CN105880128B - 一种用于显示面板制程的烘烤设备 - Google Patents

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王松
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    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
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Abstract

本发明公开了一种用于显示面板制程的烘烤设备,该烘烤设备包括设备主体,设备主体定义一容纳待烘烤基板的烘烤腔室,设备主体的顶部设置有排气通道,排气通道用于排出待烘烤基板在烘烤腔室内进行烘烤时产生的蒸汽。通过这种方式,本发明烘烤设备能够将溶剂导出,避免偶发液滴滴下导致产品报废问题,大幅度降低维护保养的频率。

Description

一种用于显示面板制程的烘烤设备
技术领域
本发明涉及显示面板制程设备领域,特别是涉及一种用于显示面板制程的烘烤设备。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器制程中,Photo制程涂胶后进行的烘烤制程,主要功能是通过接近式加热方式,使光阻中的溶剂在高温(一般80~120℃)下蒸发,并通过高温排气将溶剂蒸气带走排出。
但是高温排气并不能将溶剂蒸气完全带走,会有少量溶剂蒸汽黏附在上盖板,导致必须对烘烤炉进行定期保养(月保养),否则溶剂积累到一定量,将会凝结成液滴滴下,导致产品报废;并且即使进行了定期保养,溶剂也可能经过短期的积累即偶发的滴下,导致产品报废。
发明内容
本发明的目的在于提供一种用于显示面板制程的烘烤设备,能够将溶剂导出,避免偶发液滴滴下导致产品报废问题,大幅度降低维护保养的频率。
为实现上述目的,本发明提供一种用于显示面板制程的烘烤设备,烘烤设备包括设备主体,设备主体定义一容纳待烘烤基板的烘烤腔室,设备主体的顶部设置有排气通道,排气通道用于排出待烘烤基板在烘烤腔室内进行烘烤时产生的蒸汽。
其中,排气通道呈长条状或网格状设置。
其中,排气通道相对于竖直方向倾斜设置。
其中,设备主体的顶部进一步设置有与排气通道连通的集液槽,集液槽用于收集蒸汽在经排气通道排出过程中产生的冷凝液体。
其中,集液槽呈长条状设置。
其中,集液槽相对于水平面倾斜设置,以使得集液槽内收集的冷凝液体向集液槽的相对较低的一端流动。
其中,集液槽相对于水平面的倾斜角度为5°到15°。
其中,设备主体的顶部进一步设置有与集液槽的相对较低的一端连通的排液槽,排液槽与集液槽交叉设置且连通至少两个集液槽,进而使得流动至至少两个集液槽的相对较低的一端的冷凝液体汇流至排液槽内并排出烘烤设备。
其中,设备主体的底部进一步设置有加热板和顶针,顶针用于在待烘烤基板在移入或移出烘烤腔室时顶起待烘烤基板,以使得待烘烤基板与待烘烤基板间隔预定距离,顶针进一步在烘烤过程中释放待烘烤基板,以使得待烘烤基板与加热板直接接触。
其中,设备主体的相对两侧进一步设置有进气通道,进气通道用于向烘烤腔室提供携载气体,携载气体的温度不低于烘烤设备的烘烤温度。
本发明的有益效果是:区别于现有技术的情况,本发明提供一种烘烤设备,包括设备主体,设备主体定义一容纳待烘烤基板的烘烤腔室,设备主体的顶部设置有排气通道,排气通道用于排出待烘烤基板在烘烤腔室内进行烘烤时产生的蒸汽。通过这种方式,本发明烘烤设备能够将溶剂导出,避免偶发液滴滴下导致产品报废问题,大幅度降低维护保养的频率。
附图说明
图1是本发明用于显示面板制程的烘烤设备第一实施例的结构示意图;
图2A以及图2B是用于显示面板制程的烘烤设备的俯视结构示意图;
图3是用于显示面板制程的烘烤设备第一实施例一个应用场景的结构示意图;
图4是集液槽6相对于水平面倾斜设置的结构示意图;
图5是用于显示面板制程的烘烤设备第一实施例另一个应用场景中的俯视结构示意图;
图6A是用于显示面板制程的烘烤设备第一实施例又一个应用场景中的结构示意图;
图6B是用于显示面板制程的烘烤设备第一实施例又一个应用场景中的俯视结构示意图。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对发明所提供的一种用于显示面板制程的烘烤设备做进一步详细描述。
参阅图1,是本发明用于显示面板制程的烘烤设备第一实施例的结构示意图,烘烤设备包括设备主体1,设备主体1定义一容纳待烘烤基板2的烘烤腔室3,设备主体1的顶部设置有排气通道4,排气通道4用于排出待烘烤基板2在烘烤腔室3内进行烘烤时产生的蒸汽。
具体的,将待烘烤基板2放入烘烤腔室3内,对烘烤腔室3进行加热,控制烘烤温度,一般烘烤时间为90~180秒,待烘烤基板2上的溶剂蒸发变成蒸汽顺着排气通道4向上排出,通过这种方式,本发明烘烤设备能够将溶剂导出,避免偶发液滴滴下导致产品报废问题,大幅度降低维护保养的频率。
参阅图2A以及图2B,是用于显示面板制程的烘烤设备的俯视结构示意图,从图2A中可以看到排气通道4呈长条状,而在图2B中排气通道4网格状设置。
排气通道4相对于竖直方向倾斜设置,可选的,排气通道4相对于竖直方向的夹角在0到30度之间。
参阅图3,是用于显示面板制程的烘烤设备第一实施例一个应用场景的结构示意图,在该应用场景中,设备主体1的顶部进一步设置有与排气通道4连通的集液槽6,集液槽6用于收集蒸汽在经排气通道4排出过程中产生的冷凝液体,可选的,集液槽6呈长条状设置,
在用于显示面板制程的烘烤设备第一实施例另一个应用场景中,集液槽6可以是呈网格状设计。
参阅图4,集液槽6相对于水平面倾斜设置,以使得集液槽6内收集的冷凝液体向集液槽6的相对较低的一端流动,可选的集液槽相对于水平面的夹角在0到30度之间。
可选的,集液槽6相对于水平面的倾斜角度为5°到15°。
集液槽6的截面形状可以是V型也可以是U型,但不仅仅局限于V型或U型,可选的在50ml~100ml/道。
参阅图5,在用于显示面板制程的烘烤设备第一实施例另一个应用场景中,设备主体1的顶部进一步设置有与集液槽6的相对较低的一端连通的排液槽7,排液槽7与集液槽6交叉设置且连通至少两个集液槽6,进而使得流动至至少两个集液槽6的相对较低的一端的冷凝液体汇流至排液槽内并排出烘烤设备,其中排液槽7连接厂务排液管路。
参阅图6A,在用于显示面板制程的烘烤设备第一实施例又一个应用场景中,设备主体1的底部进一步设置有加热板8和顶针9,顶针9用于在待烘烤基板2在移入或移出烘烤腔室3时顶起待烘烤基板2,以使得待烘烤基板2与待烘烤基板2间隔预定距离,顶针9进一步在烘烤过程中释放待烘烤基板2,以使得待烘烤基板2与加热板8直接接触。
参阅图6B,设备主体的1相对两侧进一步设置有进气通道10,进气通道10用于向烘烤腔室3提供携载气体,携载气体的温度不低于烘烤设备的烘烤温度。
具体的,烘烤制程中,顶针9升起,机器人将待烘烤基板2放入顶针9上,顶针9下降使待烘烤基板2接近加热板8,控制加热板8温度,进行烘烤制程,时间一般为90~180s,制程结束后顶针9升起,机器人取出待烘烤基板2。在烘烤制程中,待烘烤基板将会有溶剂挥发出,大部分随气流由顶端排气口管路排向厂务,但是少部分会在顶端排气管壁凝结,长期积累后会形成液滴,并沿着集液槽6流动到排液槽7中,最终排向厂务进行废液处理。该烤炉使用顶端排气,并且对排气孔进行特殊设计将溶剂导出,避免了偶发液滴低下导致产品报废问题,大幅度降低了维护的频率,由每月维护保养1次降低到每年甚至几年维护保养1次。
以上所述仅为本发明的实施方式,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (6)

1.一种用于显示面板制程的烘烤设备,其特征在于,所述烘烤设备包括设备主体,所述设备主体定义一容纳待烘烤基板的烘烤腔室,所述设备主体的顶部设置有排气通道,所述排气通道用于排出所述待烘烤基板在所述烘烤腔室内进行烘烤时产生的蒸汽;
所述排气通道相对于竖直方向倾斜设置;
所述设备主体的顶部进一步设置有与所述排气通道连通的集液槽,所述集液槽用于收集所述蒸汽在经所述排气通道排出过程中产生的冷凝液体;
所述集液槽呈长条状设置;
所述集液槽相对于水平面倾斜设置,以使得所述集液槽内收集的冷凝液体向所述集液槽的相对较低的一端流动;
所述集液槽与所述排气通道靠近所述待烘烤基板的一端连通。
2.根据权利要求1所述的烘烤设备,其特征在于,所述排气通道呈长条状或网格状设置。
3.根据权利要求1所述的烘烤设备,其特征在于,所述集液槽相对于水平面的倾斜角度为5°到15°。
4.根据权利要求1所述的烘烤设备,其特征在于,所述设备主体的顶部进一步设置有与所述集液槽的相对较低的一端连通的排液槽,所述排液槽与所述集液槽交叉设置且连通至少两个所述集液槽,进而使得流动至所述至少两个集液槽的相对较低的一端的所述冷凝液体汇流至所述排液槽内并排出所述烘烤设备。
5.根据权利要求1所述的烘烤设备,其特征在于,所述设备主体的底部进一步设置有加热板和顶针,所述顶针用于在所述待烘烤基板在移入或移出所述烘烤腔室时顶起所述待烘烤基板,以使得所述待烘烤基板与所述待烘烤基板间隔预定距离,所述顶针进一步在烘烤过程中释放所述待烘烤基板,以使得所述待烘烤基板与所述加热板直接接触。
6.根据权利要求1所述的烘烤设备,其特征在于,所述设备主体的相对两侧进一步设置有进气通道,所述进气通道用于向所述烘烤腔室提供携载气体,所述携载气体的温度不低于所述烘烤设备的烘烤温度。
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