CN105960155A - 一种电磁屏蔽视窗用的柔性透明导电材料及制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种电磁屏蔽视窗用柔性透明导电材料,包括柔性透明高分子材料层,柔性透明高分子材料层的表面具有由纳米银浆制备的导电网格,导电网格上镀有金属层,或:导电网格进行了黑化处理;所述柔性透明高分子材料层的组分组成为柔性透明高分子材料;所述柔性透明高分子材料选自聚酯膜、聚酰亚胺膜;所述金属层的组分组成为:铜、铁、镍、铁镍、镍钴或/和合金中的任意一种或两种以上。本发明的电磁屏蔽视窗用柔性透明导电材料,屏蔽效能高,金属层均匀性、结合力好,透光度好,表面电阻≤0.05Ω/口,透光率能达到70%以上。本发明可广泛应用于透明导电视窗、屏蔽机柜以及各类屏蔽工程等领域。
Description
技术领域
本发明涉及一种电磁屏蔽视窗用柔性透明导电材料及其制备方法,属于电磁屏蔽技术领域。
背景技术
目前,随着各种电子设备的广泛应用,很多应用光学窗的场合都要求光学窗在可见光波段具有高透低反的光学特性,同时还具有较强的宽波段电磁屏蔽能力,如机载车载显示器件,医疗电子显示设备的光学窗,党政机关、商业、科研等重要办公场所的窗玻璃等。
现有技术中,常用的电磁屏蔽视窗用透明导电材料主要有:(1)镀金属膜方式,透光率较好,但屏蔽效果很低;(2)金属丝网方式,屏蔽效果较好,但透光度差,难以满足使用要求。中国发明专利申请“用于屏蔽视窗的屏蔽丝、丝网及夹丝网屏蔽视窗”(申请号:201210273084.7;公开号:CN 102781208 A)公开了一种用于屏蔽视窗的屏蔽丝、丝网及夹丝网屏蔽视窗,其在不锈钢丝或铜丝外表面镀金属层(镍层、银层),提高了视窗的屏蔽效果,但透光度还需要进一步提高。
发明内容
针对上述现有技术,本发明提供一种了柔性透明导电材料,其具有高透光率、高屏蔽效能等优点,本发明还提供了其制备方法,该制备方法具有工艺简单、操作方便、成本低廉等优点。
本发明是通过以下技术方案实现的:
一种电磁屏蔽视窗用柔性透明导电材料,包括柔性透明高分子材料层,柔性透明高分子材料层的表面具有由纳米银浆制备的导电网格,导电网格上镀有金属层,或:导电网格进行了黑化处理;所述柔性透明高分子材料层的组分组成为柔性透明高分子材料;所述柔性透明高分子材料选自聚酯膜、聚酰亚胺膜等薄膜材料;所述金属层的组分组成为:铜、铁、镍、铁镍、镍钴等单质金属或/和合金中的任意一种或两种以上的复合。
进一步地,所述柔性透明导电材料的厚度为0.014~0.6mm,其中柔性透明高分子材料层的厚度为0.01~0.5mm。
所述电磁屏蔽视窗用柔性透明导电材料的制备方法,包括以下步骤:
(1)对柔性透明高分子材料表面进行前处理,以提高基材表面粗糙度和清洁度及活性;
所述前处理的具体方式选自等离子处理、电晕处理、离子束处理等物理处理方法;
优选的,所述前处理的具体方式为等离子处理,等离子处理真空度为0.1~10Pa;
(2)上述前处理后,用纳米银浆在柔性透明高分子材料表面制备导电网格;
所述制备导电网格的方法选自丝网印刷、蚀刻网格、自组装纳米银浆涂布等方法;
所述导电网格为菱形、矩形、六边形、圆形或不规则形状等,网格线径0.003~0.05mm,网格间距为0.1~5mm;
(3)在上述导电网格上复镀金属层,以提高其屏蔽效能;
或:对上述导电网格进行黑化处理,以提高明视对比度。
所述金属层的组分选自铜、铁、镍、铁镍、镍钴等单质金属或/和合金。
所述复镀金属层的方法选自化学镀、电镀、物理气相沉积等方法。
优选的,复镀金属层的方法采用化学镀,镀锡镍合金,镀液的组分组成为:氯化亚锡5~20g/L,氯化镍20~100g/L,蛋氨酸5~20g/L,焦磷酸钾100~200g/L,余量为水。
优选的,复镀金属层的方法采用电镀,镀铜,镀液的组分组成为:柠檬酸铵5~20g/L,焦磷酸铜20~100g/L,焦磷酸钾100~500g/L,余量为水。
所述黑化处理的方法选自镀黑色金属或合金、化学黑化处理等方法。
优选的,黑化处理的方法为化学黑化处理,所采用的黑化剂具体组分为TeO2和盐酸,TeO2的浓度为10~100g/L。
上述未详细说明书的技术、方法等,均为现有技术中已有的常规技术、方法,在此不再赘述。
本发明的电磁屏蔽视窗用柔性透明导电材料,屏蔽效能高,金属层均匀性、结合力好,透光度好,表面电阻≤0.05Ω/口,透光率能达到70%以上;制造成本低廉,对环境无污染,易于规模化生产。本发明的电磁屏蔽视窗用柔性透明导电材料,可广泛应用于透明导电视窗、屏蔽机柜以及各类屏蔽工程等领域。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步的说明。
下述实施例中所涉及的仪器、试剂、材料等,若无特别说明,均为现有技术中已有的常规仪器、试剂、材料等,可通过正规商业途径获得。下述实施例中所涉及的实验方法,检测方法等,若无特别说明,均为现有技术中已有的常规实验方法,检测方法等。
实施例1
步骤如下:
(1)将厚度为0.01mm的聚酯薄膜在真空状态下进行等离子处理,以提高薄膜表面的清洁度和活性,等离子处理真空度为5Pa,速度为1m/min。
(2)将纳米银浆涂覆在等离子处理后的聚酯薄膜表面,用蚀刻方法制备菱形网格,网格线径0.05mm,网格间距为2mm。
(3)对上述网格在室温下进行化学黑化处理,黑化剂具体组分为TeO2和盐酸,TeO2的浓度为60g/L,速度为15m/h,时间为15s,经测试该网格方块电阻为0.05Ω/口,透光度为73%,厚度为0.014mm。
实施例2
步骤如下:
(1)将厚度为0.3mm的聚酯薄膜在真空状态下进行等离子处理,以提高薄膜表面的清洁度和活性,所述等离子处理真空度为1Pa;
(2)用纳米银浆,采用丝网印刷方法在上述处理后的聚酯薄膜表面制备矩形网格,网格线径0.03mm,网格间距为0.5mm;
(3)在上述网格表面电镀铜,镀液的组分组成为:柠檬酸铵15g/L,焦磷酸铜60g/L,焦磷酸钾300g/L,余量为水;温度为40℃,速度为6m/h;
(4)在上述网格表面镀锡镍合金,镀液的组成成分为:氯化亚锡20g/L,氯化镍100g/L,蛋氨酸5g/L,焦磷酸钾200g/L,余量为水;温度为40℃,速度为6m/h。所得电磁屏蔽视窗用柔性透明导电材料,经测试该网格方块电阻为0.04Ω/口,透光度为80%,厚度为0.306mm。
实施例3
步骤如下:
(1)将厚度为0.4mm的聚酯薄膜在真空状态下进行等离子处理,以提高薄膜表面的清洁度和活性,所述等离子处理真空度为10Pa;
(2)用纳米银浆,采用丝网印刷方法在等离子处理后的聚酯薄膜表面制备六边形网格,所述网格线径0.02mm,网格间距为1mm;
(3)在上述网格表面电镀铜,所述镀液主要成为为柠檬酸铵5g/L,焦磷酸铜100g/L,焦磷酸钾100g/L,余量为水;温度为50℃,速度为8m/h;
(4)上述网格表面镀锡镍合金,镀液的组成成分为:氯化亚锡15g/L,氯化镍80g/L,蛋氨酸20g/L,焦磷酸钾100g/L,余量为水;温度为40℃,速度为6m/h。所得电磁屏蔽视窗用柔性透明导电材料,经测试该网格方块电阻为0.03Ω/口,透光度为75%,厚度为0.408mm。
实施例4
步骤如下:
(1)将厚度为0.5mm的聚酯薄膜在真空状态下进行等离子处理,以提高薄膜表面的清洁度和活性,所述等离子处理真空度为0.5Pa;
(2)采用自组装纳米银(外购产品)浆涂布在薄膜表面,利用纳米银浆自组装功能形成不规则网格图形,所述网格线径0.004mm;
(3)在上述网格表面电镀铜,所述镀液主要成为为柠檬酸铵20g/L,焦磷酸铜20g/L,焦磷酸钾500g/L,余量为水;温度为50℃,速度为8m/h;
(4)在上述网格表面镀锡镍合金,镀液的组成成分为:氯化亚锡5g/L,氯化镍20g/L,蛋氨酸10g/L,焦磷酸钾150g/L,余量为水;温度为40℃,速度为6m/h。所得电磁屏蔽视窗用柔性透明导电材料,经测试该网格方块电阻为0.03Ω/口,透光度为76%,厚度为0.510mm。
实施例5制备电磁屏蔽视窗用柔性透明导电材料
步骤如下:
(1)将厚度为0.08mm的聚酯薄膜在真空状态下进行等离子处理,以提高薄膜表面的清洁度和活性,所述等离子处理真空度为0.1~10Pa;
(2)采用自组装纳米银浆(外购产品)涂布在薄膜表面,利用纳米银浆自组装功能形成不规则网格图形,所述网格线径0.003mm;
(3)对上述网格在室温下进行化学黑化处理,黑化剂浓度为100g/L,速度为15m/h、时间为15s,经测试该网格方块电阻为0.04Ω/口,透光度为72%,厚度为0.092mm。
上述虽然结合实施例对本发明的具体实施方式进行了描述,但并非对本发明保护范围的限制,所属领域技术人员应该明白,在本发明的技术方案的基础上,本领域技术人员不需要付出创造性劳动即可做出的各种修改或变形仍在本发明的保护范围以内。
Claims (10)
1.一种电磁屏蔽视窗用柔性透明导电材料,其特征在于:包括柔性透明高分子材料层,柔性透明高分子材料层的表面具有由纳米银浆制备的导电网格,导电网格上镀有金属层,或:导电网格进行了黑化处理;所述柔性透明高分子材料层的组分组成为柔性透明高分子材料;所述柔性透明高分子材料选自聚酯膜、聚酰亚胺膜;所述金属层的组分组成为:铜、铁、镍、铁镍、镍钴或/和合金中的任意一种或两种以上。
2.根据权利要求1所述的电磁屏蔽视窗用柔性透明导电材料,其特征在于:所述柔性透明导电材料的厚度为0.014~0.6mm,其中柔性透明高分子材料层的厚度为0.01~0.5mm。
3.权利要求1或2所述的电磁屏蔽视窗用柔性透明导电材料的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
(1)对柔性透明高分子材料表面进行前处理,以提高基材表面粗糙度和清洁度及活性;
(2)上述前处理后,用纳米银浆在柔性透明高分子材料表面制备导电网格;
(3)在上述导电网格上复镀金属层,或:对上述导电网格进行黑化处理;
所述金属层的组分选自铜、铁、镍、铁镍、镍钴或/和合金。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:所述步骤(1)中,所述前处理的具体方式选自等离子处理、电晕处理、离子束处理。
5.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)中,所述制备导电网格的方法选自丝网印刷、蚀刻网格、自组装纳米银浆涂布。
6.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:所述步骤(2)中,所述导电网格为菱形、矩形、六边形、圆形或不规则形状,网格线径0.003~0.05mm,网格间距为0.1~5mm。
7.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)中,所述复镀金属层的方法选自化学镀、电镀、物理气相沉积。
8.根据权利要求3或7所述的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)中,复镀金属层的方法采用化学镀,镀锡镍合金,镀液的组分组成为:氯化亚锡5~20g/L,氯化镍20~100g/L,蛋氨酸5~20g/L,焦磷酸钾100~200g/L,余量为水;
或:复镀金属层的方法采用电镀,镀铜,镀液的组分组成为:柠檬酸铵5~20g/L,焦磷酸铜20~100g/L,焦磷酸钾100~500g/L,余量为水。
9.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)中,所述黑化处理的方法选自镀黑色金属或合金、化学黑化处理。
10.根据权利要求3或9所述的制备方法,其特征在于:所述步骤(3)中,黑化处理的方法为化学黑化处理,所采用的黑化剂具体组分为TeO2和盐酸,TeO2的浓度为10~100g/L。
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