CN105990823A - 芯片输入/输出端口的静电释放esd保护结构和芯片 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种芯片输入/输出端口的静电释放ESD保护结构和芯片,所述结构包括:在所述芯片输入/输出端口与芯片内部连接端子之间的一组CMOS驱动管,和所述一组CMOS驱动管中的每一个驱动管的漏极与所述芯片输入/输出端口之间串接的电阻;其中,所述电阻为注入电阻,与阱区之间存在寄生二极管,用于形成ESD放电通路。
Description
技术领域
本发明涉及微电子技术领域,尤其涉及一种芯片输入/输出端口的静电释放ESD保护结构和芯片。
背景技术
静电放电(Electrostatic Discharge,ESD)给电子器件会带来破坏性的后果。ESD以极高的强度很迅速地发生,通常将产生足够的热量熔化半导体芯片的内部电路,是造成集成电路失效的主要原因之一。
CMOS常常用作输入/输出端口的驱动管,随着集成电路工艺不断发展,互补金属氧化物半导体(Complementary Metal-Oxide Semiconductor,CMOS)的特征尺寸不断缩小,金属氧化物半导体(Metal-Oxide Semiconductor,MOS)的栅氧厚度越来越薄,MOS管能承受的电流和电压也越来越小,因此为了进一步优化电路的抗ESD性能,目前常用的方法是,在MOS管的源漏打孔处加硅化物阻挡层(saliside block,SAB),从而增大电阻来有效延缓大电流放电路径。
然而,采用这种做法的一个缺点是,因为加入了特殊工艺层次对MOS管进行处理,使得MOS管的输出速度大大降低,只能达到未经SAB处理的MOS管的输出速度的一半甚至是1/3。这就使得这种结构的MOS在高速输出端口的应用上无法满足要求。
发明内容
本发明的目的是提供一种芯片输入/输出端口的静电释放ESD保护结构,在不采用SAB等特殊工艺的条件下,既能为芯片提供有效的ESD保护,同时还可以满足端口输出速度的要求。
第一方面,本发明实施例提供了一种芯片输入/输出端口的静电释放ESD保护结构,所述结构包括:
在所述芯片输入/输出端口与芯片内部连接端子之间的一组CMOS驱动管,和所述一组CMOS驱动管中的每一个驱动管的漏极与所述芯片输入/输出端口之间串接的电阻;其中,所述电阻为注入电阻,与阱区之间存在寄生二极管,用于形成ESD放电通路。
在第一种可能的实现方式中,所述CMOS驱动管包括NMOS管和PMOS管。
结合第一种可能的实现方式,在第二种可能的实现方式中,与所述NMOS管连接的所述电阻为N型注入电阻,通过在所述NMOS管的P阱区进行N型掺杂注入形成;所述N型注入电阻对所述P阱区有寄生的二极管,用于泄放电流。
结合第一种可能的实现方式,在第三种可能的实现方式中,与所述PMOS管连接的所述电阻为P型注入电阻,通过在所述PMOS管的N阱区进行P型掺杂注入形成;所述P型注入电阻对所述N阱区有寄生的二极管,用于泄放电流。
在第四种可能的实现方式中,所述结构具体为多指条型ESD保护结构。
在第五种可能的实现方式中,所述寄生二极管与所对应的驱动管之间为并联结构。
第二方面,本发明实施例提供了一种芯片,包括上述第一方面所述的输入/输出端口的静电释放ESD保护结构
在第一种可能的实现方式中,所述芯片为FPGA芯片。
本发明实施例提供的芯片输入/输出端口的静电释放ESD保护结构,采用多指条保护结构,在CMOS驱动管中的每一个驱动管的漏极与芯片输入/输出端口之间串接的电阻,利用串联电阻,可以降低ESD时驱动管两端的电压,同时保证每个串联电阻的寄生二极管同时被触发,作为ESD时快速泄放电流的通道。因而所采用作为驱动管的NMOS和PMOS不用采用特殊的工艺层处理(如SAB),所以可以满足输出端口速度上的要求。本发明提供的ESD保护结构,相比采用SAB处理的驱动管的保护结构,在保持同样ESD性能的前提下,能够把输出端口的速度提高2倍以上。在深亚微米下最高可达1G~10G的数据处理能力。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对本发明实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面所描述的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种芯片输入/输出端口的静电释放ESD保护结构的示意图。
下面结合附图和实施例对本发明进行详细说明。
具体实施方式
图1为本发明实施例一提供的一种芯片输入/输出端口的静电释放(ESD)保护结构的结构示意图。如图1所示,本发明的ESD保护结构包括一组连接在芯片输入/输出端口(PAD)与芯片内部连接端子(in)之间的CMOS驱动管,和该组MOS驱动管中,每个MOS管的漏极与PAD之间串接的电阻R。
具体的,本发明中的CMOS驱动管,及串接的电阻R,采用多指条保护结构,其中,CMOS驱动管包括NMOS管和PMOS管。在如图1所示的结构中,上方为PMOS管,下方为NMOS管。这里,NMOS管和PMOS管均是采用普通的CMOS工艺制成,没有添加特殊的工艺层。
多指条保护结构上的每个电阻R的阻值都是相同的。每个电阻R串接在MOS的漏极和PAD之间,电阻R为在MOS管的阱区注入反相掺杂而形成。
进一步具体的,NMOS管连接的电阻R为N型注入电阻,可以通过在NMOS管的P阱区内进行N型掺杂注入形成,其中,多个N型注入电阻通过同一工艺过程一次性制作完成;所形成N型注入电阻对P阱区有寄生二极管,可以在ESD时用于快速泄放电流。同样的,PMOS管连接的电阻R为P型注入电阻,可以通过在PMOS管的N阱区内进行P型掺杂注入形成,其中,多个P型注入电阻通过同一工艺过程一次性制作完成;所形成P型注入电阻对N阱区有寄生二极管,可以在ESD时用于快速泄放电流。
这些寄生二极管与相应的MOS驱动管之间形成并联的结构,同时,这些电阻R之间,也相当于等效并联结构,使得所连接的MOS驱动管的漏极的电位都相等。
电阻R的阻值,可以基于芯片所要求的频率来决定。比如在一个具体的例子中,频率要求达800MHz,可以采用等效并联后为1欧姆左右的多个电阻R来实现;在另一个具体的例子中,频率要求达600MHz,可以采用等效并联后为2欧姆左右的多个电阻R来实现。
在工艺实现上,电阻R的阻值,可以通过控制注入掺杂的浓度,以及注入区域的长宽比等参数来确定。
寄生二极管的参数,也可以根据ESD的要求,来通过工艺进行调整和设定。
通过本发明提供的ESD保护结构,在ESD通过PAD导入芯片内部时,多个寄生二极管同时触发,形成MOS驱动管的低阻旁路,将ESD电流引入线电压,同时,通过电阻R,有效的钳位保护电路电压,使得MOS驱动管端的电压有效降低。
本发明因为采用在MOS管的阱区进行掺杂注入形成电阻,并利用电阻对阱区的寄生二极管用作ESD泄放电流,在集成电路版图上不会增加额外的面积,也就是说,相当于在集成电路版图中节省了额外设计二极管所需要占用的面积。
正因采用本发明的ESD保护结构,使得在芯片的ESD保护结构上可以采用普通的MOS管作为输入/输出端口的驱动管,能够有效的提高输出速度。同时,MOS管本身的寄生二极管还可以作为次级静电放电电路,为芯片提供ESD保护。
同时,因为无需采用特殊工艺层来提升ESD保护性能,也节省了工艺制成的步骤,同时降低了成本。
本发明提供的ESD保护结构,相比采用SAB处理的驱动管的保护结构,在保持同样ESD性能的前提下,能够把输出端口的速度提高2倍以上。在深亚微米下最高可达1G~10G的数据处理能力。
本发明的芯片输入/输出端口的静电释放ESD保护结构,可以应用于FPGA器件等各种芯片中。
需要说明的是,虽然在本发明的图1中,以8对CMOS管及16个电阻R的多指条保护结构为例对本发明的ESD保护结构进行了描述,但并非以此对本发明的具体实现方式构成任何限定。
以上所述的具体实施方式,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施方式而已,并不用于限定本发明的保护范围,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种芯片输入/输出端口的静电释放ESD保护结构,其特征在于,所述结构包括:
在所述芯片输入/输出端口与芯片内部连接端子之间的一组CMOS驱动管,和所述一组CMOS驱动管中的每一个驱动管的漏极与所述芯片输入/输出端口之间串接的电阻;其中,所述电阻为注入电阻,与阱区之间存在寄生二极管,用于形成ESD放电通路。
2.根据权利要求1所述的ESD保护结构,其特征在于,所述CMOS驱动管包括NMOS管和PMOS管。
3.根据权利要求2所述的ESD保护结构,其特征在于,与所述NMOS管连接的所述电阻为N型注入电阻,通过在所述NMOS管的P阱区进行N型掺杂注入形成;所述N型注入电阻对所述P阱区有寄生二极管,用于泄放电流。
4.根据权利要求2所述的ESD保护结构,其特征在于,与所述PMOS管连接的所述电阻为P型注入电阻,通过在所述PMOS管的N阱区进行P型掺杂注入形成;所述P型注入电阻对所述N阱区有寄生二极管,用于泄放电流。
5.根据权利要求1所述的ESD保护结构,其特征在于,所述结构具体为多指条型ESD保护结构。
6.根据权利要求1所述的ESD保护结构,其特征在于,所述寄生二极管与所对应的驱动管之间为并联结构。
7.一种芯片,其特征在于,所述芯片包括上述权利要求1-6任一所述的输入/输出端口的静电释放ESD保护结构。
8.根据权利要求7所述的芯片,其特征在于,所述芯片为FPGA芯片。
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CN112180239A (zh) * | 2020-09-27 | 2021-01-05 | 江苏东海半导体科技有限公司 | 一种集成电路输入端输出端口可靠性问题的检测方法 |
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