CN105940519A - 用于制造基板的方法、基板、用于制造有机电致发光器件的方法和有机电致发光器件 - Google Patents

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Abstract

本发明的目的是减少在有机电致发光器件的界面处被吸收的光和消失的光，从而提高发射到外部的光的提取效率。基板11涂覆有聚合物以形成聚合物层12；等离子体引起的离子轰击应力施加在聚合物层12上以形成具有多个波纹部分的波纹层13；并且第一电极、有机发光层和第二电极依次形成在上面形成有波纹层的基板上，从而制造有机电致发光器件。此外，金属层23可以额外地形成在聚合物层上，可以同时施加离子轰击应力和热应力以形成波纹部分，并且然后可以去除金属层。

Description

用于制造基板的方法、基板、用于制造有机电致发光器件的方法和有机电致 发光器件
技术领域
本发明涉及用于制造基板的方法、使用所述基板制造有机电致发光器件的方法以及通过所述方法制造的基板和有机电致发光器件。
背景技术
有机电致发光器件(以下简称为有机EL器件)是具有这样一种结构的发光器件：包含有机化合物的有机发光层插设在一对电极之间，这对电极包括阴极和阳极且形成在例如玻璃基板等的透明基板上，并且空穴和电子从这对电极注入到有机发光层中以使空穴和电子重新结合，从而产生激子，使得当激子的活性失去时发出的光用于显示等。
使用有机电致发光器件作为发光器件的有机电致发光显示装置作为平板显示装置受到关注，由于其与其他显示装置相比具有出色的亮度和视角特性且又轻又薄，此外，使用的有机电致发光器件也被作为用于照明的光源等。
当有机电致发光器件用作显示装置、用于照明的光源等时，就利用率和降低功耗而言，优选的是将有机电致发光器件中的有机发光层产生的光尽可能多地发射到装置的外部。然而，已知作为实际情况，由于各种原因，有机发光层产生的光的仅20％被射出。其原因包括有机材料本身中的光吸收和消光，在由有机材料制成的有机发光层与由金属等制成的电极之间的界面处的光吸收和消光，由于所谓的等离子共振(plasmonic resonance)而在不发射到外部的情况下的装置中的消光等。另外，已知由于电极与基板之间的折射率的差异的全反射使光提取效率劣化。
因此，有机电致发光器件的领域中的一个重要任务是通过提高如上所述的低的光提取效率尽可能多地使光被发射到装置外部。
作为相关领域中已知的用于提高光提取效率的技术，专利文献1和2中提出了用于提高光提取效率的技术。这些文献公开了在基板或有机发光层的外表面上形成散射层，以便通过使用散射层来提高光提取效率的技术，所述散射层用于对有机发光层产生的光的散射作用。
然而，在专利文献1和2中，通过以下方法形成散射层：在溶剂中分散散射颗粒，并且在待涂覆的透明电极与基板之间插设分散颗粒，这样难以实现大量生产，因为颗粒的完全分散是不可能的。
作为相关领域中已知的另一种技术，专利文献3中描述了一种技术。图1是专利文献3的有机电致发光器件的示意性剖视图。
如图1所示，专利文献3的有机电致发光器件具有以下结构：聚合物70、由ITO等制成的第一电极61、有机发光层62以及由金属制成的第二电极63依次布置在基板50上，并且聚合物70具有在其上以诸如圆形、椭圆形、半球形等的形状形成的波纹部分71。
根据用于形成波纹部分71的方法，通过以下方式形成波纹部分71：通过氧气等离子体处理在基板50上形成羟基，在基板上涂覆聚合物70，将涂有微粒的模具压印在涂覆有聚合物70的基板50上，然后在氮气气氛下执行紫外线硬化。然后，通过使用相关领域中已知的方法顺序形成第一电极61、有机发光层62和第二电极63来制造有机电致发光器件。
这样，在专利文献3中，波纹部分通过所谓的纳米压印来形成。然而，纳米压印方法具有复杂的过程和增加的过程成本，使得难以实现大量生产。另外，由于聚合物易受水分侵蚀，还要求解决水分渗透到装置中的问题的单独的对策。
作为除上述方法之外的用于提高光提取效率的另一种方法，存在这样一种技术：在透明电极与透明基板之间插设高折射率材料以最小化全反射，从而提高光提取效率。然而，也增加了该技术的过程成本，并且根据实施的颜色出现光提取效率的偏差。
此外，存在通过在透明电极与基板之间插设多孔材料来散射内部的光子的用于提高光提取效率的技术，然而，该技术难以应用于具有大尺寸的结构，并且存在降低生产率的问题。
另外，还进行了以下研究：将微透镜阵列(MLA)薄膜附接在有机电致发光器件的基板的表面上的方法，使用喷砂技术改变基板的表面粗糙度的方法，等等。
然而，在附接MLA薄膜的方法中，由于粘附膜与MLA薄膜之间的光学性质(折射率和吸收率)的差异而出现了发射到外部的光子的减少，需要昂贵的设备用于附接薄膜，因此，增加了过程成本，并且很可能在附接薄膜的过程期间引入气泡。在使用喷砂的方法中，也存在难以获得均匀的表面粗糙度的问题等。
作为另一种方法，存在使用高折射率透明基板减小完全反射到装置中的光以提高光提取效率的方法。然而，此技术仍然处于开发阶段，并且存在将此技术应用于大量生产过程的限制。
<在先技术文献>
<专利文献>
专利文献1：WO02/37580A1公开单行本(2002.5.10公开)
专利文献2：US 2001/0026124A1公报(2011.10.4公开)
专利文献3：公开专利NO.10-2011-87433公报(2011.8.3公开)
发明内容
技术问题
本发明的目的是提供一种用于制造基板的方法、使用所述基板制造有机电致发光器件的方法以及通过所述方法制造的基板和有机电致发光器件，其通过改善相关领域的问题能够在用较简单的过程提高有机电致发光器件的光提取效率的同时降低器件的制造成本。
技术方案
为了实现上述目的，根据本发明，提供了一种用于制造基板的方法，所述方法包括：在基板上形成聚合物层；以及向上面形成有所述聚合物层的所述基板施加离子轰击应力(ion bombardment stress)，以在所述聚合物层上形成波纹部分(corrugated part)。
此外，根据本发明，提供了一种用于制造基板的方法，所述方法包括：在基板上形成聚合物层；在所述聚合物层上形成金属层；向上面形成有所述聚合物层和所述金属层的所述基板施加离子轰击应力以形成波纹部分；以及去除所述金属层。
另外，根据本发明，提供了通过上述方法中的任意一种制造的基板。
另外，根据本发明，提供了一种用于制造有机电致发光器件的方法，所述方法包括：制备通过上述方法中的任意一种制造的基板；在所述波纹部分上形成第一电极；在所述第一电极上形成有机发光层；以及在所述有机发光层上形成第二电极。
另外，根据本发明，提供了一种用于制造有机电致发光器件的方法，所述方法包括：制备通过上述方法中的任意一种制造的基板；在所述基板的与上面形成有所述波纹部分的表面相反的表面上形成第一电极；在所述第一电极上形成有机发光层；以及在所述有机发光层上形成第二电极。
另外，根据本发明，提供了一种有机电致发光器件，所述有机电致发光器件包括：通过上述方法中的任意一种制造的基板；形成在所述波纹部分上的第一电极；形成在所述第一电极上的有机发光层；以及形成在所述有机发光层上的第二电极。
另外，根据本发明，提供了一种有机电致发光器件，所述有机电致发光器件包括：通过上述方法中的任意一种制造的基板；第一电极，所述第一电极形成在所述基板的与上面形成有所述波纹部分的表面相反的表面上；形成在所述第一电极上的有机发光层；以及形成在所述有机发光层上的第二电极。
另外，根据本发明，提供了一种有机电致发光器件，所述有机电致发光器件包括：基板；形成在所述基板上的波纹层(corrugated layer)；形成在所述波纹层上的第一电极；形成在所述第一电极上的有机发光层；以及形成在所述有机发光层上的第二电极，其中，所述波纹层是通过向形成在所述基板上的聚合物层施加离子轰击应力而形成的。
另外，根据本发明，提供了一种有机电致发光器件，所述有机电致发光器件包括：基板，所述基板具有形成在其一个表面上的波纹层；第一电极，所述第一电极形成在所述基板的与上面形成有所述波纹层的表面相反的表面上；形成在所述第一电极上的有机发光层；以及形成在所述有机发光层上的第二电极，其中，所述波纹层是通过向形成在所述基板上的聚合物层施加离子轰击应力而形成的。
另外，根据本发明，提供了一种有机电致发光器件，所述有机电致发光器件包括：基板；形成在所述基板上的波纹层；形成在所述波纹层上的第一电极；形成在所述第一电极上的有机发光层；以及形成在所述有机发光层上的第二电极，其中，所述波纹层是通过向依次形成在所述基板上的聚合物层和金属层施加离子轰击应力而形成的，并且在施加所述离子轰击应力之后，所述金属层被去除。
此外，根据本发明，提供了一种有机电致发光器件，所述有机电致发光器件包括：基板，所述基板具有形成在其一个表面上的波纹层；第一电极，所述第一电极形成在所述基板的与上面形成有所述波纹层的表面相反的表面上；形成在所述第一电极上的有机发光层；以及形成在所述有机发光层上的第二电极，其中，所述波纹层是通过向依次形成在所述基板上的聚合物层和金属层施加离子轰击应力而形成的，并且在施加所述离子轰击应力之后，所述金属层被去除。
有益效果
根据本发明的有机电致发光器件，通过向层压在基板上的聚合物层施加离子轰击应力的方法形成具有多个波纹部分的波纹层，并且第一电极、有机发光层、第二电极等形成在波纹层上或基板的与上面形成有波纹层的表面相反的表面上，从而能够通过波纹层减少在有机电致发光器件中被吸收的光和消失的光的量，以便提高发射到外部的光的提取效率，从而降低相同亮度的功耗。
另外，根据本发明的形成波纹层的过程比现有技术简单，并且不需要单独的设备来形成波纹层，并且可以通过使用用于制造有机电致发光器件的现有设备形成波纹层。因此，本发明还具有甚至用低成本也能够进行大量生产的效果。
附图说明
图1是示出了相关领域的有机电致发光器件的示意性配置的剖视图。
图2A至图2D是示出了根据本发明的优选实施例1的制造有机电致发光器件的过程的视图。
图3A是根据实施例1制造的有机电致发光器件的剖视图，并且图3B是波纹部分的电子显微照片。
图4是示出了根据本发明的优选实施例2的制造有机电致发光器件的过程的视图。
图5是示出了根据修改例1的制造有机电致发光器件的过程的视图。
图6是示出了根据修改例2的制造有机电致发光器件的过程的视图。
图7是示出了通过相关领域的方法制造的有机电致发光器件和通过实施例1的方法制造的有机电致发光器件的光的分布图的曲线图。
图8是示出了通过相关领域的方法制造的有机电致发光器件和通过实施例1的方法制造的有机电致发光器件的电压-电流特性的曲线图。
图9是示出了通过相关领域的方法制造的有机电致发光器件和通过实施例1的方法制造的有机电致发光器件的电压-电流密度特性的曲线图。
图10是示出了通过相关领域的方法制造的有机电致发光器件和通过实施例1的方法制造的有机电致发光器件的电压-功率效率的曲线图。
图11是示出了通过相关领域的方法制造的有机电致发光器件和通过实施例1的方法制造的有机电致发光器件的电压-亮度特性的曲线图。
图12是示出了根据本发明的优选实施例3的有机电致发光器件的剖视图。
图13是示出了通过相关领域的方法制造的有机电致发光器件和通过本发明的方法制造的有机电致发光器件的光的分布图的曲线图。
图14是示出了通过相关领域的方法制造的有机电致发光器件和通过实施例3制造的有机电致发光器件的电压-电流密度特性的曲线图。
图15是示出了通过相关领域的方法制造的有机电致发光器件和通过实施例3制造的有机电致发光器件的电压-功率效率的曲线图。
图16是示出了通过相关领域的方法制造的有机电致发光器件和通过实施例3制造的有机电致发光器件的每个波长范围的发光光谱分布的曲线图。
具体实施方式
以下将参照附图详细描述本发明的优选实施例。
<实施例1>
首先，将参照图2描述本发明的优选实施例1。图2A至图2D是示出了根据本发明的优选实施例1的制造有机电致发光器件的过程的视图。
如图2所示，首先，制备基板11(参见图2A)。基板11是在常规的有机电致发光器件10中使用的基板，例如，可以是透明玻璃基板，或透明塑料基板。
接下来，清洗基板11。可以通过相关领域中已知的方法清洗基板11，例如，使用清洗剂和超声波清洗机，并且通过干燥过程干燥清洗的基板11。
然后，将聚合物涂覆在清洗并干燥的基板上以形成聚合物层12(参见图2B)。
作为用于形成聚合物层12的聚合物，适当地使用满足以下条件的材料。
1.过程应当对蚀刻剂、显影剂、剥离剂等稳定，并且聚合物应当不会被这些物质化学破坏。
2.聚合物甚至在300℃或更高的热处理过程中也不应当被热破坏。
3.过程应当不输出气体。
4.以1μm或更薄的厚度涂覆的过程应当可行。
5.形成聚合物层12的过程应当对应力具有再现性。
6.光刻(photolithography)过程应当可行。
7.聚合物层应当具有合适的光系数，例如，1.5或更大的折射率，低的光吸收率(低消光系数)、90％或更大的透射比等。
在本实施例中，作为聚合物层12的材料，使用Samyang公司的触摸屏涂层材料SOI-4000(touch screen over coating material SOI-4000)。
作为涂覆聚合物的方法，在本实施例中使用旋涂法，并且涂覆速度在500至2000RPM的范围内，并且聚合物层12的涂层厚度为0.3至3.0μm。然而，涂覆方法不限于旋涂法，而是可以使用其他方法，只要其是能够通过以预定的厚度在基板11上涂覆聚合物来形成聚合物层12的方法。
接下来，在100℃的温度下执行软烘烤约90秒(soft baking)，然后向聚合物层12的表面施加离子轰击应力，以在聚合物层12的表面上形成多个波纹部分(凹陷-凸起)，从而形成波纹层13(参见图2C)。
通过将上面形成有聚合物层12的基板11引入到等离子体处理设备(plasma treatment apparatus)中执行等离子体处理来形成波纹层13。在本实施例中，氩气用作用于处理的气体，并且气体流速为70至200SCCM，压强为8Pa，功率在50至200W的范围内，处理时间在1至20分钟的范围内。
接下来，在从开始约230℃的温度逐渐降低到室温的同时执行硬化过程约2至6小时，以获得在上面形成有波纹层13的基板。
图3B是形成在基板11上的波纹层13的电子显微照片(通过Olympus公司的共焦激光扫描显微镜LEXT OLS3000拍摄)，并且可以确认多个波纹部分较为周期性地形成在基板11上。
根据涂覆速度的聚合物层12的厚度、形成的波纹层13的波纹部分的周期和高度如下面表1所示。
[表1]
从上面表1可以看出，聚合物层12的涂层厚度以及波纹层13的波纹部分的平均周期和平均高度与旋涂的涂覆速度直接相关，并且可以从上述结果看出，可以根据有机电致发光器件10的器件特性(例如，用途、尺寸和材料等)适当地设置聚合物层12的涂层厚度，并且相应地可以根据需要适当地设置波纹层13的周期和高度。
在本实施例中，波纹部分的尺寸优选地为300nm至200μm，并且如果波纹部分的尺寸小于300nm，或超过200μm，本发明的效果就会不显著。
另外，波纹部分的形状也影响光提取效率。也就是说，当波纹部分具有诸如椭圆形或不规则形状的形状时，可以比波纹部分具有完全球形的情形更加提高光提取效率。
另外，在本实施例中，作为向聚合物层12的表面施加离子轰击应力的方法，使用了使用氩气等离子体处理的方法，但是不限于此。也可以通过其他合适的方法向聚合物层12的表面施加离子轰击应力来形成波纹层13。
然后，如图2D所示，第一电极14、有机发光层15和第二电极16依次形成在波纹层13上。
当第一电极为阴极时，第二电极为阳极，并且当第一电极为阳极时，第二电极为阴极。根据本发明的有机电致发光器件是前发射型(front emissiontype)还是后发射型(rear emission type)来适当地确定电极的极性。
作为用于形成第一电极、有机发光层、第二电极等的方法、材料、条件等，可以选择性地使用相关领域中已知的各种方法，并且这不是本发明的主题，因此，将不进行详细描述。
另外，尽管图2D未示出，如有需要，可以进一步形成消气剂(getter)17等，然后可以在上面密封盖玻璃18，从而完成有机电致发光器件10(参见图3A)。
图3A是示出了有机电致发光器件10的剖视图，其中，第一电极14、有机发光层15、第二电极16等依次形成在波纹层13上，该波纹层通过本实施例所述的方法形成在基板11上。
密封材料S填充在基板11与盖玻璃18之间以将其密封。
在根据如上所述的本实施例的有机电致发光器件10中，通过向层压在基板11上的聚合物层12施加离子轰击应力的方法来形成具有多个波纹部分的波纹层13，并且第一电极14、有机发光层15、第二电极16等依次形成在波纹层13上，从而能够通过波纹层13提高发射到有机电致发光器件10外部的光的提取效率，并且从而降低相同亮度的功耗。
另外，根据本发明的形成波纹层13的过程比现有技术简单，并且不需要例如压印设备的单独的设备来形成波纹层13，并且可以通过使用用于制造有机电致发光器件的现有设备来形成波纹层。因此，本发明还具有甚至用低成本也能够进行大量生产的效果。
<效果实验>
为了确认实施例1的电气性质和光学性质，制造了在基板与第一电极之间不包括波纹层的相关领域的有机电致发光器件的具有2×2英寸的尺寸的样品和具有5×5英寸的尺寸的样品，以及在基板与第一电极之间包括波纹层的实施例1的有机电致发光器件的具有2×2英寸的尺寸的样品和具有5×5英寸的尺寸的样品，并且对这些样品进行各种实验。以下将描述其结果。
(1)首先，对相关领域的测试样品和实施例1的测试样品执行用于表明光的分布图的发光强度分布分析，图7中示出了其结果。图7A示出了具有2×2英寸的尺寸的样品的结果，并且图7B示出了具有5×5英寸的尺寸的样品的结果。
通过使用测角光度计(Pimacs有限公司)执行测量，并且如图7所示，可以看到，与相关领域的样品相比，在实施例1的包括波纹层的具有2×2英寸的尺寸的样品和具有5×5英寸的尺寸的样品中，发光强度分布都得到了显著提高。
(2)接下来，对相关领域的测试样品和实施例1的测试样品执行电压-电流特性测量以及电压-电流密度特性测量，图8和图9分别示出了其结果。
如图8和图9所示，可以看到，与相关领域的样品相比，在实施例1的包括波纹层的具有2×2英寸的尺寸的样品和具有5×5英寸的尺寸的样品中，相同电压下的电流值和电流密度都得到了提高。
(3)另外，还测量了相关领域的测试样品和实施例1的测试样品中电压与功率效率之间的关系以及电压与亮度之间的关系，并且图10和图11分别示出了其结果。
亮度通过使用Topcon公司的BM-7彩色亮度计(BM-7luminancecolorimeter)来测量，并且如图10和图11所示，可以看到，与相关领域的不具有波纹层的样品相比，在实施例1的包括波纹层的具有2×2英寸的尺寸的样品和具有5×5英寸的尺寸的样品中，相同电压下的功率效率和亮度都得到了提高。
(4)另外，使用积分球光度计(integrating sphere photometer)测量整体光通量，由此分别测量相关领域的测试样品和实施例1的测试样品的照明效率和照明效率提高率。表2示出了其结果。
[表2]
如表2所示，实施例1的包括波纹层的具有2×2英寸的尺寸的样品和具有5×5英寸的尺寸的样品的照明效率比相关领域的没有波纹层的样品高很多。具有2×2英寸的尺寸的样品和具有5×5英寸的尺寸的样品的照明效率提高率也提高了48％或更多。
从上述实验结果可以确认，通过根据实施例1的波纹层可以提高发射到有机电致发光器件外部的光的提取效率，并且因此，可以减小用于相同亮度的功耗。
<实施例2>
接下来，将参照图4描述本发明的优选实施例2。图4A至图4F是示出了根据本发明的优选实施例2的制造有机电致发光器件的过程的视图。
除形成波纹层的过程之外，实施例2中的过程与实施例1中描述的过程相同，因此，以下主要描述与实施例1的区别。
首先，将聚合物涂覆在诸如玻璃基板或塑料基板的透明基板21上以形成聚合物层22(参见图4A和图4B)。基板21的材料和用于形成聚合物层22的方法分别与实施例1中的基板11的材料和用于形成聚合物层12的方法相同。
接下来，金属层23沉积在聚合物层22上(参见图4C)。可以通过沉积金属层的常规方法(例如，离子束沉积)来执行金属层23的沉积，并且在本实施例中，以0.1nm/s的速率和10nm的总厚度沉积金属层23。
作为用于形成金属层23的材料，例如，可以使用铝(Al)。由于铝与聚合物层22之间的热膨胀系数的差异很大，所以可以容易地形成波纹牺牲层25。然而，用于形成金属层23的材料不限于铝，而是也可以使用其他金属。
接下来，通过向上面形成有聚合物层22和金属层23的基板施加离子轰击应力，分别在聚合物层22和金属层23上形成波纹层24和波纹牺牲层25(参见图4D)。用于向上面形成有聚合物层22和金属层23的基板施加离子轰击应力的方法和条件与实施例1中的波纹层13的方法和条件相同。
接下来，在施加离子轰击应力之后，向上面形成有聚合物层22和金属层23的基板施加热应力。可以直接向上面形成有聚合物层22和金属层23的基板施加热应力，或者可以通过将被施加离子轰击应力的基板引入到加热炉中并且使基板在约2小时内从开始的约230℃的温度逐渐冷却到室温来施加热应力。
可以在同一过程中同时施加离子轰击应力和热应力，或者可以在施加离子轰击应力之后进一步施加热应力。在本实施例中，热应力进一步施加在上面层压有聚合物层22和金属层23的基板上，使得通过聚合物与金属之间的热膨胀系数的差异更可靠地形成波纹层24和波纹牺牲层25。
接下来，通过蚀刻去除由金属制成的波纹牺牲层25，使得仅留下由聚合物制成的波纹层24(参见图4E)。在本实施例中，作为蚀刻剂，使用铝蚀刻剂，并且通过在40℃的温度下湿法蚀刻3分钟来完全去除由金属制成的波纹牺牲层25。
在本文中，作为蚀刻剂，当金属牺牲层25的材料为铝时，使用可以最容易地去除的波纹牺牲层25的铝蚀刻剂。然而，当除铝之外的其他材料用作金属牺牲层25的材料时，可以使用能容易地去除相应的金属牺牲层的合适的蚀刻剂。
接下来，执行硬化过程以获得多个波纹层24形成在其整个表面上的基板。
实施例2的硬化过程与实施例1中描述的硬化过程相同。
接下来，如图4F所示，包括第一电极26、有机发光层27和第二电极28的层依次形成在波纹层24上，并且如有需要，进一步形成消气剂等，然后通过盖玻璃密封有机电致发光器件，从而完成有机电致发光器件。
在本实施例中，通过在聚合物层22上进一步形成金属层23并且在聚合物层22和金属层23上进一步施加除离子轰击应力之外的热应力，可以比实施例1更可靠且容易地形成波纹层。
在本实施例中，未确认电气性质和光学性质，然而，由于可以比实施例1更可靠地形成波纹层，所以可以猜想根据实施例2的方法制造的有机电致发光器件的电气性质和光学性质将得到更大提高。
<修改例1>
在实施例1中，通过向形成在基板11上的整个聚合物层12施加离子轰击应力来形成波纹层13，然而，可以进一步执行以预定的尺寸图案化形成在基板11上的聚合物层12的图案化过程。
将参照图5简要描述进一步执行图案化过程的修改例。
图5A和图5B与实施例1的图2A和图2B相同，并且在图5C中，以预定的尺寸图案化聚合物层12。
执行图案化的原因在于，尽管如图3所示通过盖玻璃最终密封有机电致发光器件，但是由于聚合物非常容易受到水分破坏，当由聚合物制成的波纹层13暴露于盖玻璃外部时，水分很可能渗透到有机电致发光器件中，此外，由于第一电极、有机发光层、第二电极等仅形成在盖玻璃内侧的区域中，所以波纹层13的尺寸有必要与第一电极、有机发光层、第二电极等的尺寸匹配。
具体地，如图3A所示，为了防止水分渗透到有机电致发光器件中的问题，密封材料S填充在基板11与盖玻璃18之间以密封有机电致发光器件。然而，当表面上形成有波纹部分的波纹层13的尺寸大于盖玻璃的内周面的尺寸时，基板和盖玻璃由于波纹部分而不能彼此紧密附接，并且基板和盖玻璃不能通过密封材料S直接密封。因此，以预定的尺寸图案化聚合物层12以解决上述问题。
图5C中的虚线所示的部分是图案化过程去除的部分，并且通过常规的照片过程(photo process)和显影过程(development process)执行图案化，因此，将不详细描述图案化方法。
<修改例2>
在实施例2中，通过以下方式形成波纹层24：在形成在基板21上的整个聚合物层22上形成金属层23，并且向其施加离子轰击应力和热应力。然而，可以和修改例1一样进一步执行将形成在基板21上的聚合物层22图案化的图案化过程(图6C)，然后金属层23可以形成为使得其尺寸与被图案化为具有预定形状的聚合物层22的尺寸相匹配(图6D)。后续过程与实施例2中描述的图4D和图4E的过程相同。
另外，以预定的尺寸图案化聚合物层22的原因与修改例1中描述的相同。
<实施例3>
接下来，将参照图12描述本发明的优选实施例3。图12是示出了根据本发明的优选实施例3的有机电致发光器件的剖视图。
实施例3与实施例1和2以及修改例1和2的不同之处在于，在实施例1和2以及修改例1和2的有机电致发光器件中，第一电极、有机发光层、第二电极等形成在波纹层上，但是在实施例3中，第一电极、有机发光层、第二电极等形成在基板的与上面形成有波纹层的表面相反的表面上。
如图12所示，在实施例3的有机电致发光器件30中，第一电极34、有机发光层35和第二电极36依次形成在基板31的与上面形成有波纹层33的表面相反的表面上，并且如有需要，进一步包括消气剂37等，并且最终通过盖玻璃38密封有机电致发光器件。
实施例3中使用的基板31可以是通过实施例1和2以及修改例1和2中的上文所述的方法中的任意一种制造的基板。
当第一电极为阴极时，第二电极为阳极，并且当第一电极为阳极时，第二电极为阴极。根据本发明的有机电致发光器件是前发射型还是后发射型来适当地确定电极的极性。然而，基板31的波纹层33侧用作光发射穿过的发光表面。作为用于形成第一电极、有机发光层、第二电极等的方法、材料、条件等，可以选择性地使用相关领域中已知的各种方法。
<效果实验>
为了确认实施例3的有机电致发光器件的电气性质和光学性质，制造了在基板的发光表面侧上不包括波纹层的相关领域的有机电致发光器件的样品以及在基板的发光表面侧上包括波纹层的实施例3的有机电致发光器件的样品，并且对其进行各种实验。以下将描述其结果。
(1)首先，对相关领域的测试样品和实施例3的测试样品执行用于表明光的分布图的发光强度分布分析，图13中示出了其结果。
通过使用测角光度计(Pimacs有限公司)执行测量，并且如图13所示，可以看到，与相关领域的样品相比，在实施例3的具有波纹层的样品中，发光强度分布得到了显著提高。
(2)接下来，对相关领域的测试样品和实施例3的测试样品执行电压-电流效率特性测量，图14中示出了其结果。
如图14所示，可以看到，与相关领域的样品相比，在实施例3的具有波纹层的样品中，相同电压下的电流效率得到了显著提高。
(3)另外，对相关领域的测试样品和实施例3的测试样品还执行电压与功率效率之间的关系的测量，图15中示出了其结果。
如图15的曲线图所示，可以看到，与相关领域的不具有波纹层的样品相比，在实施例3的具有波纹层的样品中，相同电压下的功率效率得到了显著提高。
(4)另外，对相关领域的测试样品和实施例3的测试样品执行每个波长范围的发光光谱分布的测量，图16中示出了其结果。
如图16的曲线图所示，在相关领域的测试样品和实施例3的测试样品中没有观察到每个波长范围的发光光谱分布的特定变化。因此，可以看出，从甚至具有实施例3的结构的有机电致发光器件发出的光的颜色没有实质变化。
(5)此外，在本实施例中，作为有机电致发光器件的基板，使用通过实施例1和2以及修改例1和2的方法制造的基板，因此，明显可以获得与实施例1和2以及修改例1和2相同的效果。
虽然已经描述了本发明的优选实施例和修改例。但是，实施例和修改例仅示出本发明的优选形式，并且因此本发明不限于实施例和修改例。在不脱离本发明的范围和技术理念的情况下可以对本发明进行各种变化和修改。
另外，每个实施例和每个修改例也可以彼此结合。
<附图标记>
10、30 有机电致发光器件
11、21、31 基板
12、22 聚合物层
23 金属层
13、24 波纹层
25 波纹牺牲层
14、26、34 第一电极
15、27、35 有机发光层
16、28、36 第二电极

Claims (16)

1.一种用于制造基板的方法，包括：
在基板上形成聚合物层；以及
向上面形成有所述聚合物层的所述基板施加离子轰击应力，以在所述聚合物层上形成波纹部分。
2.一种用于制造基板的方法，包括：
在基板上形成聚合物层；
在所述聚合物层上形成金属层；
向上面形成有所述聚合物层和所述金属层的所述基板施加离子轰击应力以形成波纹部分；以及
去除所述金属层。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，通过氩气等离子体处理施加所述离子轰击应力。
4.根据权利要求2所述的方法，向上面形成有所述金属层的所述基板进一步施加热应力。
5.根据权利要求4所述的方法，其中，同时施加所述离子轰击应力和所述热应力。
6.根据权利要求4所述的方法，其中，首先施加所述离子轰击应力，然后施加所述热应力。
7.根据权利要求1或2所述的方法，进一步包括将所述聚合物层图案化为预定的形状。
8.一种通过根据权利要求1至7中的任意一项所述的方法制造的基板。
9.一种用于制造有机电致发光器件的方法，包括：
制备根据权利要求8所述的基板；
在所述波纹部分上形成第一电极；
在所述第一电极上形成有机发光层；以及
在所述有机发光层上形成第二电极。
10.一种用于制造有机电致发光器件的方法，包括：
制备根据权利要求8所述的基板；
在所述基板的与上面形成有所述波纹部分的表面相反的表面上形成第一电极；
在所述第一电极上形成有机发光层；以及
在所述有机发光层上形成第二电极。
11.一种有机电致发光器件，包括：
根据权利要求8所述的基板；
形成在所述波纹部分上的第一电极；
形成在所述第一电极上的有机发光层；以及
形成在所述有机发光层上的第二电极。
12.一种有机电致发光器件，包括：
根据权利要求8所述的基板；
第一电极，所述第一电极形成在所述基板的与上面形成有所述波纹部分的表面相反的表面上；
形成在所述第一电极上的有机发光层；以及
形成在所述有机发光层上的第二电极。
13.一种有机电致发光器件，包括：
基板；
形成在所述基板上的波纹层；
形成在所述波纹层上的第一电极；
形成在所述第一电极上的有机发光层；以及
形成在所述有机发光层上的第二电极，
其中，所述波纹层是通过向形成在所述基板上的聚合物层施加离子轰击应力而形成的。
14.一种有机电致发光器件，包括：
基板，所述基板具有形成在其一个表面上的波纹层；
第一电极，所述第一电极形成在所述基板的与上面形成有所述波纹层的表面相反的表面上；
形成在所述第一电极上的有机发光层；以及
形成在所述有机发光层上的第二电极，
其中，所述波纹层是通过向形成在所述基板上的聚合物层施加离子轰击应力而形成的。
15.一种有机电致发光器件，包括：
基板；
形成在所述基板上的波纹层；
形成在所述波纹层上的第一电极；
形成在所述第一电极上的有机发光层；以及
形成在所述有机发光层上的第二电极，
其中，所述波纹层是通过向依次形成在所述基板上的聚合物层和金属层施加离子轰击应力而形成的，并且
在施加所述离子轰击应力之后，所述金属层被去除。
16.一种有机电致发光器件，包括：
基板，所述基板具有形成在其一个表面上的波纹层；
第一电极，所述第一电极形成在所述基板的与上面形成有所述波纹层的表面相反的表面上；
形成在所述第一电极上的有机发光层；以及
形成在所述有机发光层上的第二电极，
其中，所述波纹层是通过向依次形成在所述基板上的聚合物层和金属层施加离子轰击应力而形成的，并且
在施加所述离子轰击应力之后，所述金属层被去除。
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