CN105992575B - 吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置以及超声波熔敷方法 - Google Patents

Abstract

一种超声波熔敷装置，对卷附在绕中心轴旋转的旋转部件的外周面上而被搬运的片状部件进行超声波熔敷处理。具备所述旋转部件以及与所述旋转部件一起绕所述中心轴旋转的超声波处理单元。超声波处理单元具有进行超声波振动的振动头和与振动头夹入片状部件的砧辊。振动头和砧辊之中的至少一方的超声波处理部件以在与片状部件的搬运方向交叉的CD方向上能够往复移动的方式被引导，并且，超声波处理部件相对于片状部件的卷附于旋转部件的部分在CD方向上进行往复移动。所述旋转部件的所述外周面在CD方向上彼此不同的位置具有第一区间和第二区间。使当所述超声波处理部件在往复移动的去程和回程之中的任意一方的路径上通过第一区间时投入CD方向上的单位长度的超声波能量的大小(J/m)与当所述超声波处理部件在所述去程和所述回程之中的任意一方的路径上通过第二区间时投入CD方向上的单位长度的超声波能量的大小(J/m)不同。

Description

吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置以及超声波熔敷 方法

技术领域

本发明涉及利用超声波振动对一次性尿片等吸收性物品的片状部件进行熔敷的超声波熔敷装置以及超声波熔敷方法。

背景技术

以往，在一次性尿片等吸收性物品的生产线上，对由多张无纺布等的连续片重合而成的片状部件1a实施熔敷处理，来将这些连续片接合。作为进行这种熔敷处理的装置120的一例，在专利文献1中公开了超声波熔敷装置120。并且，在该装置120中，通过向片状部件1a投入超声波能量，从而产生摩擦热来对该片状部件1a进行熔敷。

图1A是该装置120的概略立体图。该装置120具备绕中心轴C130旋转的旋转滚筒130。并且，在旋转滚筒130的外周面130s上卷附着作为熔敷对象的片状部件1a(参照图1A中的双点划线)，该旋转滚筒130绕上述中心轴C130旋转，由此，该片状部件1a与旋转滚筒130的外周面130s大致成为一体地被搬运。

另外，该装置120也具备超声波处理单元160，该单元160与旋转滚筒130成为一体地绕上述中心轴C130旋转。并且，在该旋转过程中，该单元160对片状部件1a进行超声波熔敷处理。

即，该单元160具有条状的砧座171和辊状的振动头161，所述砧座171在旋转滚筒130的外周面130s上沿与搬运方向正交的CD方向延伸设置，所述辊状的振动头161配置在比砧座171靠旋转滚筒130的旋转半径方向的外方的位置，并进行超声波振动。并且，该振动头161和砧座171这两者在与旋转滚筒130和片状部件1a一起绕上述中心轴C130旋转的过程中，辊状的振动头161沿CD方向在砧座171上滚动，并在CD方向上往复移动，此时，该振动头161对片状部件1a的置于砧座171上的部分1ap投入超声波能量，从而对该部分1ap进行熔敷。

在先技术文献

专利文献

专利文献1:日本特表平10－513128号

发明内容

发明要解决的课题

但是，在专利文献1中，关于在往复移动中投入的超声波能量的大小没有公开。

这里，在CD方向上位置相互不同的区间A1a4、A1a6彼此间，如果能够在CD方向上使投入单位长度的超声波能量的大小(J/m)不同，则能够解决规定的问题，十分方便。图1B是其说明图，是表示片状部件1a的厚度方向的结构的概略剖视图(图1A中的B－B剖视图)。

例如，如该图1B所示，当在片状部件1a上连续片的层叠张数根据CD方向的位置而不同的情况下，与该CD方向上的位置相应地，片状部件1a的熔敷所需要的超声波能量的大小(J/m)不同。用具体例子来说，当在CD方向上存在层叠张数为六张的部分1a6和四张的部分1a4的情况下，六张的部分1a6的熔敷所需要的超声波能量的大小(J/m)比四张的部分1a4的熔敷所需要的超声波能量的大小(J/m)大。

因此，假设在无法根据CD方向的位置而变更超声波能量的大小(J/m)的情况下，不得不以适合于四张的部分1a4和六张的部分1a6中的某一方的大小(J/m)来投入超声波能量。

但是，在该情况下，如果以四张的部分1a4用的超声波能量的大小(J/m)来对六张的部分1a6进行熔敷，则存在超声波能量的投入不足而导致接合不良的隐患，相反，如果以六张的部分1a6用的超声波能量的大小(J/m)对四张的部分1a4进行熔敷，则存在超声波能量的投入过剩而导致该部分1a4熔损的隐患。

并且，如果能够按照每个设定于CD方向上的不同位置的区间A1a4、A1a6地使超声波能量的大小(J/m)不同，就能够解决该问题。

另外，即使构成片状部件1a的连续片的层叠张数在整个CD方向上是相同张数，也存在想要根据CD方向的位置而使熔敷强度不同的情况。并且，在该情况下，在片状部件1a上的想要提高熔敷强度的部分，使投入CD方向上单位长度的超声波能量的大小(J/m)变大，另一方面，在想要降低熔敷强度的部分，使投入CD方向上单位长度的超声波能量的大小(J/m)变小。

本发明是鉴于上述那样以往的问题而做出的，其目的在于，在CD方向上的位置彼此不同的第一区间和第二区间，在使熔敷所需要的超声波能量的大小(J/m)彼此不同的情况下，提供优选能够使用的超声波熔敷装置和超声波熔敷方法。

用于解决课题的手段

用于达成上述目的的主要的发明是：

一种超声波熔敷装置，该超声波熔敷装置对卷附在绕中心轴旋转的旋转部件的外周面上而被搬运的片状部件进行超声波熔敷处理，其特征在于，具备：

所述旋转部件；以及

与所述旋转部件一起绕所述中心轴旋转的超声波处理单元，

所述超声波处理单元具有进行超声波振动的振动头和与所述振动头夹入所述片状部件的砧辊，

所述振动头和所述砧辊之中的至少一方的超声波处理部件以在与所述片状部件的搬运方向交叉的CD方向上能够往复移动的方式被引导，并且，所述超声波处理部件相对于所述片状部件的卷附于所述旋转部件的部分在所述CD方向上进行往复移动，

所述旋转部件的所述外周面在所述CD方向上的彼此不同的位置上具有第一区间和第二区间，

具有超声波能量调整部，所述超声波能量调整部使当所述超声波处理部件在所述往复移动的去程和回程之中的任意一方的路径上通过所述第一区间时投入所述CD方向上的单位长度的超声波能量的大小(J/m)与当所述超声波处理部件在所述去程和所述回程之中的任意一方的路径上通过所述第二区间时投入所述CD方向上的单位长度的超声波能量的大小(J/m)不同。

另外，本发明是一种超声波熔敷方法，其对卷附在绕中心轴旋转的旋转部件的外周面上而被搬运的片状部件进行超声波熔敷处理，所述超声波熔敷方法的特征在于，具有如下操作：

使超声波处理单元与所述旋转部件一起绕所述中心轴旋转；

所述超声波处理单元所具备的振动头进行超声波振动；

所述振动头和所述砧辊之中的至少一方的超声波处理部件同与所述振动头相对配置的砧辊夹入所述片状部件，并相对于所述片状部件的卷附在所述旋转部件上的部分在所述CD方向上进行往复移动，

所述旋转部件的所述外周面在所述CD方向上彼此不同的位置上具有第一区间和第二区间，

使当所述超声波处理部件在所述往复移动的去程和回程之中的任意一方的路径上通过所述第一区间时投入所述CD方向上的单位长度的超声波能量的大小(J/m)与当所述超声波处理部件在所述去程和所述回程之中的任意一方的路径上通过所述第二区间时投入所述CD方向上的单位长度的超声波能量的大小(J/m)不同。

关于本发明的其它的特征，通过本说明书和附图的记载来明确。

发明的效果

根据本发明，能够提供在CD方向上的位置彼此不同的第一区间和第二区间中熔敷所需要的超声波能量的大小(J/m)彼此不同的情况下能够适合使用的超声波熔敷装置和超声波熔敷方法。

附图说明

图1中，图1A是以往的超声波熔敷装置120的概略立体图，图1B是图1A中的B－B剖视图。

图2A是尿片1的基材1a被两折前的状态下的概略立体图。

图2B是该基材1a被两折后即将向第一实施方式的超声波熔敷装置20被搬运之前的状态下的概略立体图。

图2C是图2A中的C－C剖视图。

图2D是图2B中的D－D剖视图

图3是从前斜上方观察第一实施方式的超声波熔敷装置20概略立体图。

图4是沿图3中的IV－IV箭头的概略侧视图。

图5是沿图3中的V－V箭头的概略主视图。

图6是在图4中将基材1a和旋转滚筒30拆下并且将一部分的结构切断而表示的概略侧视图。

图7中、图7A是从旋转半径方向Dr30的外方斜前方观察支承单元73的概略立体图、图7B是从外方斜后方观察该单元73的概略立体图。

图8是用于说明将作为去程的移动动作的前进动作和作为回程的移动动作的后退动作分配给旋转方向Dc30的哪个范围的、超声波熔敷装置20的概略主视图。

图9是砧辊71的概略立体图。

图10中，图10A是表示卷附于旋转滚筒30的外周面30s的基材1a与振动头61的相对位置关系的概略图、图10B是图10A中的B－B剖视图。

图11中，图11A是表示在基材1a的CD方向的端缘部1ae1产生熔敷屑的问题的形象图，图11B是表示使该熔敷屑在基材1a的CD方向的中央产生而解决的形象图。

图12A是从旋转滚筒30的旋转方向Dc30观察第二变形例的超声波处理单元60a的情况的概略图。

图12B是第三变形例的凸轮曲线的说明图、超声波熔敷装置20的概略主视图。

图13是从前斜上方观察第二实施方式的超声波熔敷装置20b的概略立体图。

图14是图13中的XIV－XIV箭头的概略侧视图。

图15是图13中的XV－XV箭头的概略主视图。

图16是在图14中将基材1a和旋转滚筒30拆下而表示的概略侧视图。

图17中，图17A是从旋转半径方向Dr30的外方斜前方观察第二实施方式的超声波处理单元60b的概略立体图，图17B是从外方斜后方观察该单元60b的概略立体图。

图18是表示第二实施方式的振动头61b与砧辊71的配置关系的其它例的超声波处理单元60c的概略立体图。

图19中、图19A是在尿片1的宽度方向的侧端部1e具有熔敷强度不同的多个部分1P1BH、1P1C、1P1LH的一例的概略俯视图，图19B是表示该尿片1的基材1a卷附于超声波熔敷装置20的旋转滚筒30的状态的概略图。

具体实施方式

根据本说明书和附图的记载，至少明确了以下的事项。

一种超声波熔敷装置，该超声波熔敷装置对卷附在绕中心轴旋转的旋转部件的外周面上而被搬运的片状部件进行超声波熔敷处理，其特征在于，具备：

所述旋转部件；以及

与所述旋转部件一起绕所述中心轴旋转的超声波处理单元，

所述超声波处理单元具有进行超声波振动的振动头和与所述振动头夹入所述片状部件的砧辊，

所述振动头和所述砧辊之中的至少一方的超声波处理部件以在与所述片状部件的搬运方向交叉的CD方向上能够往复移动的方式被引导，并且，所述超声波处理部件相对于所述片状部件的卷附于所述旋转部件的部分在所述CD方向上进行往复移动，

所述旋转部件的所述外周面在所述CD方向上的彼此不同的位置上具有第一区间和第二区间，

具有超声波能量调整部，所述超声波能量调整部使当所述超声波处理部件在所述往复移动的去程和回程之中的任意一方的路径上通过所述第一区间时投入所述CD方向上的单位长度的超声波能量的大小(J/m)与当所述超声波处理部件在所述去程和所述回程之中的任意一方的路径上通过所述第二区间时投入所述CD方向上的单位长度的超声波能量的大小(J/m)不同。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，在CD方向上的位置彼此不同的第一区间和第二区间，使投入的超声波能量的大小(J/m)彼此不同。因此，对于熔敷所需要的超声波能量的大小(J/m)在与第一区间对应的部分和与第二区间对应的部分不同的片状部件，能够适当地进行熔敷处理。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，优选地：

当所述超声波处理部件在所述往复移动的去程和回程之中的任意一方的路径上通过所述第一区间和所述第二区间时，在所述片状部件上的与所述第一区间对应的第一部分和与所述第二区间对应的第二部分分别投入对应的大小(J/m)的所述超声波能量，由此，对所述第一部分和所述第二部分分别进行熔敷。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，在去程和回程之中的任意一方的路径上，将熔敷所需要的大小(J/m)的超声波能量投入第一区间和第二区间。因此，能够有效地防止在第一区间中熔敷所需要的超声波能量和在第二区间中熔敷所需要的超声波能量对于第一区间或者第二区间的一部分双重地投入的情况。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，优选地：

当所述超声波处理部件在所述往复移动的去程和回程之中的任意一方的路径上通过所述第一区间时，在所述片状部件上的与所述第一区间对应的第一部分投入对应的大小(J/m)的所述超声波能量，由此，对所述第一部分进行熔敷，

当所述超声波处理部件在所述往复移动的去程和回程之中的另一方的路径上通过所述第二区间时，在所述片状部件上的与所述第二区间对应的第二部分投入对应的大小(J/m)的所述超声波能量，由此，对所述第二部分进行熔敷，

在所述去程中，在通过所述第一区间之后通过所述第二区间，并且在所述去程中的所述第二区间对所述第二部分不进行熔敷，

在所述回程中，在通过所述第二区间之后通过所述第一区间，并且在所述回程中的所述第一区间对所述第一部分不进行熔敷。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，优选地：当超声波处理部件在去程中通过第一区间时，对片状部件的第一部分进行熔敷，然后在该去程中通过的第二区间中，对片状部件的第二部分不进行熔敷。因此，能够可靠地防止在去程路径中熔敷屑从片状部件的CD方向的端缘部伸出并残留的情况。另外，同样地，当超声波处理部件在回程中通过第二区间时，对片状部件的第二部分进行熔敷，然后在该回程中通过的第一区间中，对片状部件的第一部分不进行熔敷。因此，能够可靠地防止在回程中熔敷屑从片状部件的CD方向的端缘部伸出并残留的情况。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，优选地：

所述片状部件具有沿厚度方向层叠的多张片材，

所述片状部件在所述CD方向上排列并具有所述片材的层叠张数不同的多个部分，

在将所述多个部分中所述层叠张数多的部分作为第一部分，将所述层叠张数比所述第一部分少的部分作为第二部分的情况下，

使所述第一区间与所述第一部分对应，使所述第二区间与所述第二部分对应，

所述第一区间中投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)比所述第二区间中投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)大。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，投入层叠张数多的第一部分的超声波能量的大小(J/m)比投入层叠张数少的第二部分的超声波能量的大小(J/m)大。因此，能够将适合于第一部分和第二部分各自的熔敷的大小(J/m)的超声波能量分别投入第一部分和第二部分。并且，结果是，能够有效地防止由于向第一部分投入的超声波能量的投入不足而造成的接合不良、以及由于向第二部分投入的超声波能量的投入过剩而造成的熔损等缺陷。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，优选地：

所述片状部件在CD方向上排列具有应使彼此的熔敷强度不同的多个部分，

将所述多个部分中应使所述熔敷强度高的部分作为第一部分，将应使所述熔敷强度比所述第一部分低的部分作为第二部分的情况下，

使所述第一区间与所述第一部分对应，使所述第二区间与所述第二部分对应，

所述第一区间中投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)比所述第二区间中投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)大。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，在需要高的熔敷强度的第一部分以大的大小(J/m)投入超声波能量，在需要低的熔敷强度的第二部分以小的大小(J/m)投入超声波能量。因此，能够使第一部分的熔敷强度比第二部分的熔敷强度高。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，优选地：

所述超声波能量调整部通过所述振动头的超声波振动的振幅的变更来进行投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)的变更。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，根据超声波振动的振幅的变更来进行超声波能量的大小(J/m)的变更，因此，能够容易且高应答性地进行该超声波能量的大小(J/m)的变更。并且，由此，对于第一区间和第二区间，能够迅速地分别投入对应的大小(J/m)的超声波能量。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，优选地：

所述超声波能量调整部通过对用所述振动头和所述砧辊夹入所述片状部件的夹入力的大小进行变更，从而进行投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)的变更。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，通过上述的夹入力的大小的变更来进行超声波能量的大小(J/m)的变更，因此，能够容易且可靠地进行该超声波能量的大小(J/m)的变更。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，优选地：

所述超声波能量调整部通过对所述振动头和所述砧辊之间的间隙的大小进行变更，从而进行投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)的变更。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，通过振动头与砧辊之间的间隙的大小的变更来进行超声波能量的大小(J/m)的变更，因此，能够容易且可靠地进行该超声波能量的大小(J/m)的变更。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，优选地：

所述超声波能量调整部通过对所述超声波处理部件在所述CD方向上的移动速度值进行变更，从而进行投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)的变更。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，通过超声波处理部件在CD方向上的移动速度值的变更来进行超声波能量的大小(J/m)的变更，因此，能够可靠地进行该超声波能量的大小(J/m)的变更。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，优选地：

所述振动头和所述砧辊之中的所述一方的超声波处理部件具有辊部件，所述辊部件配置在比所述旋转部件的所述外周面靠外方的位置，并且能够旋转，

所述辊部件一边在条状部件上滚动一边在所述CD方向上移动，所述条状部件作为另一方的超声波处理部件，在所述旋转部件的所述外周面上以不能相对移动的方式沿所述CD方向延伸设置。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，作为另一个超声波处理部件的条状部件与旋转部件的外周面不能相对移动地设置。因此，该另一个超声波处理部件能够将卷附于该外周面的片状部件之间的相对的位置关系维持为恒定的状态。并且，其结果是，能够实现超声波熔敷处理的稳定化。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，优选地：

在所述振动头和所述砧辊夹入所述片状部件的状态下，所述振动头和所述砧辊这两者在所述CD方向上往复移动。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，振动头和砧辊这两者相对于片状部件在CD方向上相对移动。因此，通过在CD方向的往复移动中与片状部件的抵接，能够将由于超声波熔敷处理而至少附着和可能堆积于振动头的熔敷渣依次擦去，其结果是，能够有效地防止振动头处的熔敷渣的堆积。

另外，本发明是一种超声波熔敷方法，其对卷附在绕中心轴旋转的旋转部件的外周面上而被搬运的片状部件进行超声波熔敷处理，所述超声波熔敷方法的特征在于，具有如下操作：

使超声波处理单元与所述旋转部件一起绕所述中心轴旋转；

所述超声波处理单元所具备的振动头进行超声波振动；

所述振动头和所述砧辊之中的至少一方的超声波处理部件同与所述振动头相对配置的砧辊夹入所述片状部件，并相对于所述片状部件的卷附在所述旋转部件上的部分在所述CD方向上进行往复移动，

所述旋转部件的所述外周面在所述CD方向上彼此不同的位置上具有第一区间和第二区间，

使当所述超声波处理部件在所述往复移动的去程和回程之中的任意一方的路径上通过所述第一区间时投入所述CD方向上的单位长度的超声波能量的大小(J/m)与当所述超声波处理部件在所述去程和所述回程之中的任意一方的路径上通过所述第二区间时投入所述CD方向上的单位长度的超声波能量的大小(J/m)不同。

根据这样的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷方法，使在CD方向上的位置彼此不同的第一区间和第二区间中投入的超声波能量的大小(J/m)彼此不同。因此，对于在与第一区间对应的部分和与第二区间对应的部分熔敷所需要的超声波能量的大小(J/m)彼此不同的片状部件，能够适当地进行熔敷处理。

＝＝＝第一实施方式＝＝＝

本发明的超声波熔敷装置20是针对在生产线上被搬运的连续的片状部件1a、沿其搬运方向空出间隔并以例如规定间距P1形成熔敷部14的装置。并且，这里，作为该片状部件1a，例示了内裤型一次性尿片1的基材1a。

图2A和图2B是向超声波熔敷装置20被搬运的尿片1的基材1a的说明图，两个图都是概略立体图。此外，图2A表示尿片1的基材1a被两折之前的状态，图2B表示该基材1a被两折后且即将向超声波熔敷装置20被搬运之前的状态。另外，图2C是图2A中的C－C剖视图，图2D是图2B中的D－D剖视图，在这两图中均未图示吸收性主体4、腿围弹性部件6和腰围弹性部件7。

尿片1的基材1a具有沿搬运方向连续的连续片2a。并且，在图2A的时刻，处于吸收性主体4、4沿搬运方向以产品间距P1空出间隔地载置于该连续片2a的穿用者的皮肤侧面上、并通过粘接等接合的状态。

另外，在该时刻的基材1a上，在沿搬运方向彼此相邻的吸收性主体4、4彼此之间的位置形成有腿围开口部1LH。并且，对腿围开口部1LH赋予伸缩性的腿围弹性部件6沿着该腿围开口部1LH贴合，此外，对腰围开口部1BH赋予伸缩性的腰围弹性部件7也沿着应成为腰围开口部1BH的各端缘部1ae、1ae贴合。

作为连续片2a，使用例如双层构造的片材2a(参照图2C)。即，该连续片2a具有在穿用尿片1时朝向穿用者的皮肤侧而形成内层的连续片2a1(以下也称为内层片2a1)、以及在穿用时朝向非皮肤侧而形成外层的连续片2a2(以下也称为外层片2a2)，这些内层片2a1和外层片2a2沿着厚度方向重合，并通过粘接或熔敷等接合。

另外，在本例中，使外层片2a2的宽度方向比内层片2a1大，由此，在将内层片2a1重合在外层片2a2上的状态下，外层片2a2比内层片2a1的宽度方向的两端部2a1e、2a1e向外方伸出。并且，该伸出的各部分2a2e、2a2e分别向宽度方向的内侧折返，由此，如图2C所示，该各部分2a2e、2a2e覆盖内层片2a1的宽度方向的各端部2a1e、2a1e。因此，连续片2a的宽度方向上的各端部2ae、2ae分别成为三张重叠的三层构造。即，准确地说，连续片2a上的各端部2ae、2ae以外的部分2an成为两张重叠的的双层构造。

作为该内层和外层片2a1、2a2的原材料例，列举由热塑性树脂等热熔敷性原材料形成的无纺布或织布、薄膜等，但只要是能够进行超声波熔敷的原材料，即能够通过投入超声波能量从而利用摩擦放热而熔融并接合的原材料，则不限定于此。

另一方面，吸收性主体4是吸收排泄液体的部件，以将纸浆纤维等液体吸收性纤维或高吸收性聚合物等液体吸收性粒状物成型为大致沙漏形状等规定形状而成的成型体作为主体。并且，该成型体由薄纸或无纺布等透液性的覆盖片材(未图示)覆盖，此外，该成型体的非皮肤侧由不透液性的防漏片材覆盖。

并且，这样的图2A的基材1a在即将被送入超声波熔敷装置20之前，以其宽度方向的大致中央部即裆部13作为折叠位置而被两折。并且，由此，该基材1a以图2B那样的两折状态被送到超声波熔敷装置20。即，尿片1以相当于前身部10的部分和相当于后身部11的部分上下重合的状态向超声波熔敷装置20被搬运。

但是，在该时刻的尿片1的基材1a中，相互重合的相当于前身部10的部分和相当于后身部11的部分处于尚未接合的状态。因此，针对该基材1a，通过用超声波熔敷装置20对尿片1的相当于腰围的侧端部1e的部分1e实施熔敷处理而形成熔敷部14，从而将基材1a的前身部10和后身部11接合。

这里，该熔敷对象部分1e、即相当于尿片1的腰围的侧端部1e的部分1e在基材1a上的吸收性主体4的两旁的位置上，沿搬运方向以产品间距P1呈现。因此，超声波熔敷装置20在基材1a的吸收性主体4的两旁的部分1e沿搬运方向以产品间距P1形成熔敷部14。此外，此时，如图2B所示，对于每个熔敷对象部分1e，至少一对熔敷部14、14沿搬运方向并排形成。并且，形成有这样的熔敷部14的基材1a被送向下个工序，在该下个工序中，基材1a在上述一对熔敷部14、14彼此之间的部分1c依次被断开，由此，做出具有腰围开口部1BH和腿围开口部1LH的尿片1。

不过，在图2A的状态即基材1a被两折之前的状态下，参照图2C，如所述的那样，基材1a的连续片2a具有三张重叠的部分2ae和两张重叠的部分2an。并且，在如图2B那样基材1a被两折时，如图2D所示地，三张重叠的部分2ae、2ae彼此重合，两张重叠的部分2an、2an彼此重合，因此，两折后的基材1a处于具有六张重叠的部分1a6(相当于第一部分)和四张重叠的部分1a4(相当于第二部分)的状态。因此，上述的基材1a的熔敷对象部分1e也具有六张重叠的部分1a6和四张重叠的部分1a4，超声波熔敷装置20要针对这种片材2a1、2a2…的层叠张数不同的各部分1a4、1a6分别进行熔敷处理，这与后述的本发明的特征的结构有关。

图3是从前斜上方观察超声波熔敷装置20的概略立体图，图4是沿图3中的IV－IV箭头的概略侧视图，图5是沿图3中的V－V箭头的概略主视图。另外，图6是在图4中将基材1a和旋转滚筒30拆下并将柱体41等的一部分的结构切断而表示的概略侧视图。

此外，在以下的说明中，将与基材1a在生产线上的搬运方向正交的方向也称为“CD方向”。在本例中，CD方向朝向水平方向。另外，基材1a沿该基材1a所连续的连续方向而被搬运，在设计上，该基材1a的宽度方向与上述的CD方向是平行关系。此外，基材1a的厚度方向与基材1a的连续方向以及宽度方向这两者是正交关系。

如图3和图5所示，该超声波熔敷装置20具备：大致圆筒形状的旋转滚筒30(相当于旋转部件)，该旋转滚筒30绕着沿CD方向的中心轴C30朝单方向旋转；多个(在本例中是四个)超声波处理单元60、60…，该多个超声波处理单元60、60…与该旋转滚筒30一起绕上述中心轴C30旋转；以及一对引导滚筒90a、90b，该一对引导滚筒90a、90b用于将从上个工序搬运来的基材1a遍及旋转方向Dc30的规定范围Rw(图8)地卷附于旋转滚筒30的外周面30s，同时向下个工序送出。

并且，旋转滚筒30以与从上个工序搬运来的基材1a的搬运速度值(m/分)大致相同的周速值(m/分)驱动旋转。因此，旋转滚筒30的外周面30s以与基材1a基本没有相对滑动的状态将该基材1a进行卷附并沿外周面30s搬运，并且，在基材1a移动过上述规定范围Rw之后，使该基材1a从外周面30s离开并向下个工序送出。

此外，以下，为了易于说明，以旋转滚筒30的周速值(m/分)恒定为前提进行说明。即，在实际的生产线上，旋转滚筒30的周速值(m/分)可能发生变化。例如，在生产线启动时或停止时以及突发故障时等，旋转滚筒30以与作为定常速度值的恒定的周速值(m/分)不同的周速值进行旋转。但是，在制造尿片1的运转时间的大半之中，旋转滚筒30以上述的作为定常速度值的恒定的周速值(m/分)旋转，与此相比，像启动时等那样以非定常的速度值旋转的时间极少。因此，即便基于上述前提来进行说明，也不会妨碍对本发明的概念的理解，因此，以下在该前提下进行说明。

如图3和图5所示，各超声波处理单元60、60…在旋转滚筒30的旋转方向Dc30上每隔规定角度(例如90°)地设置。并且，各超声波处理单元60分别具有振动头61和辊状的砧辊71(相当于辊部件)，该振动头61以不能相对移动的方式配置于旋转滚筒30的外周面30s并进行超声波振动，该砧辊71为了与该振动头61共同地夹入基材1a而配置于比振动头61靠旋转滚筒30的旋转半径方向Dr30的外方的位置。

这里，振动头61沿CD方向延伸设置而形成条状，并且辊状的砧辊71(以下也称为砧辊71)能够相对于该条状的振动头61(相当于条状部件)在CD方向上滚动，由此，该砧辊71能够相对于基材1a的置于振动头61上的部分1ap沿CD方向往复移动。因此，在这样的往复移动的过程中，针对基材1a的被砧辊71和振动头61夹入的部分1ap，超声波能量从振动头61选择性地被投入，从而在基材1a的上述部分1ap形成熔敷部14。

以下，详细地说明超声波熔敷装置20的结构。

如图3所示，旋转滚筒30以圆筒体为主体，该圆筒体在以CD方向为法线方向的剖面上的形状是例如正圆形状。在作为该剖面形状的图心的圆心，与上述中心轴C30同心地一体设置有轴部件31，并且，以该轴部件31的轴心方向朝着CD方向的姿势，该轴部件31被图6的轴承部件31brg可旋转地支承。并且，由此，旋转滚筒30能够绕上述中心轴C30旋转。

另外，旋转力从作为驱动源的伺服马达30M经由适当的旋转力传递机构而被赋予该旋转滚筒30。并且，由此，旋转滚筒30沿单方向被驱动而旋转。

例如，在图6的例子中，使用所谓的卷挂传动装置作为旋转力传递机构。即，该卷挂传动装置通过将环状的同步皮带30TB卷挂在与上述的轴部件31的一端部31eb同心且一体地设置的带轮31PL以及与伺服马达30M的驱动旋转轴同心且一体地设置的带轮30MPL这两者上，从而将伺服马达30M产生的驱动旋转力传递给形成旋转滚筒30的中心轴C30的上述轴部件31。并且，由此，旋转滚筒30被伺服马达30M驱动而旋转。但是，旋转力传递机构不限定于此。例如，也可以分别设置齿轮来代替上述的各带轮31PL、30MPL，从而用一组齿轮来构成上述旋转力传递机构。另外，在本例中使旋转滚筒30的剖面形状为正圆形状，但不限定于此，例如，也可以是具有超声波处理单元60的配置数以上的数量的角部的正多边形等的多边形形状。

如图5所示，超声波处理单元60、60…在旋转滚筒30的旋转方向Dc30上每隔规定角度地设置有多个(例如四个)。该规定角度设定为如下角度：使得旋转滚筒30的外周面30s上的旋转方向Dc30的长度与相当于一个尿片1的长度大致对应，在图5的例中设定为90°。因此，超声波处理单元60、60…的设置数是四个。另外，随着基材1a从上个工序被送来相当于一个尿片1的长度，作为驱动源的上述伺服马达30M被计算机或者PLC(可编程逻辑控制器)等未图示的控制部控制，以使旋转滚筒30旋转上述规定角度，由此，使各超声波处理单元60与基材1a的各熔敷对象部分1e分别对应地进行超声波熔敷处理。该旋转动作例如通过根据同步信号来对上述伺服马达30M进行位置控制来实现。

同步信号从旋转式编码器等旋转检测传感器(未图示)输出，其测量例如作为生产线的基准的装置(例如将图2A的腿围开口部1LH进行冲裁来形成的旋转模切机装置等)的基材1a的搬运量。该同步信号是以例如作为产品的一个尿片的搬运量(与上述产品间距P1大致同值)为单位搬运量而将0°～360°的各旋转角度值与搬运量成比例地分配而成的旋转角度信号。并且，每搬运一个尿片，从0°到360°的旋转角度值的输出周期性地反复进行。但是，同步信号不限定于旋转角度信号。例如也可以以按照单位搬运量将0～8191的各数字值与搬运量成比例地分配而成的数字信号用作同步信号。

如图3和图5中说明的那样，各超声波处理单元60分别具有所述的条状的振动头61和砧辊71，所述条状的振动头61为了相对于旋转滚筒30的外周面30s不能相对移动而固定于后述的柱体41并沿着CD方向，所述砧辊71设置成在振动头61上滚动并能够沿CD方向往复移动。如图3、图5和图6所示，振动头61具有朝向旋转滚筒30的旋转半径方向Dr30的外方的大致平面61s，砧辊71在该大致平面61s上滚动。另外，该大致平面61s作为超声波振动的振动面61s发挥功能。该振动面61s以与旋转滚筒30的外周面30s同面或者稍微向旋转半径方向Dr30的外方伸出的状态固定。另外，该振动面61s的CD方向上的长度被设计成振动面61s从卷附于旋转滚筒30的外周面30s的基材1a的CD方向的两侧伸出的尺寸(例如参照图10A)。因此，根据砧辊71的CD方向上的往复移动，能够形成遍及基材1a的CD方向的全长的长度的熔敷部14。

该振动头61经由增幅器和转换器与振荡器(均未图示)连接。振荡器具有电气回路，该电气回路在从适当的电源被供给电力时，产生20kHz～35kHz之中的恒定频率的电信号。转换器将从振荡器送来的上述恒定频率的电信号通过压电元件等转换成相同频率的机械的振动。增幅器对从转换器送来的上述机械的振动进行增幅并传递给振动头61，由此，振动头61的振动面61s沿该面61s的法线方向进行超声波振动。

这里，在频率恒定的情况下，通过超声波振动而投入基材1a的超声波能量的大小(J)的变更能够通过振动面61s的超声波振动的振幅的变更或者振动头61的振动面61s与砧辊71夹入基材1a的力(以下也称为夹入力)的大小(N)的变更来进行。例如，在夹入力的大小(N)恒定的情况下，如果使振幅增加或减少，则与之联动地，针对振动的阻力增加或减少，振荡器的电力消耗也增加或减少。并且，该电力消耗大致上作为超声波能量而被投给基材1a，因此，通过振幅的增减，投给基材1a的超声波能量进行增减。另一方面，在振幅恒定的情况下，如果使夹入力的大小(N)增加或减少，则与之联动地，针对振动的阻力增加或减少，振荡器的电力消耗也增加或减少，并且，该电力消耗大致作为超声波能量而投给基材1a。因此，通过夹入力的大小(N)的增减，投给基材1a的超声波能量也进行增减。

此外，前者的振幅的变更能够通过振荡器进行。即，上述的振荡器构成为能够根据从超声波能量调整部(未图示)发送的控制信号而使超声波振动的振幅变更为任意值，该超声波能量调整部由计算机或者PLC等构成。另外，后者的夹入力的大小(N)的变更能够通过后述的附设于砧辊71的气缸75(参照图7A和图7B)来进行，关于这一点在后面叙述。顺便提及，在本例中，振荡器构成为能够将超声波振动的振幅(从平衡位置到最大位移为止的移动距离)调整为0微米～30微米之间的任意值，但能够调整的振幅的范围不限定于此。

另一方面，参照图5和图6，如所述那样，砧辊71与振动头61的振动面61s相向，并配置于比振动面61s靠旋转滚筒30的旋转半径方向Dr30的外方的位置。并且，设置成能够一边在振动面61s上滚动一边在CD方向上往复移动。这样的砧辊71的往复移动动作例如如下地实现。

如图3、图5和图6所示，在旋转滚筒30的内周侧，与形成该旋转滚筒30的中心轴C30的上述的轴部件31同轴地设置有多边形筒体状的柱体41。该柱体41的大半部分收容于旋转滚筒30的内周侧，CD方向的一端部41eb从旋转滚筒30伸出。另外，该柱体41通过未图示的连结部件与旋转滚筒30的上述轴部件31一体地连结，由此，与旋转滚筒30一起绕中心轴C30旋转。此外，在以下的说明中，将在CD方向上柱体41从旋转滚筒30伸出的方向称为“后方”，将与其相反的方向称为“前方”。

如图5所示，柱体41的剖面形状(以CD方向为法线方向的剖面中的形状)例如是具有与超声波处理单元60、60…的设置数相同数量的角部的正多边形形状，由此，柱体41成为具有与超声波处理单元60、60…的设置数相同数量的壁部41w、41w…的筒体。在该图5的例子中，由于具有四个超声波处理单元60、60…，所以剖面形状为正方形，即，柱体41成为具有四个壁部41w、41w…的正方形的筒体。并且，超声波处理单元60分别与各壁部41w一一对应。即，在各壁部41w上分别设置有用于使超声波处理单元60的砧辊71在CD方向上往复移动的直线导轨45。如图6所示，直线导轨45具有固定于壁部41w的沿CD方向延伸的导轨45R和以能够向CD方向的两侧滑动的方式与上述导轨45R卡合的滑块45SB、45SB。并且，在该滑块45SB、45SB上固定有支承砧辊71的支承单元73。

图7A和图7B表示该支承单元73的说明图。此外，图7A是从旋转半径方向Dr30的外方斜前方观察支承单元73的概略立体图，图7B是从外方斜后方观察该单元73的概略立体图。

支承单元73具有固定于滑块45SB、45SB…的基部73b，以及可摆动地支承于基部73b并沿CD方向延伸的压板状部件73ss。这里，压板状部件73ss由设置于CD方向的大致中央部的支承轴73ssP可摆动地支承于基部73b。即，压板状部件73ss的前端部73ssef和后端部73sseb这两者分别在旋转滚筒30的旋转半径方向Dr30上可摆动，更详细地说，前端部73ssef和后端部73sseb做出彼此大致相反的动作。另外，上述砧辊71可旋转地支承于前端部73ssef，另一方面，在后端部73sseb，作为用于使压板状部件73ss进行摆动动作的驱动源，例如设置有复动式的气缸75。

如图7B所示，气缸75具有：缸体部75c、在该缸体部75c内划分形成两个压力室并且可滑动地设置于该缸体部75c内的活塞(未图示)、以及与该活塞一体且以能够从缸体部75c出没的方式设置的活塞杆75Pr。并且，压板状部件73ss的后端部73sseb与活塞杆75Pr的前端部连结，并且在基部73b固定缸体部75c。因此，如果分别对向两个压力室供给的压缩空气的供给压力(MPa)进行操作，通过活塞杆75Pr的出没动作，就能够使砧辊71推压于振动头61的振动面61s或使砧辊71从该振动面61s离开。

例如，将一个压力室对大气开放，向另一个压力室供给压缩空气，则能够用砧辊71和振动头61的振动面61s夹入基材1a，此外，如果变更压缩空气的供给压力(MPa)，则能够调整基材1a的夹入力的大小(N)。此外，作为调整向气缸75供给的压缩空气的供给压力(MPa)的机构的一例，例如能够例示如下结构等：在向各压力室供给压缩空气的供给路径上分别设置压力调整阀(未图示)，并且设置将各供给路径与压缩空气源(未图示)切换成连接和非连接的电磁阀等切换阀(未图示)，但是结构不限定于此。

另一方面，用于使砧辊71的支承单元73沿CD方向往复移动的驱动力由柱体41的旋转动作产生。即，柱体41与旋转滚筒30一体地沿旋转方向Dc30旋转，在该超声波熔敷装置20设置有凸轮机构，该凸轮机构通过将该旋转动作变换成CD方向上的往复移动动作并传递给各支承单元73，从而对这些支承单元73进行驱动。

如图6所示，该凸轮机构例如具有在柱体41的内周侧同轴地插入的圆筒部件51，该圆筒部件51以不能旋转的方式固定于地面GND侧的适当的支承部件55。并且，在圆筒部件51的外周面51s设置有肋状的凸轮51r，另一方面，在支承单元73的基部73b设置有一对凸轮随动机构53、53，该一对凸轮随动机构53、53从前后夹入上述肋状的凸轮51r并卡合。另外，肋状的凸轮51r设置成沿旋转滚筒30的旋转方向Dc30连续的环状，此外，该凸轮51r的CD方向上的位置与该旋转方向Dc30的位置对应地变化，由此设定凸轮曲线。并且，通过该凸轮曲线的设定，支承单元73的往复移动动作被规定。

例如，在本例中，在旋转滚筒30的周速值(m/分)恒定的条件下，上述的凸轮曲线被设定为：在支承单元73的复移动动作的去程和回程两者中，支承单元73以彼此同值的恒定的移动速度值(m/分)移动。

详细地说，如图8的概略主视图所示，首先，在基材1a卷附于旋转滚筒30的卷附范围Rw中，第一角度范围Rw1和第二角度范围Rw2以彼此相同角度的大小不重复地设定。并且，为了对凸轮曲线上的与第一角度范围Rw1对应的部分分配作为去程的移动动作的前进动作，该部分的形状成为肋状的凸轮51r的CD方向上的位置与旋转方向Dc30的位置的变化成比例地向前方位移的形状。因此，在支承单元73通过第一角度范围Rw1时，该单元73和附属的砧辊71从设定于CD方向的后方的后退极限位置Pb(图6)起，向设定于前方的前进极限位置Pf(图6)以恒定的移动速度值(m/分)移动。另外，为了对凸轮曲线上的与第二角度范围Rw2对应的部分分配作为回程的移动动作的后退动作，该部分的形状成为肋状的凸轮51r的CD方向上的位置与旋转方向Dc30的位置的变化成比例地向后方位移的形状。因此，在支承单元73通过第二角度范围Rw2时，该单元73和附属的砧辊71以与从前进极限位置Pf向后退极限位置Pb去的去程的情况相同值的移动速度值(m/分)移动。

顺便提及，在该图8的例子中，第一角度范围Rw1和第二角度范围Rw2彼此相邻地设定，由此，通过前进动作而到达前进极限位置Pf的砧辊71立即折返进行后退动作。但是不限定于此。例如，也可以是砧辊71在前进极限位置Pf处稍微停留之后进行后退动作。

另外，在砧辊71位于后退极限位置Pb的状态下，砧辊71将基材1a完全横切结束，处于与基材1a非抵接的状态(例如参照图10A和图10B)。并且，上述的凸轮曲线被设定为：在旋转方向Dc30上的第一和第二角度范围Rw1、Rw2以外的角度范围Rw3中，砧辊71停留于后退极限位置Pb。因此，在形成基材1a的卷附范围Rw的始端的卷附开始位置Pws和形成卷附范围Rw的终端的卷附终止位置Pwe这两者，砧辊71分别位于后退极限位置Pb，因此，砧辊71不会阻碍基材1a向旋转滚筒30的外周面30s卷附的卷附动作和卷附状态下的解除动作。

这样的砧辊71构成为随着CD方向上的往复移动动作而自转。即，在前进动作中，以向前方转动的方式，以与向前方移动的速度值(m/分)大致相同的周速值(m/分)自转，在后退动作中，以向后方转动的方式，以与向后方移动的速度值(m/分)大致相同的周速值(m/分)自转。并且，由此，以与基材1a之间基本没有相对滑动的状态在基材1a上沿CD方向滚动移动。

该自转动作也可以通过砧辊71的从动旋转来进行。例如，如图7A和图7B所示，通过将砧辊71经由适当的轴承部件(未图示)来支承于支承单元73，从而能够以极小的旋转阻力旋转，并且用所述的气缸75将该砧辊71隔着基材1a地推压于振动头61的振动面61s。这样，伴随着往复移动动作，砧辊71从基材1a获得旋转力而被带动旋转，因此，该砧辊71通过从动旋转进行自转。

但是，该从动旋转在自转动作的可靠性上存在问题。因此，在该图7A和图7B的例子中，以可靠地进行自转动作为目的，设置有将支承单元73的往复移动动作变换为旋转动作并传递给砧辊71的运动变换机构。该运动变换机构是所谓的卷挂传动机构。

即，在与砧辊71的圆心同心且一体地设置的轴部71A上固定有带轮71APL，另一方面，压板状部件73ss的支承轴73ssP上也以可旋转的方式支承着带轮73sspPL。并且，这些带轮71APL、73sspPL彼此上挂绕着环状的同步皮带73TB1。另外，另外的带轮73sspPL2与后者的带轮73sspPL同心且一体地固定，此外，另外的带轮73bebPL可旋转地支承于支承单元73的基部73b的后端部73beb。并且，这些另外的带轮73sspPL2、73bebPL彼此上也另外挂绕着环状的同步皮带73TB2，此外，该同步皮带73TB2的一部分经由未图示的连结部件与柱体41连结。

因此，当支承单元73相对于柱体41沿CD方向移动时，砧辊71以该移动量进行自转。即，如果支承单元73前进，则砧辊71以与该前进的移动量相同的自转量向前进方向自转，另一方面，如果支承单元73后退，则以与该后退的移动量相同的自转量沿后退方向自转。因此，在CD方向上往复移动时，砧辊71相对于基材1a基本无相对滑动地在基材1a上可靠地滚动。

图9表示砧辊71的概略立体图。在砧辊71的周面71s上，以在基材1a上形成图案状的熔敷部14为目的而设置有多个突部71P、71P…。详细地说，首先，在砧辊71的周面71s上，遍及其周向全长的环状的肋71r、71r以沿着砧辊71的旋转轴C71的方向排列两条地设置。并且，各肋71r的顶面71rs分别以具有一定的规则性的样式设置有多个岛状的突部71P、71P…。因此，利用肋71r的顶面71rs而在基材1a上形成低压榨部，利用多个突部71P、71P…的各顶面71Ps、71Ps…而以比低压榨部大的压缩率形成高压榨部。并且，由此，熔敷部14形成为具有多个高压榨部的图案状。

图10A是表示卷附于旋转滚筒30的外周面30s的基材1a与振动头61的相对位置关系的概略图，图10B是图10A中的B－B剖视图。

这里，如图10A所示，在将旋转滚筒30的外周面30s上砧辊71沿CD方向横切基材1a的区间定义为“横切区间A1a”的情况下，在该横切区间A1a中，如图10B所示，存在构成基材1a的片材2a1、2a2的层叠张数彼此不同的部分1a6、1a4。即，在基材1a的CD方向的后端部，存在由两张内层片2a1和四张外层片2a2层叠的六张重叠的部分1a6，另一方面，除此以外的部分1a4存在由两张内层片2a1和两张外层片2a2层叠的四张重叠的部分1a4。

并且，在像这样在基材1a上层叠张数不同的部分1a4、1a6在CD方向上存在多处的情况下，与该层叠张数相应地，熔敷所需要的超声波能量的大小(J/m)不同。即，如上述的基材1a那样，在四张重叠的部分1a4和六张重叠的部分1a6沿CD方向存在的情况下，在六张重叠的部分1a6需要比在四张重叠的部分1a4熔敷所需的超声波能量更大的超声波能量。因此，如果假设用四张重叠的部分1a4用的超声波能量的大小(J/m)来对六张重叠的部分1a6进行熔敷，则存在由于超声波能量投入不足而导致接合不良的隐患。相反，如果用六张重叠的部分1a6用的超声波能量的大小(J/m)来对四张重叠的部分1a4进行熔敷，则存在由于超声波能量投入过剩而将该部分1a4熔损的隐患。

因此，在该超声波熔敷装置20中，在如图10B所示地将横切区间A1a中与六张重叠的部分1a6对应的区间定义为“六张区间A1a6”(相当于第一区间)，另外将横切区间A1a中与四张重叠的部分1a4对应的区间定义为“四张区间A1a4”(相当于第二区间)的情况下，使砧辊71在通过六张区间A1a6时在CD方向的单位长度投入的超声波能量的大小(J/m)与该辊71在通过四张区间A1a4时在CD方向的单位长度投入的超声波能量的大小(J/m)不同。

详细说明如下。首先，在本例中，在去程中以熔敷所需要的大小(J/m)将超声波能量投入基材1a，在回程中，以不熔敷的程度的大小(J/m)投入超声波能量，由此，专门在去程中进行超声波熔敷处理，另一方面，在回程中基本不对基材1a进行熔敷处理。并且，在去程中，在通过六张区间A1a6时，将CD方向的单位长度的大小(J/m)维持为六张用的熔敷所需要的第一规定值(J/m)地投入超声波能量，另外，在该去程中，在通过上述六张区间A1a6之后通过四张区间A1a4时，将CD方向的单位长度的大小(J/m)维持为四张用的熔敷所需要的第二规定值(J/m)地投入超声波能量，并且，该第二规定值(J/m)是比上述第一规定值(J/m)小的值。

因此，在六张区间A1a6中，能够不发生接合不良等地对基材1a的六张重叠的部分1a6进行熔敷，在四张区间A1a4中，也能够不发生熔损地对基材1a的四张重叠的部分1a4进行熔敷。

像这样在六张区间A1a6和四张区间A1a4中使投入的超声波能量的大小(J/m)不同的方案是通过所述的超声波能量调整部对振荡器进行控制而进行的。详细说明如下。

首先，超声波能量调整部始终监视砧辊71在往复移动中的CD方向上的位置。该监视例如根据从作为检测旋转滚筒30的旋转角度的旋转检测传感器的旋转式编码器(未图示)输出的信号来间接地进行。即，如所述那样，旋转滚筒30的旋转方向Dc30上的位置与CD方向上的位置的对应关系由上述的肋状的凸轮51r的凸轮曲线而预先唯一地确定，由此，如果知道旋转滚筒30的旋转方向Dc30上的砧辊71的位置，则能够识别现在砧辊71位于CD方向的哪个位置。另一方面，该旋转方向Dc30上的砧辊71的位置能够根据上述编码器的输出信号所示的旋转角度(0°～360°)的值来检测。

因此，在该调整部的存储器中，例如存储有在去程中与上述六张区间A1a6与四张区间A1a4的分界位置PBL(图10A和图10B)对应的旋转角度的值的数据、或者与分界位置PBL的附近位置对应的旋转角度的值的数据。即，预先存储有与即将横断分界位置PBL之前的位置对应的旋转角度的值的数据、或者与横断的位置对应的旋转角度的值的数据、或者是与刚刚横断结束后的位置对应的旋转角度的值的数据。

并且，当该调整部检测到上述编码器的输出信号所示的旋转角度的值与存储器内的上述旋转角度的值一致或超过该值时，与此同时或在经过规定时间之后，将振幅从六张用的大的振幅变更成比该振幅小的四张用的振幅。并且，由此能够在六张区间A1a6中，投入适合于六张的大小(J/m)的超声波能量，另一方面，在四张区间A1a4中，投入适合于四张的大小(J/m)的超声波能量。

此外，在本例中，回程中的振幅被变更为比上述四张用的振幅更小的振幅。并且，由此，在回程中基本不进行超声波熔敷处理。这样的对回程用的振幅的变更例如在去程中砧辊71即将把横切区间A1a横断结束之前、或者在横断结束的时刻、或者在刚刚横断结束之后进行。并且，该变更与也上述同样地，根据预先存储于声波能量调整部的存储器中的旋转角度的值的数据和上述编码器的输出信号这两者来进行。即，上述的存储器中预先存储有与即将把横切区间A1a横断结束之前的位置对应的旋转角度的值的数据、或者与将横切区间A1a横断结束的位置对应的旋转角度的值的数据、或者与刚刚将该横切区间A1a横断之后的位置对应的旋转角度的值的数据。并且，当该调整部检测到上述编码器的输出信号所示的旋转角度的值与存储器内的上述旋转角度的值一致或超过该值时，与此同时或在经过规定时间后将振幅变更为回程用的小的振幅。

另外，在砧辊71从回程向去程折返的过程中，振幅变回六张用的大的振幅。该振幅的变更例如在回程中砧辊71即将把横切区间A1a横断结束之前、或者在横断结束的时刻、或者在刚刚横断结束之后进行。即，在该调整部的存储器中预先存储有与在回程中即将把上述的横切区间A1a横断之前的位置对应的旋转角度的值的数据、或者与将该横切区间A1a横断结束的位置对应的旋转角度的值的数据、或者与刚刚将该横切区间A1a横断结束之后的位置对应的旋转角度的值的数据。并且，当该调整部检测到上述编码器的输出信号所示的旋转角度的值与存储器内的上述旋转角度的值一致或超过该值时，与此同时或在经过规定时间之后，将振幅从回程用的小的振幅变更为六张用的大的振幅。并且，由此，砧辊71变回去程时最初通过的六张用的振幅。

顺便提及，当然，上述的六张区间A1a6的第一规定值(J/m)和四张区间A1a4的第二规定值(J/m)设定为对各区间A1a6、A1a4应投入的超声波能量的最适值。但是严格来说，在六张区间A1a6和四张区间A1a4应投入的超声波能量的大小(J/m)的最适值可能与基材1a的结构等相应地变化，因此，根据上述的第一规定值(J/m)和第二规定值(J/m)确定的振幅的最适值也可能与基材1a的结构等相应地变化。因此。该振幅的最适值的取得通过用超声波处理装置20实际地对基材1a进行超声波熔敷处理的这种实机实验来进行。不过，关于最适值，能够示出如下的标准。即，作为六张区间A1a6的层叠张数多的一方的区间A1a6中的振幅的最适值设定为15微米～30微米的范围的任意值，在本例中设定为30微米。另一方面，作为四张区间A1a4的层叠张数少的一方的区间A1a4中的振幅例如设定为多的一方的区间A1a6中的振幅的50％～90％的范围的任意值，优选设定为70％～80％的任意值，在本例中设定为80％。并且，这样设定能够可靠地防止六张区间A1a6中的接合不良和四张区间A1a4中的熔损等缺陷。

另外，在本例中，用砧辊71和振动头61的振动面61s来夹入基材1a的力的大小(N)在整个去程的横切区间A1a维持为恒定值。并且，由此，通过上述的振幅的变更，能够可靠地使在四张区间A1a4投入的超声波能量的大小(J/m)比在六张区间A1a6投入的超声波能量的大小(J/m)小。关于该夹入力的大小(N)的最适值，能够与上述同样地通过实机实验等得到。

顺便提及，在回程中，也能够进行利用所述的气缸75使砧辊71从基材1a离开的操作，但在上述的例子中，在回程中也在整个横切区间A1a用振动头61和砧辊71彼此共同地夹入基材1a。即，在去程和回程两者中，振动头61和砧辊71这两者分别与基材1a抵接，可能从基材1a离开的砧辊71不从基材1a离开。因此，能够将该横切区间A1a中砧辊71与振动头61的相对位置关系维持为恒定的状态，其结果是，能够实现超声波熔敷处理的稳定化。另外，在进行离间动作的情况下，该离间动作必须以几百毫秒中的一部分的这种微小时间进行，其实行很困难。详细地说，通常一个超声波单元60在1分钟内进行的熔敷处理的次数从数十次到一百几十次，所以砧辊71的CD方向的往复移动动作以几百毫秒进行。并且，伴随于此，上述的离间动作必须以上述的几百毫秒中的一部分进行，但以这种微小时间实行离间动作在实际上很困难。因此，难以实现超声波熔敷装置20，但在本例中由于不进行离间，所以能够毫无问题地超实现声波熔敷装置20。

另外，在本例中，在去程的六张区间A1a6和四张区间A1a4投入基材1a的熔敷所需要的大小(J/m)的超声波能量，另一方面，在回程的四张区间A1a4和六张区间A1a6中不投入熔敷所需要的大小(J/m)的超声波能量，但不限定于此。即，也可以在去程中和回程的四张区间A1a4和六张区间A1a6中都投入分别对应的大小(J/m)的超声波能量。

另外，也可以与上述相反地在去程不投入而在回程投入。即，也可以在去程的六张区间A1a6和四张区间A1a4不投入熔敷所需要的大小(J/m)的超声波能量，而在回程的四张区间A1a4和六张区间A1a6投入熔敷所需要的大小(J/m)的超声波能量。顺便提及，在该回程中砧辊71通过四张区间A1a4时，以四张用的熔敷所需要的大小(J/m)投入超声波能量，在该回程中砧辊71通过上述四张区间A1a4之后通过六张区间A1a6时，以六张用的熔敷所需要的大小(J/m)投入超声波能量，此时，四张用的熔敷所需要的超声波能量的大小(J/m)比六张用的熔敷所需要的超声波能量的大小(J/m)小，这一点是理所当然的。

此外，根据情况，也可以在去程的六张区间A1a6投入熔敷所需要的大小(J/m)的超声波能量，另一方面，在该去程的四张区间A1a4不投入熔敷所需要的大小(J/m)的超声波能量，并且，作为替代，对于该四张区间A1a4，在回程时投入熔敷所需要的大小(J/m)的超声波能量。

并且，这样能够避免图11A所示的问题，即熔敷屑以从基材1a的CD方向的端缘部1ae1伸出的状态而残留的问题。详细说明如下。

首先，在超声波熔敷处理中，砧辊71沿CD方向移动，因此，伴随着该熔敷处理而从基材1a熔融的熔融物存在向沿CD方向移动的砧辊71的行进方向的下游侧被推出的倾向。因此，在如上述那样在整个去程的横切区间A1a投入熔敷所需要的大小(J/m)的超声波能量的情况下，在将横切区间A1a横切结束时，熔融物可能从基材1a的CD方向的端缘部1ae1伸出并固化。并且，由此，熔敷屑以毛边状残留在该端缘部1ae1，其结果是，尿片1的外观变差。

关于这一点，如上述那样，在去程时仅在六张区间A1a6投入熔敷所需要的大小(J/m)的超声波能量，在回程时仅在四张区间A1a4投入熔敷所需要的大小(J/m)的超声波能量，这样，如图11B所示，在去程时在六张区间A1a6与四张区间A1a4的分界位置PBL残留熔融物，另一方面，在回程时也同样地在分界位置PBL残留熔融物，并且，该熔融物在该分界位置PBL固化而成为熔敷屑。因此，能够有效地避免熔敷屑从基材1a的CD方向的端缘部1ae1飞出的情况，其结果是，能够使尿片1的外观变好。

＜＜＜第一变形例＞＞＞

在上述的第一实施方式中，通过变更超声波振动的振幅，从而使在去程的六张区间A1a6中投入基材1a的超声波能量的大小(J/m)与在该四张区间A1a4中投入基材1a超声波能量的大小(J/m)不同。关于这一点，在该第一变形例中，主要的不同点在于，在去程时的六张区间A1a6和四张区间A1a4之间，使振幅不变地维持为恒定值，而使利用砧辊71和振动头61的振动面61s这两者夹入基材1a的力即夹入力的大小(N)在六张区间A1a6和四张区间A1a4进行变更，由此，使超声波能量的大小(J/m)在六张区间A1a6和四张区间A1a4不同。

此外，除此以外的点与上述的第一实施方式大致相同。因此，以下，主要对该不同点进行说明，对于相同的结构附以相同的附图标记，并省略其说明。

首先，在该第一变形例中，超声波能量调整部对振荡器进行控制，由此，将振动头61的振动面61s的超声波振动的振幅维持为例如30微米的恒定值。另外，该调整部对附设于支承单元73的气缸75用的所述的压力调整阀进行控制，由此，在整个去程的六张区间A1a6用大的夹入力(N)夹入基材1a，另一方面，在整个去程的四张区间A1a4用比六张区间A1a6的夹入力小的夹入力(N)夹入基材1a。其结果是，在六张区间A1a6内投入CD方向的单位长度的超声波能量的大小(J/m)比在四张区间A1a4内投入CD方向的单位长度的超声波能量的大小(J/m)大。

顺便提及，例如，四张区间A1a4内的夹入力的大小(N)设定为六张区间A1a6内的夹入力的大小(N)的50％～90％的任意值，优选设定为70％～80％的任意值。并且，这样，能够可靠地防止六张区间A1a6内的接合不良和四张区间A1a4内的熔损等缺陷。

另外，在本例中，通过使回程时的夹入力的大小(N)比上述去程的四张区间A1a4内的夹入力的大小(N)小，从而在回程时以基材1a基本不被熔敷的大小(J/m)投入超声波能量，但不限定于此。例如，也可以与上述相反。即，也可以在去程时设定为基材1a不被熔敷的大小(N)的夹入力，另一方面，在回程时设定为被熔敷的大小(N)的夹入力。另外，也可以在去程和回程时都分别针对四张区间A1a4和六张区间A1a6设定与去程时的各区间A1a4、A1a6的情况相同大小(N)的夹入力。

＜＜＜第二变形例＞＞＞

图12A是从旋转滚筒30的旋转方向Dc30观察第二变形例的超声波处理单元60a的情况的概略图。在该第二变形例中，通过变更振动头61的振动面61s与砧辊71之间的间隙G的大小，从而使超声波能量的大小(J/m)在去程时的六张区间A1a6和四张区间A1a4不同。

即，在第二变形例中，振幅在去程时的六张区间A1a6和四张区间A1a4不变更而是恒定值，使上述的间隙G的大小在去程时的六张区间A1a6和四张区间A1a4进行变更。这里，六张区间A1a6内的间隙G的大小和四张区间A1a4的间隙G的大小分别通过实机实验等获得。详细地说，以多个标准的各间隙G、G的大小进行振动，并用该超声波熔敷装置20实际地对基材1a实施超声波熔敷处理，并且通过观察确认形成于基材1a的熔敷部14，从而决定各间隙G、G的大小。此外，通过观察确认，来确认是否有基材1a的熔损或接合不良。并且，在使用这样确定六张区间A1a6用的间隙G的大小和四张区间A1a4用的间隙G的大小来进行超声波熔敷处理的情况下，在六张区间A1a6内投入CD方向的单位长度的超声波能量的大小(J/m)比在四张区间A1a4内投入的超声波能量的大小(J/m)大。

该间隙G的变更例如通过如下结构来实现。如图12A所示，在该第二变形例中也具有与第一实施方式的支承单元73大致相同结构的支承单元73a。即，砧辊71可旋转地支承于所述的压板状部件73ss的前端部73ssef，并且，该压板状部件73ss也如所述那样由CD方向的大致中央部的支承轴73ssP可旋转地支承于支承单元73a的基部73ba。并且，由此，压板状部件73ss的前端部73ssef和后端部73sseb能够进行彼此大致相反的动作，即能够以压板状摆动。

另一方面，在该第二变形例的支承单元73a中，作为用于使压板状部件73ss进行摆动动作的驱动源，具有对压板状部件73ss赋予沿间隙G缩小的方向的力的空气弹簧76，以及对压板状部件73ss赋予沿间隙G放大的方向的力的弹性部件即板簧77。

详细地说，空气弹簧76具有大致密闭的袋体76b，该袋体76b在利用空气的供给对内部进行加压时膨胀，另一方面，利用空气的排出对内部进行减压时收缩。并且，该袋体76b介插于支承单元73a的基部73ba和压板状部件73ss的后端部73sseb之间，由此，从旋转滚筒30的旋转半径方向Dr30的内方与该后端部73sseb抵接。另外，板簧77以从该旋转半径方向Dr30的外方与压板状部件73ss的后端部73sseb抵接的方式，被附设于支承单元73a的基部73ba的适当的支架部件73bas支承。并且，由此，板簧77对压板状部件73ss的后端部73sseb赋予朝向旋转半径方向Dr30的内方的弹性力。

因此，如果向袋体76b的内部供给空气并提高该供给压力(MPa)等来对袋体76b的内部进行加压，则通过该袋体76b的膨胀，该袋体76b对上述的后端部73sseb赋予朝向旋转滚筒30的旋转半径方向Dr30的外方的力。并且，如果该力的大小比将板簧77向该旋转半径方向Dr30的外方推挤所需要的力大，则克服该板簧77的弹性力，以后端部73sseb向该旋转半径方向Dr30的外方移动的方式，压板状部件73ss进行旋转，由此，该前端部73ssef的砧辊71向该旋转半径方向Dr30的内方移动，其结果是，振动头61的振动面61s之间的间隙G缩小。

另一方面，如果使向袋体76b的内部供给的空气的供给压力(MPa)下降等来对袋体76b的内部进行减压时，则通过该袋体76b的收缩，该袋体76b对上述后端部73sseb赋予的力变小。并且，如果该力比将向板簧77该旋转半径方向Dr30的外方推挤所需要的力小时，以后端部73sseb向该旋转半径方向Dr30的内方移动的方式，压板状部件73ss进行旋转，由此，前端部73ssef的砧辊71向该旋转半径方向Dr30的外方移动，其结果是，振动头61之间的间隙G变大。

顺便提及，作为相对于空气弹簧76的袋体76b供给和排出压缩空气的机构的一例，能够例示如下结构：经由配管等供给路径(未图示)将压缩机等未图示压缩空气源与袋体76b连结，并且在该压缩空气源与袋体76b之间的上述供给路径上配置压力调整阀(未图示)。并且，在该结构的情况下，所述的超声波能量调整部通过控制上述的压力调整阀，从而改变间隙G的大小。但供给和排出压缩空气的机构不限定于上述情况。

另外，在上述中，作为向使间隙G变大的方向施力的弹性部件的一例，例示了板簧77，但不限定于此。例如也可以是碟形弹簧或线圈弹簧。此外，也可以是弹性挠曲变形的棒状部件。例如，在该棒状部件的情况下，用该棒状部件的一端部从上述旋转半径方向Dr30的外与压板状部件73ss的后端部73sseb抵接，并且，用上述一端部以外的两个位置的部分以不能旋转的方式支承于支承单元73a的基部73ba。并且，当从空气弹簧76向上述后端部73sseb赋予上述旋转半径方向Dr30的外方的力时，该棒状部件进行弹性挠曲变形，由此改变间隙G的大小。

＜＜＜第三变形例＞＞＞

在第三变形例中，通过改变砧辊71的CD方向的移动速度值(m/分)，从而使超声波能量的大小(J/m)在去程时的六张区间A1a6和四张区间A1a4不同。详细说明如下。

首先，振幅和夹入力的大小(N)在去程时的六张区间A1a6和四张区间A1a4不变更而是维持为恒定值。但是，砧辊71的CD方向的移动速度值(m/分)在去程时的六张区间A1a6和四张区间A1a4进行变更。更具体地说，在去程的六张区间A1a6将移动速度值(m/分)设定得小，由此，沿CD方向以低速移动，与此相比，在去程的四张区间A1a4将移动速度值(m/分)比六张区间A1a6内的移动速度值(m/分)设定得大，由此，沿CD方向以高速移动。并且，其结果是，在六张区间A1a6投入CD方向的单位长度的超声波能量的大小(J/m)比在四张区间A1a4投入的超声波能量的大小(J/m)大。

该砧辊71的在CD方向上的移动速度值(m/分)的变更通过上述的凸轮曲线的设定来进行。即，在本例中，所述的肋状的凸轮51r和凸轮随动机构53、53作为超声波能量调整部发挥功能，来代替在第一实施方式中使用的由计算机等构成的超声波能量调整部。更具体地说明如下。

首先，参照图8，如所述那样，该凸轮51r的凸轮曲线与旋转滚筒30的旋转方向Dc30上的第一角度范围Rw1对应地设定作为前进动作的去程的移动动作。并且，该前进动作中包含六张区间A1a6内的移动动作和四张区间A1a4内的移动动作。因此，如图12B所示，在相对于该第一角度范围Rw1分配六张区间A1a6的角度范围Rw6和四张区间A1a4的角度范围Rw4时，如果设定为六张区间A1a6的角度范围Rw6的大小θ6除以四张区间A1a4的角度范围Rw4的大小θ4的值(＝θ6/θ4)比图10A的六张区间A1a6的CD方向的长度L6除以四张区间A1a4的CD方向的长度L4的值(＝L6/L4)大，则能够使六张区间A1a6内的移动速度值(m/分)比四张区间A1a4内的移动速度值(m/分)小。

在上述的第一实施方式和第一至第三变形例中，将条状的振动头61以相对于旋转滚筒30不能相对移动的方式配置，并且将砧辊71即辊状的砧辊71配置得比振动头61靠旋转半径方向Dr30的外方，但不限定于此。例如，也可以按照如下。即，也可以将沿CD延伸的条状的砧辊以相对于旋转滚筒30不能相对移动的方式固定，并且将辊状的振动头(以下称为振动头辊)配置得比砧辊靠旋转半径方向Dr30的外方。此外，振动头辊的结构与日本特表平10－513128号公开的结构相同，该结构是公知的，所以省略其详细情况的说明。

＝＝＝第二实施方式＝＝＝

图13至图17B是第二实施方式的超声波熔敷装置20b的说明图。此外，图13是从前斜上方观察超声波熔敷装置20b的概略立体图，图14是图13中的XIV－XIV箭头的概略侧视图，图15是图13中的XV－XV箭头的概略主视图。另外，图16是在图14中拆下基材1a和旋转滚筒30而表示的概略侧视图。此外，图17A是从旋转半径方向Dr30的外方斜前方观察超声波处理单元60b的概略立体图，图17B是从该外方斜后方观察该单元60b的概略立体图。

在上述的第一实施方式中，如图5所示，超声波处理单元60的振动头61以相对于旋转滚筒30不能相对移动的方式固定于柱体41，由此，在图6所示CD方向上不进行往复移动动作。关于这一点，在该第二实施方式中，与上述的第一实施方式主要区别在于，如图16所示，与砧辊71的CD方向的往复移动动作联动地，振动头61b也沿CD方向进行往复移动动作。并且，除此以外的点与第一实施方式大致相同。因此，以下主要对该不同点进行说明，对于与第一实施方式相同的结构附上相同的附图标记，并省略其说明。

如图16所示，在该第二实施方式中，砧辊71和振动头61b都被支承单元73支承。并且，由此，振动头61b也能够沿CD方向往复移动。另外，砧辊71和振动头61b构成为能够彼此共同地夹入基材1a。例如，在本例中，振动头61b固定于支承单元73的基部73b，另一方面，砧辊71被压板状部件73ss支承。因此，以砧辊71和进行超声波振动的振动头61b的振动面61bs彼此共同地夹入基材1a的状态，从该振动面61bs向基材1a投入超声波能量，并且通过该砧辊71和振动头61b这两者沿CD方向往复移动，因此，在基材1a上形成沿CD方向的熔敷部14。

此外，在对上述的基材1a进行超声波熔敷处理时，尤其是对于非旋转的振动头61b，熔敷渣可能附着和堆积，但在本例中，不仅砧辊71往复移动，振动头61b也往复移动。因此，在该往复移动时，振动头61b通过与基材1a的抵接，滑动而将附着于自身的熔敷渣依次拭去。并且，其结果是，能够有效地防止振动头61b处的熔敷渣的堆积。

另外，用砧辊71和振动头61b的振动面61bs夹入基材1a的动作的实行专门通过经由利用气缸75的压板状部件73ss的摆动动作，砧辊71向旋转滚筒30的旋转半径方向Dr30移动而进行。因此，能够使振动头61b不需要沿旋转滚筒30的旋转半径方向Dr30运动。并且，由此，能够实现由精密设备构成的振动头61b的超声波振动的发振状态下的稳定化。

此外，在该第二实施方式中，如图14所示，旋转滚筒30以构成外周面30s的圆筒部30作为主体，这里，在该圆筒部30上，与砧辊71和振动头61b的CD方向上的往复移动的路径相对应地，狭缝状的缺口部30SL从CD方向的后方向前方延伸地形成。并且，由此，该缺口部30SL的位置形成空间，即，圆筒部30的内周侧与外周侧连通。因此，砧辊71和振动头61b与圆筒部30不发生任何干涉，能够在缺口部30SL的位置从旋转滚筒30的旋转半径方向Dr30的两侧夹入基材1a并迅速地沿CD方向往复移动。

另外，在该第二实施方式中，由于振动头61b也与砧辊71一起沿CD方向往复移动，所以振动头61b的形状不需要是如第一实施方式例示的那样的沿CD方向延伸的条状，其形状能够自由地选择。因此，在该第二实施方式中，如图17A所示，振动头61b的形状成为使轴向朝向旋转滚筒30的旋转半径方向Dr30的大致圆柱体61b。并且，该大致圆柱体61b的圆形的端面61bs形成超声波振动的振动面61bs，并且该端面61bs朝向旋转滚筒30的旋转半径方向Dr30的外方，由此，以该端面61bs与砧辊71的周面71s相对的姿势，振动头61b固定于支承单元73的基部73b。

顺便提及，该第二实施方式的超声波熔敷装置20b的基本结构与日本特开2013－193450号公开的装置大致相同，因此省略更详细的说明。

另外，第一实施方式的第一至第三变形例的结构对于该第二实施方式的超声波熔敷装置20b的适用和实施是本领域技术人员根据此前说明的内容能够充分想到的，所以省略其说明。

此外，在该第二实施方式中，如图17A所示，大致圆柱体的振动头61b配置得比砧辊71靠旋转滚筒30的旋转半径方向Dr30的内方，但不限定于此。例如，也可以使旋转半径方向Dr30的配置关系相反。即，也可以将砧辊71配置得比大致圆柱体的振动头61b靠旋转半径方向Dr30的内方。并且，在该情况下，振动头61b被支承于压板状部件73ss的前端部73ssef，砧辊71被支承于基部73b。不过，根据情况也可以如图18的超声波处理单元60c的概略立体图所示那样。即，在该例中，砧辊71被支承于压板状部件73ss。另外，上述的基部73b设置有伸出部73bh，所述伸出部73bh超过压板状部件73ss的位置地设置在旋转半径方向Dr30的外方，并且，该伸出部73bh上支承着振动头61b，也可以这样构成。

＝＝＝其它的实施方式＝＝＝

以上，说明了本发明的实施方式，但上述的实施方式是为了使本发明的理解变得容易，而不是为了限定地解释本发明。另外，本发明能够不脱离其主旨地进行变更和改良，发明当然也包含其等价物。例如，能够进行以下所示的变形。

在上述的第一实施方式中，为了易于说明，在旋转滚筒30的周速值(m/分)为恒定的前提下进行说明，但如所述那样，实际上，旋转滚筒30的周速值也能够变化。并且，在该情况下，如果与旋转滚筒30的周速值(m/分)的增减联动地使超声波振动的振幅增减，则能够不根据周速值(m/分)的变化，维持在六张区间A1a6中在CD方向的单位长度投入的超声波能量的大小(J/m)与在四张区间A1a4中在CD方向的单位长度投入的超声波能量的大小(J/m)的大小关系。

在上述的第一实施方式中，如图9所示，砧辊71在周面71s上具有二条肋71r、71r，另外，在各肋71r的顶面71rs分别以图案状设置有多个突部71P、71P…，但不限定于此。例如，也可以在图6所示的条状的振动头61的振动面61s上设置两条沿CD方向的肋，在各肋的顶面分别以图案状设置多个突部。此外，根据情况，也可以在砧辊71和振动头61两者上设置上述的肋71r和突部71P、71P…。另外，也可以没有肋71r，即，也可以在砧辊71的周面71s或者振动头61的振动面61s上直接以图案状设置多个突部71P、71P…。

在上述的实施方式中，作为吸收性物品的一例，列举了穿着在穿用对象上并吸收其排泄液体的一次性尿片1，但不限定于此。即，只要是吸收尿或经血等排泄液体的物品，都能够作为本发明的吸收性物品。例如卫生巾或吸收宠物的排泄液体的宠物片材等也包含在本发明的吸收性物品的概念中。

在上述的实施方式中，例示了基材1a具有四张重叠的部分1a4和六张重叠的部分1a6作为层叠张数不同的部分1a4、1a6的例子，但该层叠张数的组合不限定于四张和六张。例如，也可以是两张和四张、或者六张和八张等另外的组合。另外，层叠张数不同的部分不必须如上所述是两个位置，也可以是三个位置以上。

在上述的实施方式中，基材1a具有四张重叠的部分1a4和六张重叠的部分1a6作为层叠张数相互不同的部分1a4、1a6。并且，以该关系，在横切区间A1a设定四张区间A1a4和六张区间A1a6，另外，在四张区间A1a4和六张区间A1a6中使应投入的超声波能量的大小(J/m)彼此不同，但不限定于此。

例如，如说明书的开头简单叙述的那样，在将彼此的熔敷强度不同的多个部分1P1BH、1P1C、1P1LH形成于基材1a的情况下，基材1a也可以不必具有彼此的层叠张数不同的多个部分。即，在该情况下，与上述的多个部分1P1BH、1P1C、1P1LH分别对应地在横切区间A1a设定多个区间A1aB、A1aC、A1aL，并且在各区间A1aB、A1aC、A1aL中，使应投入的超声波能量的大小(J/m)彼此不同。具体如下。

首先，如图19A的尿片1的概略俯视图所示，在该尿片1中，在将形成有上述的熔敷部14的宽度方向的侧端部1e划分成腰围开口部侧的部分1P1BH、腿围开口部侧的部分1P1LH、以及这些部分1P1BH、1P1LH彼此之间的中央部分1P1C这三者的情况下，在腰围开口部侧的部分1P1BH和腿围开口部侧的部分1P1LH，由于在穿用尿片1时等腿围开口部1LH、1LH和腰围开口部1BH被放大等而作用比较大的外力。因此，需要高的熔敷强度。另一方面，由于作用于中央部分1P1C的外力比较小，所以在该中央部分1P1C以低的熔敷强度就足够了。

另外，如图19B所示，在卷附于旋转滚筒30的尿片1的基材1a上，上述腰围开口部侧的部分1P1BH(相当于第一部分)和腿围开口部侧的部分1P1BH(相当于第一部分)分别位于CD方向的两侧，中央部分1P1C(相当于第二部分)位于CD方向的中央。因此，在该情况下，首先，与这些各部分1P1BH、1P1LH、1P1C相对应地，横切区间A1a在CD方向上划分成三个区间A1aB、A1aC、A1aL。并且，在砧辊71通过各区间A1aB、A1aC、A1aL时，以与各区间A1aB、A1aC、A1aL分别对应的超声波能量的大小(J/m)投入该超声波能量。即，在区间A1aB(相当于第一区间)和区间A1aL(相当于第一区间)中，投入的超声波能量的大小(J/m)比区间A1aC(相当于第二区间)大。并且，根据以上，本发明的超声波熔敷装置20、20b的处理对象不限定于具有彼此的层叠张数不同的多个部分1a4、1a6的基材1a，这是显而易见的。

在上述实施方式中，例示了旋转滚筒30作为旋转部件，但不限定于此。即，只要是在外周面30s上保持吸收性物品1的基材1a并沿该外周面30s可旋转的部件，也能够毫无问题地使用。

在上述的实施方式中，如图3所示，作为片状部件1a的一例的基材1a是沿搬运方向连续的连续体，但不限定于此。例如，基材1a也可以是一个尿片的大小的单张状部件。但是，在该情况下，优选在旋转滚筒30的外周面30s设置主动地保持基材1a的机构。例如，在旋转滚筒30的外周面30s设置多个吸气孔，通过从各吸气孔吸气来将基材1a吸附于外周面30s即可。

在上述的第一实施方式中，如图6所示，例示了凸轮机构作为使砧辊71的支承单元73沿CD方向往复移动的驱动机构。并且，作为该凸轮机构的一例，例示了设置于所述的圆筒部件51的外周面51s的肋状的凸轮51r、以及设置于支承单元73的基部73b并从前后夹入该凸轮51r并卡合的一对凸轮随动机构53、53，但不限定于此。例如，也可以在上述的圆筒部件51的外周面51s上以上述的凸轮曲线设置环状的槽凸轮，并且在基部73b设置凸轮随动机构，将该凸轮随动机构嵌入上述的槽凸轮并使其卡合。

在上述的第一实施方式中，如图10A所示，在CD方向上的往复移动的去程和回程中的横切区间A1a以外的路径部分Aef、Aeb，即在去程和回程中比横切区间A1a位于CD方向的端侧的路径部分Aef、Aeb，再换言之，在去程和回程中没有基材1a的路径部分Aef、Aeb中，关于振动头61和砧辊71的夹入力的大小(N)如何，没有详细地叙述，但在该路径部分Aef、Aeb中，也可以使砧辊71从振动头61离开，从而使上述的夹入力即对振动头61的推压力的大小(N)为零。顺便提及，作为使其离开的方法，列举如下方法等：利用另外设置于旋转滚筒30的外周面30s的凸轮机构，将到达比横切区间A1a靠CD方向的端侧的位置的砧辊71向旋转滚筒30的旋转半径方向Dr30的外方移动。并且，这样使其离开能够有效地防止，因进行超声波振动的振动头61与砧辊71的金属接触而造成的超声波处理装置20的各种部件的破损或磨损、金属磨损粉的产生，防止基材1a的污损等。

在上述的实施方式中，作为与基材1a的搬运方向交叉的CD方向的一例，例示了与搬运方向正交的方向，但不限定于此。即，CD方向也可以从与搬运方向正交的方向稍微倾斜。

在上述的实施方式中，熔敷部14的搬运方向(旋转方向Dc30)上的尺寸，即高压榨部的搬运方向上的尺寸和低压榨部的搬运方向上的尺寸分别在整个CD方向上成为恒定值，但不限定于此，也可以进行变动。

在上述的实施方式中，在作为旋转部件的旋转滚筒30的外周面30s上，将砧辊71沿CD方向横切基材1a区间定义为“横切区间A1a”(参照图10A)。这里，如果对该横切区间A1a进行补充，则该横切区间A1a是指“在基材1a不进行蛇行等地设置于旋转滚筒30的外周面30s的设计位置的状态下，与砧辊71沿CD方向开始横切基材1a的位置开始到横切结束的位置为止对应的区间A1a”。即，在“基材1a卷附于上述的设计位置的状态下，由基材1a的CD方向上的后端缘1aeb和前端缘1aef夹着的区间A1a”。

附图标记的说明

1一次性尿片(吸收性物品)、1BH腰围开口部、1LH腿围开口部、

1P1BH腰围开口部侧的部分(第一部分)、

1P1LH腿围开口部侧的部分(第一部分)、

1P1C中央部分(第二部分)、

1a基材(片状部件)、

1a4四张重叠的部分(第二部分)、1a6六张重叠的部分(第一部分)、

1ae端缘部、1ae1端缘部、1aef前端缘、1aeb后端缘、

1ap部分、1c部分、

1e侧端部(熔敷对象部分)、

2a连续片、

2a1内层片、2a1e端部、

2a2外层片、2a2e部分、

2ae端部(三张重叠的部分)、2an两张重叠的部分、

4吸收性主体、

6腿围弹性部件、7腰围弹性部件、

10前身部、11后身部、13裆部、

14熔敷部、

20超声波处理装置、20b超声波熔敷装置、

30旋转滚筒(旋转部件、圆筒部)、30s外周面、30SL缺口部、

30M伺服马达(驱动源)、30MPL带轮、

30TB同步皮带、

31轴部件、31brg轴承部件、

31PL带轮、31eb一端部、

41柱体、41eb一端部、41w壁部、

45直线导轨、45R导轨、45SB滑块、

51圆筒部件、51s外周面、

51r肋状的凸轮、53凸轮随动机构、

55地面侧的支承部件、

60超声波处理单元、60a超声波处理单元、

60b超声波处理单元、60c超声波处理单元、

61振动头(条状部件、超声波处理部件)、61s振动面、

61b振动头(超声波处理部件)、61bs端面(振动面)、

71砧辊(砧辊、超声波处理部件)、

71A轴部、71APL带轮、

71s周面、71r肋、71rs顶面、

71P突部、71Ps顶面、

73支承单元、73a支承单元、

73TB1同步皮带、73TB2同步皮带、

73b基部、73ba基部、

73bas支架部件、

73beb后端部、73bebPL带轮、

73bh伸出部、

73ss压板状部件、73ssef前端部、73sseb后端部、

73ssP支承轴、

73sspPL另外的带轮、73sspPL2另外的带轮、

75气缸、75c缸体部、75Pr活塞杆、

76空气弹簧、76b袋体、

90a引导滚筒、90b引导滚筒、

A1a横切区间、

A1a4四张区间(第二区间)、A1a6六张区间(第一区间)、

A1aB区间(第一区间)、A1aC区间(第二区间)、

A1aL区间(第一区间)、

Aef横切区间以外的路径部分、Aeb横切区间以外的路径部分、

Pf前进极限位置、Pb后退极限位置、

PBL分界位置、

Rw卷附范围、Rw1第一角度范围、Rw2第二角度范围、

Rw3第一和第二角度范围以外的角度范围、

Pws卷附开始位置、Pwe卷附终止位置、

G间隙、GND地面、

C30中心轴、C71旋转轴。

Claims (11)

1.一种吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，该超声波熔敷装置对卷附在绕中心轴旋转的旋转部件的外周面上而被搬运的片状部件进行超声波熔敷处理，所述超声波熔敷装置的特征在于，具备：

所述旋转部件；以及

与所述旋转部件一起绕所述中心轴旋转的超声波处理单元，

所述超声波处理单元具有进行超声波振动的振动头和与所述振动头夹入所述片状部件的砧辊，

所述振动头和所述砧辊之中的至少一方的超声波处理部件以在与所述片状部件的搬运方向交叉的CD方向上能够往复移动的方式被引导，并且，所述超声波处理部件相对于所述片状部件的卷附于所述旋转部件的部分在所述CD方向上进行往复移动，

所述旋转部件的所述外周面在所述CD方向上的彼此不同的位置上具有第一区间和第二区间，

具有超声波能量调整部，所述超声波能量调整部使当所述超声波处理部件在所述往复移动的去程和回程之中的任意一方的路径上通过所述第一区间时投入所述CD方向上的单位长度的超声波能量的大小(J/m)与当所述超声波处理部件在所述去程和所述回程之中的任意一方的路径上通过所述第二区间时投入所述CD方向上的单位长度的超声波能量的大小(J/m)不同，

所述片状部件在CD方向上排列具有应使彼此的熔敷强度不同的多个部分，

将所述多个部分中应使所述熔敷强度高的部分作为第一部分，将应使所述熔敷强度比所述第一部分低的部分作为第二部分的情况下，

使所述第一区间与所述第一部分对应，使所述第二区间与所述第二部分对应，

所述第一区间中投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)比所述第二区间中投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)大。

2.根据权利要求1所述的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，其特征在于，

当所述超声波处理部件在所述往复移动的去程和回程之中的任意一方的路径上通过所述第一区间和所述第二区间时，在所述片状部件上的与所述第一区间对应的第一部分和与所述第二区间对应的第二部分分别投入对应的大小(J/m)的所述超声波能量，由此，对所述第一部分和所述第二部分分别进行熔敷。

3.根据权利要求1所述的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，其特征在于，

当所述超声波处理部件在所述往复移动的去程和回程之中的任意一方的路径上通过所述第一区间时，在所述片状部件上的与所述第一区间对应的第一部分投入对应的大小(J/m)的所述超声波能量，由此，对所述第一部分进行熔敷，

当所述超声波处理部件在所述往复移动的去程和回程之中的另一方的路径上通过所述第二区间时，在所述片状部件上的与所述第二区间对应的第二部分投入对应的大小(J/m)的所述超声波能量，由此，对所述第二部分进行熔敷，

在所述去程中，在通过所述第一区间之后通过所述第二区间，并且在所述去程中的所述第二区间对所述第二部分不进行熔敷，

在所述回程中，在通过所述第二区间之后通过所述第一区间，并且在所述回程中的所述第一区间对所述第一部分不进行熔敷。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，其特征在于，

所述片状部件具有沿厚度方向层叠的多张片材，

所述片状部件在所述CD方向上排列并具有所述片材的层叠张数不同的多个部分，

在将所述多个部分中所述层叠张数多的部分作为第一部分，将所述层叠张数比所述第一部分少的部分作为第二部分的情况下，

使所述第一区间与所述第一部分对应，使所述第二区间与所述第二部分对应，

所述第一区间中投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)比所述第二区间中投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)大。

5.根据权利要求1所述的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，其特征在于，

所述超声波能量调整部通过所述振动头的超声波振动的振幅的变更来进行投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)的变更。

6.根据权利要求1所述的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，其特征在于，

所述超声波能量调整部通过对用所述振动头和所述砧辊夹入所述片状部件的夹入力的大小进行变更，从而进行投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)的变更。

7.根据权利要求1所述的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，其特征在于，

所述超声波能量调整部通过对所述振动头和所述砧辊之间的间隙的大小进行变更，从而进行投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)的变更。

8.根据权利要求1所述的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，其特征在于，

所述超声波能量调整部通过对所述超声波处理部件在所述CD方向上的移动速度值进行变更，从而进行投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)的变更。

9.根据权利要求1所述的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，其特征在于，

所述振动头和所述砧辊之中的所述一方的超声波处理部件具有辊部件，所述辊部件配置在比所述旋转部件的所述外周面靠外方的位置，并且能够旋转，

所述辊部件一边在条状部件上滚动一边在所述CD方向上移动，所述条状部件作为另一方的超声波处理部件，在所述旋转部件的所述外周面上以不能相对移动的方式沿所述CD方向延伸设置。

10.根据权利要求1所述的吸收性物品的片状部件的超声波熔敷装置，其特征在于，

在所述振动头和所述砧辊夹入所述片状部件的状态下，所述振动头和所述砧辊这两者在所述CD方向上往复移动。

11.一种超声波熔敷方法，其对卷附在绕中心轴旋转的旋转部件的外周面上而被搬运的片状部件进行超声波熔敷处理，所述超声波熔敷方法的特征在于，具有如下操作：

使超声波处理单元与所述旋转部件一起绕所述中心轴旋转；

所述超声波处理单元所具备的振动头进行超声波振动；

所述振动头和砧辊之中的至少一方的超声波处理部件同与所述振动头相对配置的所述砧辊夹入所述片状部件，并相对于所述片状部件的卷附在所述旋转部件上的部分在与所述片状部件的搬运方向交叉的CD方向上进行往复移动，

所述旋转部件的所述外周面在所述CD方向上彼此不同的位置上具有第一区间和第二区间，

使当所述超声波处理部件在所述往复移动的去程和回程之中的任意一方的路径上通过所述第一区间时投入所述CD方向上的单位长度的超声波能量的大小(J/m)与当所述超声波处理部件在所述去程和所述回程之中的任意一方的路径上通过所述第二区间时投入所述CD方向上的单位长度的超声波能量的大小(J/m)不同，

所述片状部件在CD方向上排列具有应使彼此的熔敷强度不同的多个部分，

将所述多个部分中应使所述熔敷强度高的部分作为第一部分，将应使所述熔敷强度比所述第一部分低的部分作为第二部分的情况下，

使所述第一区间与所述第一部分对应，使所述第二区间与所述第二部分对应，

所述第一区间中投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)比所述第二区间中投入所述单位长度的超声波能量的大小(J/m)大。