CN105932167A - 投影显示器及其制造方法 - Google Patents

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杜永群
柳冬冬
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Johnson Matthey Shanghai Chemical Ltd
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Abstract

本发明提供了一种投影显示器及其制造方法，其中，所述投影显示器包括：硅基板；形成于所述硅基板上的阳极；形成于所述阳极上的有机功能层；形成于所述有机功能层上的阴极；形成于所述阴极上的封装层；以及形成于所述封装层上的彩色滤光片。所述投影显示器的制造方法包括：提供硅基板；在所述硅基板上形成阳极；在所述阳极上形成有机功能层；在所述有机功能层上形成阴极；在所述阴极上形成封装层；及在所述封装层上形成彩色滤光片。在此，所述投影显示器能够实现自发光，即无需外部光源，由此能够减小体积、实现轻薄化；同时，无需响应时间，也即避免了响应时间太长的问题。

Description

投影显示器及其制造方法
技术领域
本发明涉及显示器技术领域，特别涉及一种投影显示器及其制造方法。
背景技术
随着数字时代的来临，数字信号播送形式与显示技术的改变，使近年来各种不同于传统阴极射线管(cathode ray tube，CRT)显示器的各类平面显示器，如液晶显示器(liquid crystal display，LCD)、场发射显示器(field emission display，FED)、有机发光二极管(organic light emitting diode，OLED)显示器以及等离子体显示器(plasma display panel，PDP)等广泛地被应用于日常生活上。
除此之外，由于投影显示器可利用光学方式将影像放大至超过上述平面显示器的尺寸，故更符合超大尺寸显示的需求。目前，投影显示器因其成像方式的不同可概分为穿透式及反射式两大类。穿透式投影显示器主要是建构于玻璃基板上，其运作时光线透过显示面板；反射式投影显示器则建构于硅基板上，因此亦称为硅基液晶(liquid crystal on silicon，LCOS)面板。LCOS面板是利用硅晶片作为基板，并以金属氧化物半导体晶体管(MOS transistor)取代薄膜晶体管，且与一般LCD面板利用透明导电材料作为像素电极不同，LCOS面板以金属材料作为像素电极，通过光线反射的原理成像，因而称之为反射式投影显示器。
目前的投影显示器都是需要外部光源的，由此使得投影显示器的响应时间较长、体积也较大。
发明内容
本发明的目的在于提供一种投影显示器及其制造方法，以解决现有的投影显示器的响应时间较长以及体积较大的问题。
为了解决上述技术问题，本发明提供一种投影显示器，所述投影显示器包括：硅基板；形成于所述硅基板上的阳极；形成于所述阳极上的有机功能层；形成于所述有机功能层上的阴极；形成于所述阴极上的封装层；以及形成于所述封装层上的彩色滤光片。
可选的，在所述的投影显示器上，所述有机功能层包括空穴注入层；形成于所述空穴注入层上的空穴传输层；形成于所述空穴传输层上的有机发光层；形成于所述有机发光层上的电子传输层；以及形成于所述电子传输层上的电子注入层。
可选的，在所述的投影显示器上，所述有机发光层包括红光有机发光层、绿光有机发光层及蓝光有机发光层。
可选的，在所述的投影显示器上，所述阳极为透明导电层或者金属层；所述阴极为透明导电层或者金属层。
可选的，在所述的投影显示器上，所述封装层为玻璃基板。
可选的，在所述的投影显示器上，所述玻璃基板通过玻璃胶与所述硅基板封装在一起。
本发明还提供一种投影显示器的制造方法，所述投影显示器的制造方法包括：
提供硅基板；
在所述硅基板上形成阳极；
在所述阳极上形成有机功能层；
在所述有机功能层上形成阴极；
在所述阴极上形成封装层；及
在所述封装层上形成彩色滤光片。
可选的，在所述的投影显示器的制造方法中，在所述阳极上形成有机功能层包括：
在所述阳极上形成空穴注入层；
在所述空穴注入层上形成空穴传输层；
在所述空穴传输层上形成有机发光层；
在所述有机发光层上形成电子传输层；及
在所述电子传输层上形成电子注入层。
可选的，在所述的投影显示器的制造方法中，所述封装层为玻璃基板。
可选的，在所述的投影显示器的制造方法中，通过玻璃胶将所述玻璃基板与所述硅基板封装在一起。
在本发明提供的投影显示器及其制造方法中，所形成的投影显示器包括：阳极、有机功能层以及阴极，从而能够实现自发光，即无需外部光源，由此能够减小体积、实现轻薄化；同时，无需响应时间，也即避免了响应时间太长的问题。
附图说明
图1是本发明实施例的投影显示器的制造方法的流程示意图；
图2是本发明实施例的形成有机功能层的流程示意图；
图3至图12是本发明实施例的投影显示器的制造方法所形成的结构的剖面示意图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本发明提出的投影显示器及其制造方法作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。特别的，由于各附图所要突出的内容不同，往往采用了不同的比例。
请参考图1，其为本发明实施例的投影显示器的制造方法的流程示意图。如图1所示，所述投影显示器的制造方法包括：
步骤S10：提供硅基板；
步骤S11：在所述硅基板上形成阳极；
步骤S12：在所述阳极上形成有机功能层；
步骤S13：在所述有机功能层上形成阴极；
步骤S14：在所述阴极上形成封装层；及
步骤S15：在所述封装层上形成彩色滤光片。
接下去将结合图3至图11，本发明实施例的投影显示器的制造方法所形成的结构的剖面示意图，以进一步描述所述投影显示器的制造方法以及所形成的投影显示器。
请结合参考图1和图3，首先，提供硅基板10。
接着，如图4所示，在所述硅基板10上形成阳极11。进一步的，所述阳极11可以为透明导电层或者金属层，即所述阳极11的材料可以为透明导电材料或者金属材料。例如，所述阳极11可以由Ag、Ag的合金、Al、Al的合金、Cu、Cu的合金、Pt或者Pt的合金制成；其也可以由ITO、IZO、AZO或者ZTO等透明导电材料制成。在本申请实施例中，所述阳极11采用蒸镀工艺形成。
接着执行步骤S12在所述阳极11上形成有机功能层，可相应参考图2，其为本发明实施例的形成有机功能层的流程示意图。在本申请实施例中，所述步骤S12进一步包括如下步骤：
步骤S120：在所述阳极上形成空穴注入层；
步骤S121：在所述空穴注入层上形成空穴传输层；
步骤S122：在所述空穴传输层上形成有机发光层；
步骤S123：在所述有机发光层上形成电子传输层；及
步骤S124：在所述电子传输层上形成电子注入层。
接下去，可相应参考图1、图2以及图5至图9。
如图5所示，在所述阳极11上形成空穴注入层120。在此，同样通过蒸镀工艺形成所述空穴注入层120。
接着，如图6所示，在所述空穴注入层120上形成空穴传输层121。具体的，所述空穴传输层121的材料可以为TPD或者TDATA等有机材料。优选的，所述空穴传输层121通过蒸镀工艺形成。
如图7所示，接着，在所述空穴传输层121上形成有机发光层122。在本申请实施例中，所述有机发光层122包括红光有机发光层、绿光有机发光层及蓝光有机发光层。在本申请的其他实施例中，所述有机发光层122还可进一步包括白光有机发光层。从而可以实现投影显示器的全彩色显示。
进一步的，请参考图8，在所述有机发光层122上形成电子传输层123。优选的，所述电子传输层123的材料可以为Alq、Znq、Gaq、Bebq、Balq、DPVBi、ZnSPB、PBD、OXD或者BBOT等。在此，所述有机发光层122也可采用蒸镀工艺。
接着，如图9所示，在所述电子传输层123上形成电子注入层124。其中，所述电子注入层124的材料可以为LiF、MgP、MgF2或者Al2O3等。在此，采用蒸镀工艺形成所述电子注入层124。
通过上述工艺便可形成有机功能层12，在此，所述有机功能层12包括：空穴注入层120；形成于所述空穴注入层120上的空穴传输层121；形成于所述空穴传输层121上的有机发光层122；形成于所述有机发光层122上的电子传输层123；以及形成于所述电子传输层123上的电子注入层124。
接着，请结合参考图1和图10，在所述有机功能层12上形成阴极13。进一步的，所述阴极13可以为透明导电层或者金属层，即所述阴极13的材料可以为透明导电材料或者金属材料。例如，所述阴极13可以由Ag、Ag的合金、Al、Al的合金、Cu、Cu的合金、Pt或者Pt的合金制成；其也可以由ITO、IZO、AZO或者ZTO等透明导电材料制成。在本申请实施例中，所述阴极13采用蒸镀工艺形成。
接着，如图11所示，在所述阴极13上形成封装层14。在本申请实施例中，所述封装层14为玻璃基板。优选的，通过玻璃胶将所述玻璃基板与所述硅基板10封装在一起。玻璃胶具有较高的稳定性，从而能够保证所形成的投影显示器的质量与可靠性。
请接着参考图12，在所述封装层14上形成彩色滤光片15。
经过上述工艺便可形成投影显示器。在此，所述投影显示器包括：硅基板10；形成于所述硅基板10上的阳极11；形成于所述阳极11上的有机功能层12；形成于所述有机功能12层上的阴极13；形成于所述阴极13上的封装层14；以及形成于所述封装层14上的彩色滤光片15。
在此，所述投影显示器能够实现自发光，即无需外部光源，由此能够减小体积、实现轻薄化；同时，无需响应时间，也即避免了响应时间太长的问题。
上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述，并非对本发明范围的任何限定，本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。

Claims (10)

1.一种投影显示器，其特征在于，所述投影显示器包括：硅基板；形成于所述硅基板上的阳极；形成于所述阳极上的有机功能层；形成于所述有机功能层上的阴极；形成于所述阴极上的封装层；以及形成于所述封装层上的彩色滤光片。
2.如权利要求1所述的投影显示器，其特征在于，所述有机功能层包括空穴注入层；形成于所述空穴注入层上的空穴传输层；形成于所述空穴传输层上的有机发光层；形成于所述有机发光层上的电子传输层；以及形成于所述电子传输层上的电子注入层。
3.如权利要求2所述的投影显示器，其特征在于，所述有机发光层包括红光有机发光层、绿光有机发光层及蓝光有机发光层。
4.如权利要求1所述的投影显示器，其特征在于，所述阳极为透明导电层或者金属层；所述阴极为透明导电层或者金属层。
5.如权利要求1～4中任一项所述的投影显示器，其特征在于，所述封装层为玻璃基板。
6.如权利要求5所述的投影显示器，其特征在于，所述玻璃基板通过玻璃胶与所述硅基板封装在一起。
7.一种投影显示器的制造方法，其特征在于，所述投影显示器的制造方法包括：
提供硅基板；
在所述硅基板上形成阳极；
在所述阳极上形成有机功能层；
在所述有机功能层上形成阴极；
在所述阴极上形成封装层；及
在所述封装层上形成彩色滤光片。
8.如权利要求7所述的投影显示器的制造方法，其特征在于，在所述阳极上形成有机功能层包括：
在所述阳极上形成空穴注入层；
在所述空穴注入层上形成空穴传输层；
在所述空穴传输层上形成有机发光层；
在所述有机发光层上形成电子传输层；及
在所述电子传输层上形成电子注入层。
9.如权利要求7或8所述的投影显示器的制造方法，其特征在于，所述封装层为玻璃基板。
10.如权利要求9所述的投影显示器的制造方法，其特征在于，通过玻璃胶将所述玻璃基板与所述硅基板封装在一起。
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