成在本国中对本领域普通技术人员已经已知的现有技术的信息。
发明内容
本公开的实施方案的一个或多个方面涉及具有使外部光反射最小化的光学特性的光学装置和有机发光显示器。此外,本公开的实施方案的一个或多个方面涉及提供具有薄的总厚度和改善的柔性的光学装置和有机发光显示器。
本公开的一个或多个示例性实施方案提供了光学装置,包括:包括UV吸收剂的相位差层以及在所述相位差层上的线性偏振层。
所述相位差层还可以包括基膜、液晶层以及在所述液晶层上的覆盖层。
所述UV吸收剂可以在所述基膜的后表面上。
所述UV吸收剂可以在所述基膜的前表面上。
所述基膜可以包括所述UV吸收剂。
所述液晶层可以包括所述UV吸收剂。
所述UV吸收剂可以包括选自由化学式1和化学式2中的任一个表示的化合物中的至少一个:
化学式1
化学式2。
在化学式1和化学式2中,R1至R5可以各自独立地为取代基或氢原子,其中所述取代基选自烷基、环烷基、芳基、酰氨基、烷硫基、芳硫基、烯基、卤素原子、炔基、杂环基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、膦酰基、酰基、氨甲酰基、氨磺酰基、磺酰胺基、氰基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、甲硅烷氧基、酰氧基、磺酸基、氨基羰基氧基、氨基、苯胺基、酰亚胺基、酰脲基、烷氧基羰基氨基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂环硫基、硫酰脲基、羧基、羟基、巯基和硝基。
由化学式3表示的化合物还可以包括在所述UV吸收剂中:
化学式3。
在化学式3中,R1至R3可以各自独立地为取代基或氢原子,其中所述取代基选自烷基、环烷基、芳基、酰氨基、烷硫基、芳硫基、烯基、卤素原子、炔基、杂环基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、膦酰基、酰基、氨甲酰基、氨磺酰基、磺酰胺基、氰基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、甲硅烷氧基、酰氧基、磺酸基、氨基羰基氧基、氨基、苯胺基、酰亚胺基、酰脲基、烷氧基羰基氨基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂环硫基、硫酰脲基、羧基、羟基、巯基和硝基。
本公开的一个或多个示例性实施方案提供了有机发光显示器,包括:光学装置,以及在所述光学装置的后表面上的显示面板,其中所述光学装置包括:包括UV吸收剂的相位差层以及在所述相位差层上的线性偏振层。
所述相位差层可以包括基膜、液晶层以及在所述液晶层上的覆盖层。
所述UV吸收剂可以在所述基膜的后表面上。
所述UV吸收剂可以在所述基膜的前表面上。
所述基膜可以包括所述UV吸收剂。
所述液晶层可以包括所述UV吸收剂。
所述UV吸收剂可以包括选自由化学式1和化学式2中任一个表示的化合物中的至少一个:
化学式1
化学式2。
在化学式1和化学式2中,R1至R5可以各自独立地为取代基或氢原子,其中所述取代基选自烷基、环烷基、芳基、酰氨基、烷硫基、芳硫基、烯基、卤素原子、炔基、杂环基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、膦酰基、酰基、氨甲酰基、氨磺酰基、磺酰胺基、氰基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、甲硅烷氧基、酰氧基、磺酸基、氨基羰基氧基、氨基、苯胺基、酰亚胺基、酰脲基、烷氧基羰基氨基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂环硫基、硫酰脲基、羧基、羟基、巯基和硝基。
由化学式3表示的化合物还可以包括在所述UV吸收剂中:
化学式3。
在化学式3中,R1至R3可以各自独立地为取代基或氢原子,其中所述取代基选自烷基、环烷基、芳基、酰氨基、烷硫基、芳硫基、烯基、卤素原子、炔基、杂环基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、膦酰基、酰基、氨甲酰基、氨磺酰基、磺酰胺基、氰基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、甲硅烷氧基、酰氧基、磺酸基、氨基羰基氧基、氨基、苯胺基、酰亚胺基、酰脲基、烷氧基羰基氨基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂环硫基、硫酰脲基、羧基、羟基、巯基和硝基。
所述有机发光显示器还可以包括在所述基膜的后表面上的触摸传感器。
所述相位差层可以具有λ/4相位差值。根据本公开的实施方案,当所述光学装置以及包括所述光学装置的有机发光显示器包括在显示设备中时,即使当UV光照射在其上时,也可以保持所述光学装置的特性,并且因此所得的显示设备可以具有改善的透射率和偏振度。此外,通过所述光学装置的外部光反射可以被抑制或降低以提供具有较好显示品质的显示设备。另外,本公开的实施方案的所述光学装置可以具有降低的总厚度,并且因此所得的显示设备可以具有降低的总厚度和改善的柔性。
附图说明
图1为根据本公开的一个或多个示例性实施方案的光学装置的横截面视图。
图2为示出根据本公开的一个或多个示例性实施方案的制造光学装置的方法的横截面视图。
图3、图4和图5为根据本公开的一个或多个示例性实施方案的光学装置的横截面视图。
图6为示出根据本公开的一个或多个示例性实施方案的有机发光显示器的横截面视图。
图7为示出图6中示出的相位差层和线性偏振层的光轴的视图。
图8为示出使用线性偏振板和相位延迟器的外部光反射的横截面视图。
具体实施方式
将参考附图在下文中更充分地描述本公开的实施方案,在所述附图中,示出了本公开的示例性实施方案。如本领域技术人员会认识到的,所描述的实施方案可以以多种不同的方式改变,而均不背离本公开的精神或范围。
将省略对于理解本公开而言并非必需的部分,以便更清楚地描述本公开,并且在整个附图和说明书中,相同的元件(例如,二极管)将由相同的参考数字指定。
此外,在示例性实施方案中,因为相同的参考数字指定具有相同配置的相同元件,所以一旦已经代表性描述一个示例性实施方案,则将不再提供其重复的描述,并且其它示例性实施方案将仅在它们的配置不同于上述示例性实施方案的情况下进行描述。
在附图中,出于理解和易于描述的目的,可以任意地显示每个配置的尺寸和厚度,但本公开不局限于此。例如,在附图中,出于清楚的目的,可以放大层、膜、面板、区域等的厚度。
应理解,当诸如层、膜、区域或衬底的元件被称为在另一元件“上”时,其可以直接在另一元件上或者也可以存在介于中间的元件。
另外,除非明确相反描述,词语“包括/包含”应被理解为意味着包括所规定的要素,但并不排除任何其它要素。此外,在说明书中,词语“在……上”意指布置在目标部分之上或之下,并且不旨在限于具体的方向。另外,如本文所用,单数形式也旨在包括复数形式,并且反之亦然,除非上下文另外明确指出(例如,液晶层LCL可以包括多个液晶层LCL)。
诸如“选自……中的至少一个”以及“选自……中的一个”的表达,当在一系列要素之前时,修饰整列要素而不修饰该列的个别要素。此外,当描述本公开的实施方案时,“可以”的使用是指“本公开的一个或多个实施方案”。
在下文中,将参考图1和图2描述本公开的一个或多个示例性实施方案的光学装置和根据本公开的一个或多个示例性实施方案的制造光学装置的方法。图1为根据本公开的一个或多个示例性实施方案的光学装置的横截面视图,以及图2为示出根据本公开的一个或多个示例性实施方案的制造光学装置的方法步骤的横截面视图。
参考图1,光学装置OM包括触摸传感器TS、相位差层RL和线性偏振层POL。
触摸传感器TS可以包括传感部分和布线部分。传感部分可以被布置成对应于显示区域,在显示区域中显示装置DM的有机发光二极管被布置成显示图像,以及布线部分可以被布置成对应于与该显示区域相邻的非显示区域。
传感部分可以包括透明导电氧化物,如ITO;导电材料和/或导电聚合物材料,如银纳米线(AgNW)和/或聚(3,4-亚乙基二氧噻吩)(PEDOT);含碳的导电材料,如石墨烯和/或碳纳米管CNT;银纳米线(AgNW)和透明导电氧化物(如ITO)的层压物;导电聚合物材料(如PEDOT)和透明导电氧化物(如ITO)的层压物,和/或类似物。在一些实施方案中,传感部分可以包括桥,并且可以包括ITO、IZO、Cu和/或基于Ag-Pd-Cu的材料作为桥。布线部分可以包括Cu和/或基于Ag-Pd-Cu的材料、Ag,和/或类似物。
在其中传感部分由银纳米线(AgNW)形成的实施方案中,传感部分还可以包括覆盖层以便改善紧密接触性。例如,覆盖层可以被配置成改善银纳米线(AgNW)和相位差层RL的紧密接触性。
然而,触摸传感器TS不局限于此,并且可以以显示设备领域中通常可用的任何合适的形式形成。
在一些实施方案中,相位差层RL具有总的λ/4相位差值(例如,相位差层RL可以为四分之一波片),并且包括UV吸收剂UL、布置在UV吸收剂UL上的基膜BF、布置在基膜BF上的液晶层LCL以及布置在液晶层LCL上的覆盖层OC。
相位差层RL可以包括布置在基膜BF的后(或底)表面上的UV吸收剂UL。在一些实施方案中,UV吸收剂UL可以以膜的形式附接至基膜BF,或者可以涂覆在基膜BF上并且然后固化,但形成UV吸收剂UL的方法不局限于此。
UV吸收剂UL可以在制造过程期间吸收照射在光学装置OM上的UV光以控制UV光对液晶层LCL的影响。否则,当UV光照射在液晶层LCL上时,包括在液晶层LCL中的液晶分子和染料的结合可能另外发生变化以影响设备品质。
用于形成UV吸收剂UL的材料可以为能够吸收UV光的任何合适的材料,并且可以包括苯并三唑化合物,例如,基于2-(2'-羟基苯基)-苯并三唑的化合物,如2-(2'-羟基-5'-甲基苯基)苯并三唑、2-(3',5'-二叔丁基-2'-羟基苯基)苯并三唑、2-(5'-叔丁基-2'-羟基苯基)苯并三唑、2-(2-羟基-5-(1,1,3,3-四甲基丁基)苯基)苯并三唑、2-(3',5'-二叔丁基-2'-羟基苯基)-5-苯并三唑、2-(3'-叔丁基-2'-羟基苯基-5'-甲基苯基)-5-苯并三唑、2-(3'-仲丁基-5'-叔丁基-2'-羟基苯基)苯并三唑、2-(2'-羟基-4'-辛氧基苯基苯基)-5-苯并三唑和/或2-(3',5'-二叔丁基-2'-羟基苯基)苯并三唑;二苯甲酮化合物,如具有4-羟基、4-甲氧基、4-辛氧基、4-癸氧基、4-十二烷氧基、4-苄氧基、4,2',4'-三羟基和/或2'-羟基-4,4'-二甲氧基官能团的基于2-羟基二苯甲酮的化合物;苯甲酸酯化合物,例如,具有取代的苯甲酸酯结构的化合物,如4-叔丁基-苯基水杨酸酯、水杨酸苯酯、水杨酸辛基苯酯、联苯甲酰间苯二酚、双(4-叔丁基-苯甲酰基)间苯二酚、苯甲酰基间苯二酚、2,4-二叔丁基苯基-3,5'-二叔丁基-4-羟基苯甲酸酯、3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸十六烷酯、3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸十八烷酯和/或2-甲基-4,6-二叔丁基苯基3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸酯;三嗪化合物,和/或类似物。
在一些实施方案中,UV吸收剂UL可以包括选自由以下化学式1和化学式2表示的化合物中的至少一个:
化学式1
化学式2。
在化学式1和化学式2中,R1至R5各自独立地为取代基或氢原子,其中取代基选自烷基、环烷基、芳基、酰氨基、烷硫基、芳硫基、烯基、卤素原子、炔基、杂环基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、膦酰基、酰基、氨甲酰基、氨磺酰基、磺酰胺基、氰基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、甲硅烷氧基、酰氧基、磺酸基、氨基羰基氧基、氨基、苯胺基、酰亚胺基、酰脲基、烷氧基羰基氨基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂环硫基、硫酰脲基、羧基、羟基、巯基和硝基。
根据本公开的一个或多个示例性实施方案的UV吸收剂UL可以吸收波长为约340nm至约400nm的UV光。
在一些实施方案中,UV吸收剂UL还可以包括由以下化学式3表示的化合物。下述化学式3表示的化合物可以用作反应稳定剂:
化学式3。
在化学式3中,R1至R3各自独立地为取代基或氢原子,其中取代基选自烷基、环烷基、芳基、酰氨基、烷硫基、芳硫基、烯基、卤素原子、炔基、杂环基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、膦酰基、酰基、氨甲酰基、氨磺酰基、磺酰胺基、氰基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、甲硅烷氧基、酰氧基、磺酸基、氨基羰基氧基、氨基、苯胺基、酰亚胺基、酰脲基、烷氧基羰基氨基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂环硫基、硫酰脲基、羧基、羟基、巯基和硝基。
在一些实施方案中,相位差层RL还可以包括布置在液晶层LCL与基膜BF之间的取向层(图2中示出)。
线性偏振层POL布置在相位差层RL上。此处,线性偏振层POL可以具有包括聚乙烯醇(PVA)的膜形式、通过涂层形成的层形式、金属图案层形式如线栅偏振片WGP,和/或类似物。线性偏振层POL的光轴与相位差层RL的光轴的交叉角可以为45°。
在根据本公开的一个或多个示例性实施方案的光学装置OM中,在触摸传感器TS的制造期间,照射的UV光在UV吸收剂UL上被吸收,以便不影响相位差层RL的液晶层LCL,并且因此包括OM的显示设备的光学特性如透射率和/或偏振度可以得到改善。
在下文中,将参考图2描述根据本公开的一个或多个示例性实施方案的制造光学装置OM的方法。
如图2A和图2B中所示,取向层AL形成在基膜BF上,并且然后液晶层LCL形成在取向层AL上。
在一些实施方案中,可以省略取向层AL,并且在这种情况下,液晶层LCL可以为包括液晶材料和光刻胶材料的聚合物材料层。
随后,如图2C中所示,形成覆盖液晶层LCL的覆盖层OC,因此制造包括基膜BF、取向层AL、液晶层LCL和覆盖层OC的相位差层RL。如上文所述,在一些实施方案中,可以省略取向层AL。
此处,覆盖层OC可以由(但不限于)有机材料或无机材料形成,并且可以用于保护各个液晶层LCL,同时并发地或同步地改善待在覆盖层OC上形成的线性偏振层POL的粘附性。
接下来,如图2D中所示,线性偏振层POL形成在相位差层RL上。
例如,线性偏振层POL形成在相位差层RL的覆盖层OC上。此处,线性偏振层POL可以具有包括PVA的膜形式、通过涂层形成的层形式、金属图案层形式如线栅偏振片WGP,和/或类似物。线性偏振层POL的光轴与相位差层RL的光轴的交叉角可以为45°。
接下来,如图2E中所示,UV吸收剂UL可以形成在基膜BF的后(或底)表面上。在这种情况下,UV吸收剂UL可以以膜的形式附接至基膜BF,或者可以涂覆并且然后固化,但形成UV吸收剂UL的方法不局限于此。
尽管本说明书描述了在已经附接线性偏振层POL之后,在基膜BF的后(或底)表面上形成UV吸收剂UL,但其中可以在基膜BF的后(或底)表面上形成UV吸收剂UL的顺序不局限于此。
根据本公开的一个或多个示例性实施方案,布置在基膜BF的后(或底)表面上的UV吸收剂UL可以在形成在UV吸收剂UL等上布置的触摸传感器的刻蚀过程期间通过例如保护基膜BF而用作阻挡物(stopper)。
接下来,如图2F中所示,可以形成布置在UV吸收剂UL的后(或底)表面上的触摸传感器TS。触摸传感器TS可以包括传感部分和布线部分。
传感部分可以包括透明导电氧化物,如ITO;导电材料和/或导电聚合物材料,如银纳米线(AgNW)和/或PEDOT;含碳的导电材料,如石墨烯和/或碳纳米管CNT;银纳米线(AgNW)和透明导电氧化物(如ITO)的层压物;导电聚合物材料(如PEDOT)和透明导电氧化物(如ITO)的层压物,和/或类似物。在一些实施方案中,传感部分可以包括桥,并且可以包括ITO、IZO、Cu和/或基于Ag-Pd-Cu的材料作为桥。
布线部分可以包括Cu和/或基于Ag-Pd-Cu的材料、Ag,和/或类似物。如上文所述,触摸传感器TS可以以显示设备领域中通常可用的任何合适的形式形成。
在其中传感部分由银纳米线(AgNW)等形成的实施方案中,传感部分还可以包括覆盖层以便改善紧密接触性。例如,覆盖层可以被配置成改善银纳米线(AgNW)和相位差层RL的紧密接触性。
包括在触摸传感器TS中的覆盖层可以通过照射UV光制造,并且照射的UV光可以固化触摸传感器TS的覆盖层,并且可以被布置在触摸传感器TS上的UV吸收剂UL吸收。
在其中不包括UV吸收剂UL的比较性显示设备中,为了固化包括在触摸传感器TS中的覆盖层而照射的UV光可以改变布置在液晶层LCL中的液晶材料与染料之间的取向。然而,根据本公开的示例性实施方案的UV吸收剂UL防止或基本上阻断UV光到达液晶层LCL。
因此,由于照射在相位差层RL上的UV光在制造过程期间基本上不影响相位差层RL的液晶层LCL,因而显示设备的光学特性如透射率和偏振度可以得到改善。
然后,通过上述过程形成的光学装置可以层压在包括有机发光二极管的显示装置上以制造有机发光显示器。
在下文中,将参考图3至图5描述根据本公开的一个或多个其它示例性实施方案的光学装置。图3、图4和图5为根据本公开的一个或多个其它示例性实施方案的光学装置的横截面视图。此处,与上述光学装置的组成元件相同或类似的组成元件的重复描述是不必要的,并且不会被提供。
参考图3,根据本示例性实施方案的光学装置OM可以包括布置在基膜BF上的UV吸收剂UL。此处,UV吸收剂UL可以在制造基膜BF的过程期间与基膜一起形成。
与上述UV吸收剂UL类似,本示例性实施方案的UV吸收剂UL可以由能够吸收照射在触摸传感器TS上的UV光的任何合适的材料形成,并且可以以膜形式实施。
接下来,参考图4,在根据本示例性实施方案的光学装置OM中,UV吸收剂UL可以布置在基膜BF上(例如,在基膜BF的前表面上)。在这种情况下,由于取向层可以布置在基膜BF上,因而UV吸收剂UL可以布置在取向层上。
在本实施方案的制造过程中,由于液晶层LCL在形成UV吸收剂UL之后形成,因而在该过程中利用的UV吸收剂UL不得不经受制造液晶层LCL的过程,包括,例如,添加溶剂和形成温度。
接下来,参考图5,在根据本公开的一个或多个其它示例性实施方案的光学装置OM中,UV吸收剂UL可以布置在液晶层LCL上。在这种情况下,UV吸收剂可以与包括在液晶层LCL中的液晶材料混合。
例如,根据本公开的示例性实施方案的光学装置OM可以包括UV吸收剂,其中UV吸收剂可以但不限于布置在基膜BF上或下、布置为包括在基膜BF中、或者布置在液晶层LCL中。
包括在触摸传感器TS中的覆盖层可以通过UV光的照射形成,并且照射的UV光可以固化触摸传感器TS的覆盖层,并且然后可以被布置在触摸传感器TS上的UV吸收剂UL吸收。
因此,在制造过程期间,照射在相位差层RL上的UV光基本上不影响相位差层RL的液晶层LCL,并且因此显示设备的光学特性如透射率和偏振度可以得到改善。
在下文中,将参考图6至图8描述根据本公开的一个或多个示例性实施方案的有机发光显示器。图6为示出根据本公开的一个或多个示例性实施方案的有机发光显示器的横截面视图,图7为示出图6中示出的相位差层和线性偏振层的光轴的图,以及图8为示出使用线性偏振板和相位延迟器的外部光反射的横截面视图。
如图6中所示,根据本公开的示例性实施方案的有机发光显示器1000包括显示装置DM和光学装置OM。此处,显示装置DM为有机发光显示器,并且光学装置OM可以通过上述根据本公开的示例性实施方案的制造光学装置的方法制造。
光学装置OM可以通过诸如OCA(光学透明粘合剂)的粘合层或诸如PSA(压敏粘合剂)的附接层而附接至显示装置DM,但其附接方法不局限于此,并且光学装置OM可以通过使用包括光刻工艺的MEMS(微机电系统)和/或类似物在显示装置DM上直接形成。
显示装置DM包括第一衬底F1、第一有机发光二极管R、第二有机发光二极管G、第三有机发光二极管B和第二衬底F2。
第一衬底F1可以由玻璃衬底或聚合物膜如聚酰亚胺形成,并且可以具有柔性的、可弯曲的、可卷曲的、可折叠的和/或可伸缩的特性。当第一衬底F1具有柔性的、可弯曲的、可卷曲的、可折叠的和/或可伸缩的特性时,整个有机发光显示器1000可以具有柔性的、可弯曲的、可卷曲的、可折叠的和/或可伸缩的特性。
在第一衬底F1的表面上,可以形成驱动第一有机发光二极管R、第二有机发光二极管G和第三有机发光二极管B中的每一个的驱动器。驱动器可以包括连接至一个或多个栅极布线、一个或多个数据布线、一个有机发光二极管和一个或多个电容器的多个薄膜晶体管,但驱动器不局限于此,并且可以具有本领域中通常可用的任何合适的配置。
第一有机发光二极管R、第二有机发光二极管G和第三有机发光二极管B可以各自包括第一电极、布置在第一电极上的第二电极以及布置在第一电极与第二电极之间的有机发光层,其中选自第一电极和第二电极中的至少一个可以由光透射电极、光半透射电极或光反射电极形成。在根据本公开的示例性实施方案的有机发光显示器1000中,由第一有机发光二极管R、第二有机发光二极管G和第三有机发光二极管B中的每一个发射的光在其中布置有线性偏振层POL的光学装置OM的方向上被输出。第一有机发光二极管R、第二有机发光二极管G和第三有机发光二极管B可以各自独立地以本领域中通常可用的任何合适的形式形成。
虽然在本公开的上述示例性实施方案中,为了方便描述,仅示出三个有机发光二极管,但本公开的实施方案的显示设备不局限于此,并且可以包括两个或四个或多于四个的有机发光二极管,只要所述多个有机发光二极管可以形成一个图像,并且每个有机发光二极管可以形成像素,所述像素为形成图像的最小单位。
在一些实施方案中,第一有机发光二极管R发射具有第一波长的光,第二有机发光二极管G发射具有第二波长的光,并且第三有机发光二极管B发射具有第三波长的光。此处,波长大小从第三波长增加至第一波长,其中第一波长大于第二波长和第三波长中的每一个,以及第二波长大于第三波长。例如,第一有机发光二极管R可以发射红光,第二有机发光二极管G可以发射绿光,以及第三有机发光二极管B可以发射蓝光。
第二衬底F2可以由玻璃衬底、聚合物膜如聚酰亚胺或薄膜封装部分形成,并且在其中第二衬底F2由薄膜封装部分形成的情况下,包括在第二衬底F2中的一个或多个有机层和一个或多个无机层可以被交替地层压。
在一些实施方案中,有机发光显示器1000的光学装置OM包括触摸传感器TS、相位差层RL和线性偏振层POL。
触摸传感器TS可以包括传感部分和布线部分。传感部分可以被布置成对应于显示区域,在显示区域中显示装置DM的有机发光二极管被布置成显示图像,并且布线部分可以被布置成对应于与显示区域相邻的非显示区域。
传感部分可以包括透明导电氧化物,如ITO;导电材料和/或导电聚合物材料,如银纳米线(AgNW)和/或PEDOT;含碳的导电材料,如石墨烯和/或碳纳米管CNT;银纳米线(AgNW)和透明导电氧化物(如ITO)的层压物;导电聚合物材料(如PEDOT)和透明导电氧化物(如ITO)的层压物,和/或类似物。此外,传感部分可以包括桥,并且可以包括ITO、IZO、Cu和/或基于Ag-Pd-Cu的材料作为桥。布线部分可以包括Cu和/或基于Ag-Pd-Cu的材料、Ag和/或类似物。然而,触摸传感器TS不局限于此,并且可以以显示设备领域中通常可用的任何合适的形式形成。
在其中传感部分由银纳米线(AgNW)和/或类似物形成的实施方案中,传感部分还可以包括覆盖层以便改善紧密接触性。例如,覆盖层可以被配置成改善银纳米线(AgNW)和相位差层RL的紧密接触性。
覆盖层可以通过照射UV光制造,并且照射的UV光可以固化触摸传感器TS的覆盖层以及可以被布置在触摸传感器TS上的UV吸收剂UL吸收。
在一些实施方案中,相位差层RL具有总的λ/4相位差值(例如,相位差层RL可以为四分之一波片),并且包括UV吸收剂UL、布置在UV吸收剂UL上的基膜BF、布置在基膜BF上的液晶层LCL以及布置在液晶层LCL上的覆盖层OC。
虽然已在图6中示出包括光学装置OM的有机发光显示器1000,但本公开的示例性实施方案不局限于此,并且有机发光显示器可以包括根据本公开的任何上述示例性实施方案的光学装置OM。
在一些实施方案中,相位差层RL还可以包括布置在液晶层LCL与基膜BF之间的取向层,但不局限于此。
图7为示出图6中示出的相位差层和线性偏振层的光轴的图。
如图7中所示,基膜BF和液晶层LCL的光轴各自与线性偏振层POL的光轴形成45°的交叉角,并且因此,相位差层RL的光轴与线性偏振层POL的光轴形成45°的交叉角,从而抑制(或基本上抑制)外部光反射。此外,当基膜BF具有10nm或小于10nm的厚度时,可以抑制或降低透过基膜BF的光中延迟的出现。
在下文中,将参考图8描述使用本实施方案的线性偏振板和相位延迟器可以基本上抑制或降低外部光反射的原理。
如图8A中所示,当外部光OL经过线性偏振层POL时,以与线性偏振层POL的线性偏振轴不相同(例如,平行或基本上平行)的方向入射在线性偏振层POL上的光被线性偏振层POL吸收,并且因此,当经过线性偏振层POL时,外部光OL变为线性偏振的。
然后,当经过λ/4相位延迟器时,线性偏振的外部光OL可以为圆偏振的,以提供具有红色波长(例如,对应于红光的波长)的光RW、具有绿色波长(例如,对应于绿光的波长)的光GW以及具有蓝色波长(例如,对应于蓝光的波长)的光BW。
接下来,现参考图8B,具有红色波长的光RW、具有绿色波长的光GW以及具有蓝色波长的光BW被反射在有机发光二极管OLED上,当再次经过λ/4相位延迟器(例如,两次)时,具有红色波长的光RW、具有绿色波长的光GW以及具有蓝色波长的光BW各自被延迟180°并且为线性偏振的,并且被线性偏振层POL吸收。
总之,即使照射UV光以制造触摸传感器TS,根据本公开的示例性实施方案的光学装置可以通过包括在相位差层中的UV吸收剂而最小化或降低UV光对液晶层的影响。
因此,在根据本公开的一个或多个示例性实施方案的光学装置以及包括该光学装置的有机发光显示器中,可以改善偏振特性和光学特性如透射率。此外,根据本公开的一个或多个示例性实施方案的光学装置以及包括该光学装置的有机发光显示器可以具有优异的外部光抗反射特性和柔性。
虽然已经关于目前所被认为是实用的示例性实施方案来描述了本公开,但对本领域技术人员容易理解的是,本公开不限于公开的实施方案,而相反,旨在涵盖包括在所附的权利要求及其等同物的精神和范围内的各种改变和等同布置。
如本文所用,术语“使用”可以被认为分别与术语“利用”同义。另外,术语“基本上”、“约”和类似术语被用作近似的术语且不用作程度的术语,并旨在说明本领域普通技术人员会认识到的测量值或计算值中的固有偏差。
另外,本文所列举的任何数值范围旨在包括所列举的范围内所包含的相同数值精度的所有子范围。例如,“1.0至10.0”的范围旨在包括在所列举的最小值1.0与所列举的最大值10.0之间(并且包括所列举的最小值1.0与所列举的最大值10.0)的所有子范围,即,具有等于或大于1.0的最小值以及等于或小于10.0的最大值,诸如,例如2.4至7.6。本文列举的任何最大数值限制旨在包括其中所包含的所有较低的数值限制,并且在本说明书中列举的任何最小数值限制旨在包括其中所包含的所有较高的数值限制。因此,申请人保留了修改包括权利要求在内的本说明书的权利以明确列举本文所明确列举的范围内所包含的任何子范围。
符号说明
显示装置:DM 光学装置:OM
相位差层:RL 覆盖层:OC
线性偏振层:POL 液晶层:LCL
基膜:BF UV吸收剂:UL
触摸传感器:TS 取向层:AL
第一衬底:F1 第二衬底:F2
第一有机发光二极管:R 第二有机发光二极管:G
第三有机发光二极管:B 具有红色波长的光:RW
具有绿色波长的光:GW 具有蓝色波长的光:BW
Claims (10)
1.光学装置,包括:
包括UV吸收剂的相位差层,以及
在所述相位差层上的线性偏振层,
其中所述相位差层还包括:
基膜,
液晶层,以及
在所述液晶层上的覆盖层。
2.如权利要求1所述的光学装置,其中:
所述UV吸收剂在所述基膜的后表面以及所述基膜的前表面之一上。
3.如权利要求2所述的光学装置,其中:
所述基膜和所述液晶层中的至少一个包括所述UV吸收剂。
4.如权利要求1所述的光学装置,其中所述UV吸收剂包括选自由化学式1和化学式2中的任一个表示的化合物中的至少一个:
化学式1
化学式2,
其中R1至R5各自独立地为取代基或氢原子,并且所述取代基选自烷基、环烷基、芳基、酰氨基、烷硫基、芳硫基、烯基、卤素原子、炔基、杂环基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、膦酰基、酰基、氨甲酰基、氨磺酰基、磺酰胺基、氰基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、甲硅烷氧基、酰氧基、磺酸基、氨基羰基氧基、氨基、苯胺基、酰亚胺基、酰脲基、烷氧基羰基氨基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂环硫基、硫酰脲基、羧基、羟基、巯基和硝基,
其中所述UV吸收剂还包括由化学式3表示的化合物:
化学式3,
其中R1至R3各自独立地为取代基或氢原子,并且所述取代基选自烷基、环烷基、芳基、酰氨基、烷硫基、芳硫基、烯基、卤素原子、炔基、杂环基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、膦酰基、酰基、氨甲酰基、氨磺酰基、磺酰胺基、氰基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、甲硅烷氧基、酰氧基、磺酸基、氨基羰基氧基、氨基、苯胺基、酰亚胺基、酰脲基、烷氧基羰基氨基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂环硫基、硫酰脲基、羧基、羟基、巯基和硝基。
5.有机发光显示器,包括:
光学装置,以及
在所述光学装置的后表面上的显示面板,
其中所述光学装置包括:
包括UV吸收剂的相位差层,以及
在所述相位差层上的线性偏振层,
其中所述相位差层还包括:
基膜,
液晶层,以及
在所述液晶层上的覆盖层。
6.如权利要求5所述的有机发光显示器,其中:
所述UV吸收剂在所述基膜的后表面以及所述基膜的前表面之一上。
7.如权利要求6所述的有机发光显示器,其中:
所述基膜和所述液晶层中的至少一个包括所述UV吸收剂。
8.如权利要求5所述的有机发光显示器,其中:
所述UV吸收剂包括选自由化学式1和化学式2中任一个表示的化合物中的至少一个:
化学式1
化学式2,
其中R1至R5各自独立地为取代基或氢原子,并且所述取代基选自烷基、环烷基、芳基、酰氨基、烷硫基、芳硫基、烯基、卤素原子、炔基、杂环基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、膦酰基、酰基、氨甲酰基、氨磺酰基、磺酰胺基、氰基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、甲硅烷氧基、酰氧基、磺酸基、氨基羰基氧基、氨基、苯胺基、酰亚胺基、酰脲基、烷氧基羰基氨基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂环硫基、硫酰脲基、羧基、羟基、巯基和硝基,
其中:
所述UV吸收剂还包括由化学式3表示的化合物:
化学式3,
其中R1至R3各自独立地为取代基或氢原子,并且所述取代基选自烷基、环烷基、芳基、酰氨基、烷硫基、芳硫基、烯基、卤素原子、炔基、杂环基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、膦酰基、酰基、氨甲酰基、氨磺酰基、磺酰胺基、氰基、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、甲硅烷氧基、酰氧基、磺酸基、氨基羰基氧基、氨基、苯胺基、酰亚胺基、酰脲基、烷氧基羰基氨基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂环硫基、硫酰脲基、羧基、羟基、巯基和硝基。
9.如权利要求8所述的有机发光显示器,还包括:
在所述基膜的后表面上的触摸传感器。
10.如权利要求9所述的有机发光显示器,其中:
所述相位差层具有λ/4相位差值。
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