CN105921453A - 一种高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法。所述的方法首先采用普通清洗方法以去除箱体表面的大粒径和大面积污染物，其后经脱水处理，再将元件浸泡于清水中浸润，浸润后的箱体经过两次清洗剂溶液高压喷淋清洗、清水高压喷淋漂洗和脱水处理过程。本发明的高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法，适用于高功率激光装置的大型箱体表面的清洁，污染物去除效果好，处理后的箱体表面洁净度等级高，具有可靠、经济、高效的特点。清洗后的大型箱体表面洁净度等级优于BJD 100级‑A/10A。

Description

一种高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法
技术领域
本发明属于激光工程领域，具体涉及一种高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法。
背景技术
高强度激光在许多高新技术领域中得到广泛应用，是当代各国竞相研究的重要领域。随着强激光技术的不断发展，特别是惯性约束核聚变系统的研制，光学系统各个单元器件所要求承受的功率密度越来越高。光学元件表面的污染物在高功率激光束的辐照下，会严重地降低光学元件的抗损伤能力。目前，激光装置运行过程中的污染已经成为装置负载能力进一步提升的瓶颈。保持大型激光装置的运行环境和光学元件的洁净度对提高光束质量和延长元件使用寿命有重要意义。因此，高功率激光装置内部的机械结构表面都要求有较高的洁净度，部分结构件需要达到百级的标准。
为了保持其洁净度，大型激光装置中的大型箱体经常需要下架清洗，而目前尚无成熟、系统的超高洁净机械元件表面处理方法。在微电子、航空航天等领域有一些处理方法，但所涉及机械元件的规模、材质和用途均与高功率激光领域有较大区别，因而不能直接引用。同时，由于高功率激光装置不同机械元件的表面洁净度等级要求不尽相同，因此一般的处理方式很难可靠、高效和经济地达到处理要求。目前，尚未有适用于机械元件中的大型箱体表面的洁净度高的高效处理方法。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法。
本发明的高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法，其特征在于，包括以下步骤：
a1.用纯水擦拭箱体表面；
a2.对箱体进行脱水处理；
a3.用清水浸润箱体表面；
a4.用清洗剂溶液对箱体进行高压喷淋清洗；
a5.用清水对箱体进行高压喷淋清洗；
a6.对箱体进行脱水处理；
a7.用清洗剂溶液对箱体进行高压喷淋清洗；
a8.用清水对箱体进行高压喷淋清洗；
a9.对箱体进行脱水处理。
所述的步骤a1的纯水的电阻率大于等于5MΩ·cm，所述的步骤a3、a5和a8的清水的电阻率大于等于15MΩ·cm。
所述的步骤a4、a5、a7、a8的出水压力范围为7MPa~17MPa，出水口距箱体表面50mm~100mm。
所述的步骤a4、a5的高压喷淋清洗速率小于等于0.25m2/min。
所述的步骤a7、a8的高压喷淋清洗速率小于等于0.15m2/min，高压喷淋清洗介质的温度为55℃~65℃。
所述的步骤a4、a7的使用的清洗剂溶液为浓度5%的布鲁林GD-1990溶液，温度小于等于65℃。
所述的步骤a2、a6和a9的脱水处理过程为使用高压氮气吹扫箱体表面，再利用长纤维毛巾擦拭箱体表面水渍。
本发明的高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法，适用于高功率激光装置中大型箱体表面的洁净处理的清洁，污染物去除效果好，处理后的箱体表面洁净度等级高，具有可靠、经济、高效优点，清洗后的大型箱体表面洁净度等级优于BJD 100级-A/10A。
具体实施方式
下面结合实施例具体说明本发明方法。
以下实施例仅用于说明本发明，而并非对本发明的限制。有关技术领域的人员在不脱离本发明的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化、替换和变型，因此同等的技术方案也属于本发明的范畴。
实施例 1
取高功率激光装置中的大型箱体，材质为不锈钢。
清洗步骤如下：
1. 使用电阻率大于等于5MΩ·cm纯水通体冲洗大型箱体；
2. 使用高压氮气吹扫大型箱体表面，再使用干净的长纤维毛巾擦拭掉箱体表面水渍；
3. 使用电阻率大于等于15MΩ·cm的清水浸润大型箱体表面；
4. 使用出口压力为17MPa、流量为15L/min、体积比为5%的布鲁林GD-1990溶液、温度小于等于65℃的射流，在距大型箱体50mm~100mm处以小于等于0.25m2/min的速度对其进行高压喷淋清洗；
5. 使用出口压力为17MPa、流量为15L/min、温度为55℃~65℃、电阻率大于等于15MΩ·cm的高压水射流，在距大型箱体50mm~100mm处以小于等于0.25m2/min的速度对其进行高压喷淋漂洗，直至大型箱体的表面无清洗液残留；
6. 使用高压氮气吹扫大型箱体表面，再使用干净的长纤维毛巾擦拭掉大型箱体表面的水渍；
7. 配制体积比为5%的布鲁林GD-1990溶液，再使用出口压力为17MPa、流量为15L/min、温度小于等于65℃、体积比为5%的布鲁林GD-1990溶液，在距大型箱体表面50mm~100mm处以小于等于0.15m2/min的速度对其进行高压喷淋清洗；
8. 使用出口压力为17MPa、流量为15L/min、温度为55℃~65℃、电阻率大于等于15MΩ·cm的高压水射流，在距大型箱体表面50mm~100mm处以小于等于0.15m2/min的速度对其进行高压喷淋漂洗，直至大型箱体的表面无清洗液残留；
9. 使用高压氮气吹扫大型箱体表面，再使用干净的长纤维毛巾擦拭掉大型箱体表面的水渍。
利用化学取样称量法对处理前后的中灯箱模块进行表面污染物含量分析，检测结果表明清洗后表面洁净度等级达到使用要求，表面洁净度等级优于BJD 100级-A/10A。
实施例 2
实施例2与实施例1基本相同，不同之处在于实施例2中高压喷淋过程中出水口压力为7Mpa，检测结果表明清洗后表面洁净度等级达到使用要求。
实施例 3
实施例3与实施例1基本相同，不同之处在于实施例3中高压喷淋过程中出水口压力为10Mpa，检测结果表明清洗后表面洁净度等级达到使用要求。

Claims (7)

1.一种高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法，其特征在于，所述处理方法包括以下步骤：
a1.用纯水擦拭箱体表面；
a2.对箱体进行脱水处理；
a3.用清水浸润箱体表面；
a4.用清洗剂溶液对箱体进行高压喷淋清洗；
a5.用清水对箱体进行高压喷淋清洗；
a6.对箱体进行脱水处理；
a7.用清洗剂溶液对箱体进行高压喷淋清洗；
a8.用清水对箱体进行高压喷淋清洗；
a9.对箱体进行脱水处理。
2.根据权利要求1所述的高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法，其特征在于，所述的步骤a1的纯水的电阻率大于等于5MΩ·cm，所述的步骤a3、a5和a8的清水的电阻率大于等于15MΩ·cm。
3.根据权利要求1所述的高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法，其特征在于，所述的步骤a4、a5、a7、a8的出水压力范围为7MPa~17MPa，出水口距箱体表面50mm~100mm。
4.根据权利要求1所述的高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法，其特征在于，所述的步骤a4、a5的高压喷淋清洗速率小于等于0.25m2/min。
5.根据权利要求1所述的高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法，其特征在于，所述的步骤a7、a8的高压喷淋清洗速率小于等于0.15m2/min，高压喷淋清洗介质的温度为55℃~65℃。
6.根据权利要求1所述的高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法，其特征在于，所述的步骤a4、a7的使用的清洗剂溶液为浓度5%的布鲁林GD-1990溶液，温度小于等于65℃。
7.根据权利要求1所述的高功率激光装置的大型箱体表面的洁净处理方法，其特征在于，所述的步骤a2、a6和a9的脱水处理过程为使用高压氮气吹扫箱体表面，再利用长纤维毛巾擦拭箱体表面水渍。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108246699A (zh) * 2018-01-26 2018-07-06 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 一种高功率激光器用不锈钢箱体的洁净方法
CN110813953A (zh) * 2019-12-16 2020-02-21 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 一种高压喷淋清洗机

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02104682A (ja) * 1988-10-11 1990-04-17 Kobe Steel Ltd キヤツプ用アルミニウム材料の表面清浄化法及び同処理材
CN101152652A (zh) * 2006-09-29 2008-04-02 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种阳极氧化零件表面的清洗方法
CN101205621A (zh) * 2006-12-21 2008-06-25 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种铝材料零件的清洗方法
CN101224458A (zh) * 2007-01-15 2008-07-23 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种多晶硅刻蚀腔室中陶瓷材料零件表面的清洗方法
CN101381877A (zh) * 2007-09-04 2009-03-11 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 精密零件的清洗方法
CN102886367A (zh) * 2012-10-22 2013-01-23 哈尔滨工业大学 一种精密铝合金零件的清洗方法
CN102899674A (zh) * 2012-10-22 2013-01-30 哈尔滨工业大学 一种高真空、强辐射环境下的精密不锈钢零件的清洗方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02104682A (ja) * 1988-10-11 1990-04-17 Kobe Steel Ltd キヤツプ用アルミニウム材料の表面清浄化法及び同処理材
CN101152652A (zh) * 2006-09-29 2008-04-02 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种阳极氧化零件表面的清洗方法
CN101205621A (zh) * 2006-12-21 2008-06-25 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种铝材料零件的清洗方法
CN101224458A (zh) * 2007-01-15 2008-07-23 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种多晶硅刻蚀腔室中陶瓷材料零件表面的清洗方法
CN101381877A (zh) * 2007-09-04 2009-03-11 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 精密零件的清洗方法
CN102886367A (zh) * 2012-10-22 2013-01-23 哈尔滨工业大学 一种精密铝合金零件的清洗方法
CN102899674A (zh) * 2012-10-22 2013-01-30 哈尔滨工业大学 一种高真空、强辐射环境下的精密不锈钢零件的清洗方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
许将明等: "浅谈光学元件的几种清洗技术", 《物理与工程》 *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108246699A (zh) * 2018-01-26 2018-07-06 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 一种高功率激光器用不锈钢箱体的洁净方法
CN108246699B (zh) * 2018-01-26 2021-04-30 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 一种高功率激光器用不锈钢箱体的洁净方法
CN110813953A (zh) * 2019-12-16 2020-02-21 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 一种高压喷淋清洗机

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