CN105843181A - 曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法及监控系统 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法及监控系统，该模块作动监控方法包括下列步骤。提供一对准光源装置。对准光源装置包括至少一模块。通过非接触式位置量测法量测模块的绝对偏移值。判断此绝对偏移值是否超过容许范围。当所量测的绝对偏移值超过容许范围时，产生一异常信号。
Description
技术领域
本发明涉及一种半导体制作工艺机台模块作动的监控方法及监控系统，且特别是涉及一种曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法及监控系统。
背景技术
在光刻制作工艺时，晶片上图案的形成是需要依靠稳定且均匀的曝光，而曝光前精准的对准系统对图案的形成有着绝对的影响。
由于曝光机台内的对准光源系统在长期使用后，传动装置会产生异常(如，齿轮的磨损或累积尘屑)，而使得对准光源系统中的模块在工作时无法处于正确的位置，而直接影响对准光源的光量。如此一来，会降低对准操作的可靠度，进而导致产品良率的损失。因此，如何即时察觉曝光机台内的对准系统中模块的位置偏移是一个重要的课题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法及监控系统，可即时监控对准光源装置中的模块位置是否产生偏移。
为达上述目的，本发明提出一种曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，包括下列步骤。提供对准光源装置。对准光源装置包括至少一个模块。通过非接触式位置量测法量测模块的绝对偏移值。判断此绝对偏移值是否超过容许范围。当所量测的绝对偏移值超过容许范围时，产生异常信号。
依照本发明的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，非接触式位置量测法包括光学式位置量测法或磁力式位置量测法。
依照本发明的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，光学式位置量测法包括光遮断式量测法。光遮断式量测法包括下列步骤。利用光产生器发射光线，而光线预定通过模块的定位孔。通过光接收器接收光线，且根据光线的光量变化来计算出绝对偏移值。
依照本发明的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，光学式位置量测法包括光反射式量测法。光反射式量测法包括下列步骤。将光刻度构件连接至模块，且光刻度构件与模块连动。通过光学编码器发射光线至光刻度构件，并通过光学编码器接收由光刻度构件所反射的带有位置信息的光线。通过光学编码器解读光线中的位置信息而计算出绝对偏移值。
依照本发明的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，上述磁力式位置量测法包括下列步骤。将磁力构件连接至模块，且磁力构件与模块连动。通过磁力编码器感测磁力构件的运动而计算出绝对偏移值。
依照本发明的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，还包括将异常信号传送到对准光源装置，使对准光源装置停止运作。
依照本发明的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，还包括将异常信号传送到警示装置，使警示装置发出警示信号。
依照本发明的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，警示装置包括发光装置、声响装置、电子显示装置或信号源控制器。
依照本发明的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，模块包括至少一个中性密度滤光器(neutral density filter，NDF)模块。
依照本发明的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，当上述绝对偏移值在容许范围内时，使对准光源装置继续运作。
本发明提出一种曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统，可用以监控对准光源装置内的至少一个模块，且包括非接触式位置量测装置以及监控装置。非接触式位置量测装置用以量测模块的绝对偏移值。监控装置耦接至非接触式位置量测装置，且判断绝对偏移值是否超过容许范围。当所量测的绝对偏移值超过容许范围时，产生异常信号。
依照本发明的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统中，非接触式位置量测装置包括光学式位置量测装置或磁力式位置量测装置。
依照本发明的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统中，光学式位置量测装置包括光遮断式位置量测装置。光遮断式位置量测装置包括光产生器、光接收器以及光信息处理器。光产生器发射光线，上述光线预定通过所述模块的定位孔。光接收器接收上述光线。光信息处理器计算光接收器所接收到的光线的光量变化而获得绝对偏移值。
依照本发明的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统中，光学式位置量测装置包括光反射式位置量测装置。光反射式位置量测装置包括光刻度构件以及光学编码器。光刻度构件连接至模块，且光刻度构件与模块连动。光学编码器发射光线至光刻度构件，接收由光刻度构件所反射的带有位置信息的光线，且通过解读光线中的位置信息而计算出绝对偏移值。
依照本发明的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统中，磁力式位置量测装置包括磁力构件以及磁力编码器。其中，磁力构件连接至模块，且磁力构件与模块连动。磁力编码器感测磁力构件的运动而计算出绝对偏移值。
依照本发明的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统中，还包括将异常信号传送到对准光源装置，使对准光源装置停止运作。
依照本发明的一实施例所述，在上述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统中，还包括警示装置，耦接至监控装置。监控装置可将异常信号传送到警示装置，使警示装置发出警示信号。
在本发明的一实施例中，上述警示装置包括发光装置、声响装置、电子显示装置或信号源控制器。
在本发明的一实施例中，上述模块包括至少一个中性密度滤光器模块。
在本发明的一实施例中，当绝对偏移值在容许范围内时，使对准光源装置继续运作。
基于上述，在本发明的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法及监控系统中，由于可通过非接触式位置量测法量测模块的绝对偏移值，所以可即时监控对准光源装置中的模块位置是否产生偏移，以提高对准操作的可靠度，进而提升产品的良率。
为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附的附图作详细说明如下。
附图说明
图1为本发明一实施例的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控流程图；
图2为本发明一实施例的曝光机台对准光源装置的示意图；
图3为曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统的示意图；
图4A为本发明一实施例中利用光遮断式位置量测装置监控对准光源装置的示意图；
图4B、4C为图4A中的光线与定位孔的位置关系的示意图；
图5为本发明一实施例中利用光反射式位置量测装置监控对准光源装置的示意图；
图6为本发明一实施例中利用磁力式位置量测装置监控对准光源装置的示意图。
符号说明
200：对准光源装置
210、220：滤光器模块
230：光源
212、222：滤镜
214、224：转盘
216、226：驱动装置
2160：马达装置
2162：转动轴
2164、2166：齿轮
2168：连接构件
218：定位孔
300：监控系统
310：非接触式位置量测装置
320：监控装置
330：警示装置
400：光遮断式位置量测装置
410：光产生器
420：光接收器
430：光信息处理器
500：光反射式位置量测装置
510：光刻度构件
520：光学编码器
600：磁力式位置量测装置
610：磁力构件
620：磁力编码器
L1、L2、L3：光线
S100～S112：步骤
具体实施方式
图1是本发明一实施例的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控流程图。
请参考图1，首先，进行步骤S100，提供对准光源装置，且对准光源装置包括至少一个模块。对准光源装置例如是曝光机台中的对准光源。模块包括中性密度滤光器模块，但本发明不以此为限。
接着，进行步骤S102，通过非接触式位置量测法量测模块的绝对偏移值。非接触式位置量测法包括光学式位置量测法或磁力式位置量测法。光学式位置量测法包括光遮断式量测法以及光反射式量测法。
光遮断式量测法包括下列步骤。首先，利用光产生器发射光线，而光线预定通过模块的定位孔。接着，通过光接收器接收上述光线，且根据光线的光量变化来计算出绝对偏移值。
光反射式量测法包括下列步骤。首先，将光刻度构件连接至模块，且光刻度构件与模块连动。接着，通过光学编码器发射光线至光刻度构件。然后，通过光学编码器接收由光刻度构件所反射的带有位置信息的光线。接下来，通过光学编码器解读光线中的位置信息而计算出绝对偏移值。
磁力式位置量测法包括下列步骤。首先，将磁力构件连接至模块，且磁力构件与模块连动。接着，通过磁力编码器感测磁力构件的运动而计算出绝对偏移值。
然后，进行步骤S104，判断绝对偏移值是否超过容许范围。当所量测的绝对偏移值超过容许范围时，进行步骤S106，产生异常信号。所属技术领域具有通常知识者可依照制作工艺需求来对绝对偏移值的容许范围进行设定与调整。
接着，监控方法还可选择性地进行步骤S108与步骤S100中的至少一者。步骤S108是将异常信号传送至对准光源装置，使对准光源装置停止运作。步骤S110是将异常信号传送到警示装置，使警示装置发出警示信号。警示装置包括发光装置、声响装置、电子显示装置或信号源控制器。其中，当信号源控制器侦测到异常信号时，其可提供断路功能，使对准光源装置停止运作。
在步骤S104中，当判断绝对偏移值并未超过容许范围时，进行步骤S112。步骤S112为使对准光源装置继续运作。
基于上述实施例可知，在上述曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法中，可通过非接触式位置量测法量测模块的绝对偏移值，所以可即时监控对准光源装置中的模块位置是否产生偏移。如此一来，当对准光源装置内的模块位置产生位置偏移时，使用者能即时解决问题，因此可提高对准操作的可靠度，进而提升产品的良率。
图2是本发明一实施例的曝光机台对准光源装置的示意图。
请参照图2，本实施例所要监控的对象例如是曝光机台的对准光源装置200。对准光源装置200包括至少一个模块。在此实施例中，模块是以滤光器模块210、220为例进行说明。对准光源装置200还包括光源230。滤光器模块210以及滤光器模块220例如是分别为中性密度滤光器模块。在此实施例中，对准光源装置200是以具有滤光器模块210、220等两个模块为例进行说明，然而本发明不以此限。在其他实施例中，对准光源装置200所具有的模块数量也可为一个或是三个以上，所属技术领域具有通常知识者，可依照机台设计需求而对模块数量进行调整。
滤光器模块210包括滤镜212、转盘214与驱动装置216。滤镜212位于转盘214上。驱动装置216连接于转盘214，且用以驱动转盘214。滤光器模块220包括滤镜222、转盘224与驱动装置226。滤镜222位于转盘224上。驱动装置226连接于转盘224，且用以驱动转盘224。
光源230用以发射光线L1。光线L1预定通过滤光器模块210的滤镜212以及滤光器模块220中的滤镜222。当滤光器模块210或滤光器模块220产生偏移时，部分的光线L1会被转盘214或转盘224所遮蔽。因此，光线L1的光量会降低，进而影响到后续的曝光操作以及产品的品质。在本实施例中，光源230例如是卤素灯光源。此外，光源230例如是偏光光源，其与曝光机台的曝光光源不同。
图3是曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统的示意图。
请参照图3，监控系统300是用以监控如图2中的对准光源装置200内的模块，如滤光器模块210与滤光器模块220中的至少一者。监控系统300包括非接触式位置量测装置310与监控装置320。
非接触式位置量测装置310量测滤光器模块210与滤光器模块220中的至少一者的绝对偏移值。非接触式位置量测装置310包括光学式位置量测装置或磁力式位置量测装置(请参照图6)。光学式位置量测装置包括光遮断式位置量测装置(请参照图4A)或光反射式位置量测装置(请参照图5)。
监控装置320耦接至非接触式位置量测装置310，且判断绝对偏移值是否超过容许范围。举例来说，当滤光器模块210或滤光器模块220中的齿轮崩坏或累积尘屑时，会造成滤光器模块210中的转盘214或滤光器模块220中的转盘224的位置产生偏移。在此情况下，容许范围可依下列方式进行设定。当驱动装置216或驱动装置216的齿轮为48齿的齿轮时，每一齿所转动的角度为7.5度(360度/48齿)。若以齿轮偏移半齿所造成的转盘214或转盘224的偏移量设为容许范围，则可将容许范围的角度偏移量设为±3.75度，但本发明不以此为限。所属技术领域具有通常知识者可依照制作工艺需求来对绝对偏移值的容许范围进行设定与调整。
当监控装置320判断绝对偏移值超过容许范围时，监控装置320会产生异常信号。监控装置320可将异常信号传送到对准光源装置200，使对准光源装置200停止运作。
此外，监控系统300还可选择性地包括警示装置330。警示装置330耦接至监控装置320。监控装置320可将异常信号传送到警示装置330，使警示装置330发出警示信号，以警示使用者对准光源装置200中的模块发生偏移的情况。警示装置330包括发光装置、声响装置、电子显示装置或信号源控制器。其中，当信号源控制器侦测到异常信号时，其可提供断路功能，使对准光源装置200停止运作。
监控装置320与警示装置330可分别为独立的构件，也可为整合到对准光源装置200中的构件，所属技术领域具有通常知识者可依照机台设计需求而对监控装置320与警示装置330的设置方式进行调整。
此外，监控装置320、警示装置330与对准光源装置200之间的连接关系只要可使得监控装置320将异常信号传送到警示装置330与对准光源装置200即可。举例而言，监控装置320可同时将异常信号传送到警示装置330与对准光源装置200，使警示装置330发出警示信号，同时使对准光源装置200而停止运作。在另一实施例中，可先由监控装置320将异常信号会传送到对准光源装置200而使对准光源装置200停止运作，再由对准光源装置200将异常信号传送到警示装置330而使警示装置330发出警示信号。
基于上述实施例可知，在监控系统300中，可通过非接触式位置量测装置310量测模块的绝对偏移值，所以可即时监控对准光源装置200中的滤光器模块210与滤光器模块220的位置是否产生偏移，以提高对准操作的可靠度，进而提升产品的良率。
以下，通过图4A至图4C、图5与图6来举例说明监控系统300中的非接触式位置量测装置310的实施态样。
图4A是本发明一实施例中利用光遮断式位置量测装置监控对准光源装置的示意图。图4B、4C是图4A中的光线与定位孔的位置关系的示意图。
请同时参照图2、图3及图4A至图4C，在此实施例中，光遮断式位置量测装置400是以量测图2中滤光器模块210作动的绝对偏移值为例进行说明。滤光器模块210中的转盘214还包括多个定位孔218。定位孔218对应于滤镜212的位置进行设置，可协助判断转盘214是否转到预定位置。此外，关于滤光器模块210的其他构件已于前文中进行详尽地描述，故使用相同的符号表示且不再进行赘述。
光遮断式位置量测装置400包括光产生器410、光接收器420与光信息处理器430。滤光器模块210设置在光产生器410与光接收器420之间。
光产生器410发射光线L2。光线L2预定通过转盘214上的定位孔218。光产生器410例如是带状激光产生器。光接收器420接收光线L2。光信息处理器430耦接于光接收器420，用以计算光接收器420所接收到的光线L2的光量变化而获得绝对偏移值。在此实施例中，光信息处理器430只要能与光接收器420耦接而接收到光接收器420传送的光信息即可，光信息处理器430的设置方式并没有特别的限制。在此实施例中，光信息处理器430例如是设置于光接收器420上，但本发明不以此为限。在其他实施例中，光信息处理器430也可设置在光接收器420内部。
请参照图4B，在正常的情况下，滤光器模块210的转盘214会转到预定位置，使光线L2通过。请参照图4C，当滤光器模块210的转盘214产生定位偏移时，会使得转盘214无法到达预定位置。此时，部分光线L2会被转盘214所遮蔽，而使得通过定位孔218的光线L2的光量减少，因此接收器420所接收到的光线L2的光量也会减少。因此，光信息处理器430可根据接收器420所接收到光线L2的光量变化来计算转盘214的绝对偏移值。
图5是本发明一实施例的利用光反射式位置量测装置监控对准光源装置的示意图。在图5中，省略绘示驱动装置216的外壳，以利于说明驱动装置216内部的各构件的关系。
请同时参照图2、图3及图5，在此实施例中，光反射式位置量测装置500是以量测图2中的滤光器模块210作动的绝对偏移值为例进行说明。滤光器模块210中的驱动装置216包括马达装置2160、转动轴2162、齿轮2164、齿轮2166与连接构件2168。马达装置2160经由转动轴2162、齿轮2164、齿轮2166与连接构件2168而带动滤光器模块210中的转盘214，以使转盘214旋转至预定位置。此外，关于滤光器模块210的其他构件已于前文中进行详尽地描述，故使用相同的符号表示且不再进行赘述。
光反射式位置量测装置500包括光刻度构件510与光学编码器520。光刻度构件510连接至齿轮2166，且光刻度构件510与转盘214连动。光学编码器520发射光线L3至光刻度构件510上。由于光刻度构件510是经由齿轮2166以及连接构件2168而与转盘214连动旋转，因此光刻度构件510可以反映出转盘214的位置。光学编码器520接收由光刻度构件210所反射的带有位置信息的光线L3。光学编码器520通过解读光线L3中的位置信息而计算出转盘214的绝对偏移值。具体而言，由光刻度构件510上的每个位置所反射的光线L3的光特性并不相同，因此通过光学编码器520对于光线L3的光特性的解读，可得知光刻度构件510的位置信息(如，旋转的角度)，所以可得知与光刻度构件510连动的转盘214的位置信息，进而计算出转盘214的绝对偏移值。
图6是本发明的一实施例的利用磁力式位置量测装置监控对准光源装置的示意图。在图6中，驱动装置216中各构件的说明可参考图5，于此不再赘述。
请同时参照图2、图3及图6，在此实施例中，磁力式位置量测装置600是以量测图2中的滤光器模块210作动的绝对偏移值为例进行说明。此外，关于滤光器模块210的其他构件已于前文中进行详尽地描述，故使用相同的符号表示且不再进行赘述。
磁力式位置量测装置600包括磁力构件610与磁力编码器620。磁力构件610连接至齿轮2166，且磁力构件610与转盘214连动。磁力编码器620感测磁力构件610的运动而计算出绝对偏移值。具体而言，由于磁力构件610是经由齿轮2166以及连接构件2168而与转盘214连动旋转，因此通过磁力编码器620感测磁力构件610所产生的位置信息(如，旋转的角度)，而可得知与磁力构件610连动的转盘214的位置信息，进而计算出转盘214的绝对偏移值。
在上述实施例中，虽然图4A所示的光遮断式位置量测装置400、图5所示的光反射式位置量测装置500与图6所示的磁力式位置量测装置600是以量测图2中的滤光器模块210作动的绝对偏移值为例进行说明，然而于此技术领域具有通常知识者可参照上述实施例而将光遮断式位置量测装置400、光反射式位置量测装置500或磁力式位置量测装置600用于量测滤光器模块220作动的绝对偏移值。
此外，光遮断式位置量测装置400、光反射式位置量测装置500与磁力式位置量测装置600均可适用于图3的监控系统300。举例而言，光遮断式位置量测装置400、光反射式位置量测装置500或磁力式位置量测装置600可与监控装置320进行耦接。监控装置320可用以判断光遮断式位置量测装置400、光反射式位置量测装置500或磁力式位置量测装置600所计算出的绝对偏移值是否超过容许范围。当绝对偏移值超过容许范围时，监控装置320会产生异常信号，以即时监控对准光源装置中的模块位置是否产生偏移。
综上所述，通过上述实施例的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法及监控系统，可通过非接触式位置量测法量测模块的绝对偏移值，所以可即时监控对准光源装置中的模块位置是否产生偏移，以提高对准操作的可靠度，进而提升产品的良率。
虽然结合以上实施例公开了本发明，然而其并非用以限定本发明，任何所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，可作些许的更动与润饰，故本发明的保护范围应当以附上的权利要求所界定的为准。
Claims (20)
1.一种曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，包括：
提供一对准光源装置，其中该对准光源装置包括至少一模块；
通过一非接触式位置量测法量测该至少一模块的一绝对偏移值；以及
判断该绝对偏移值是否超过一容许范围，当该绝对偏移值超过该容许范围时，产生一异常信号。
2.如权利要求1所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，其中该非接触式位置量测法包括一光学式位置量测法或一磁力式位置量测法。
3.如权利要求2所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，其中该光学式位置量测法包括一光遮断式量测法，该光遮断式量测法包括：
利用一光产生器发射一光线，该光线预定通过该至少一模块的一定位孔；以及
通过一光接收器所接收到的该光线的光量变化而计算出该绝对偏移值。
4.如权利要求2所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，其中该光学式位置量测法包括一光反射式量测法，该光反射式量测法包括：
将一光刻度构件连接至该至少一模块，且该光刻度构件与该至少一模块连动；
通过一光学编码器发射一光线至该光刻度构件；
通过该光学编码器接收由该光刻度构件所反射的带有一位置信息的该光线；以及
通过该光学编码器解读该光线中的该位置信息而计算出该绝对偏移值。
5.如权利要求2所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，其中该磁力式位置量测法包括：
将一磁力构件连接至该至少一模块，且该磁力构件与该至少一模块连动；以及
通过一磁力编码器感测该磁力构件的运动而计算出该绝对偏移值。
6.如权利要求1所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，还包括：
将该异常信号传送到该对准光源装置，使该对准光源装置停止运作。
7.如权利要求1所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，还包括：
将该异常信号传送到一警示装置，使该警示装置发出警示信号。
8.如权利要求7所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，其中该警示装置包括发光装置、声响装置、电子显示装置或信号源控制器。
9.如权利要求1所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，其中该至少一模块包括至少一中性密度滤光器模块。
10.如权利要求1所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控方法，其中当该绝对偏移值在该容许范围内时，使该对准光源装置继续运作。
11.一种曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统，用以监控一对准光源装置内的至少一模块，且包括：
非接触式位置量测装置，量测该至少一模块的一绝对偏移值；以及
监控装置，耦接至该非接触式位置量测装置，且判断该绝对偏移值是否超过一容许范围，当该绝对偏移值超过该容许范围时，产生一异常信号。
12.如权利要求11所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统，其中该非接触式位置量测装置包括一光学式位置量测装置或一磁力式位置量测装置。
13.如权利要求12所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统，其中该光学式位置量测装置包括一光遮断式位置量测装置，该光遮断式位置量测装置包括：
光产生器，发射一光线，该光线预定通过该至少一模块的一定位孔；
光接收器，接收该光线；以及
光信息处理器，计算该光接收器所接收到的该光线的光量变化而获得该绝对偏移值。
14.如权利要求12所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统，其中该光学式位置量测装置包括一光反射式位置量测装置，该光反射式位置量测装置包括：
光刻度构件，连接至该至少一模块，且该光刻度构件与该至少一模块连动；以及
光学编码器，发射一光线至该光刻度构件，接收由该光刻度构件所反射的带有一位置信息的该光线，且通过解读该光线中的该位置信息而计算出该绝对偏移值。
15.如权利要求12所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统，其中该磁力式位置量测装置包括：
磁力构件，连接至该至少一模块，且该磁力构件与该至少一模块连动；以及
磁力编码器，感测该磁力构件的运动而计算出该绝对偏移值。
16.如权利要求11所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统，还包括将该异常信号传送到该对准光源装置，使该对准光源装置停止运作。
17.如权利要求11所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统，还包括警示装置，耦接至该监控装置，更包括将该异常信号传送到该警示装置，使该警示装置发出警示信号。
18.如权利要求17所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统，其中该警示装置包括发光装置、声响装置、电子显示装置或信号源控制器。
19.如权利要求11所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统，其中该至少一模块包括至少一中性密度滤光器模块。
20.如权利要求11所述的曝光机台对准光源装置内的模块作动监控系统，其中当该绝对偏移值在该容许范围内时，使该对准光源装置继续运作。
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