CN105779933B - 一种对位装置及蒸镀设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种对位装置及蒸镀设备。所述对位装置，用于对目标物进行对位，包括：导向机构；位于导向机构上的第二磁场发生机构和与所述第二磁场发生机构相对设置的第一磁场发生机构；其中，在所述第二磁场发生机构与第一磁场发生机构相互排斥的状态下，所述第二磁场发生机构沿着所述导向机构滑动，将所述目标物推送到设定位置。所述蒸镀设备包括1‑4组本发明任意一项实施例所提供的对位装置，分别用于对掩膜板的1‑4个角进行对位。本发明所提供的对位装置及蒸镀设备，能够方便快捷地对掩膜板进行对位。

Description

一种对位装置及蒸镀设备
技术领域
本发明涉及生产制造技术领域，尤其涉及一种对位装置及蒸镀设备。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机电激光显示)蒸镀工艺在蒸镀过程中需要掩膜板形成特定图案。由于基板结构的不同，有些基板需要在一个腔体中多次更换掩膜板，即机械手需要频繁地在Cassette(蒸镀盒)和多个不同蒸镀腔体中取放。蒸镀掩膜板是对应整片基板的金属材质的掩膜板，质量较大，在频繁的更换过程中极易在腔室和Cassette中产生偏移。在OLED蒸镀量产线中，由于在真空环境中，如果出现掩膜板位置偏移，工艺停下维修时间较长，严重影响OLED屏的成本。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种对位装置及蒸镀设备，能够方便快捷地对掩膜板进行对位。
基于上述目的本发明提供的对位装置，用于对目标物进行对位，包括：
导向机构；
位于导向机构上的第二磁场发生机构和与所述第二磁场发生机构相对设置的第一磁场发生机构；
其中，在所述第二磁场发生机构与第一磁场发生机构相互作用力的作用下，所述第二磁场发生机构沿着所述导向机构滑动，将所述目标物推送到设定位置。
可选的，所述第二磁场发生机构与目标物接触的位置设置有缓冲垫。
可选的，所述第一磁场发生机构为永磁体或电磁体；所述第二磁场发生机构为永磁体或电磁体。
可选的，所述目标物为掩膜板；所述导向机构为轨道，设置于掩膜板支撑体上；所述第一磁场发生机构与所述掩膜板支撑体相对固定。
可选的，所述掩膜板支撑体上设置有对位槽；所述第一磁场发生机构为电磁棒，固定于所述掩膜板支撑体上，所述电磁棒上设置有绕组线圈；所述第二磁场发生机构为片状永磁体，所述电磁棒与所述永磁体接触的一端垂直于所述永磁体，使得在二者相互排斥的状态下，排斥力的产生方向朝向所述对位槽。
可选的，所述轨道为设置于所述掩膜板支撑体上的滑槽。
可选的，还包括无线接收模块，用于接收无线控制信号，并根据无线控制信号开启或关断电流，使得所述电磁体产生电磁场。
同时，本发明还提供一种蒸镀设备，包括1-4组本发明任意一项实施例所提供的对位装置，分别用于对掩膜板的1-4个角进行对位；所述掩膜版为矩形，所述角为所述矩形掩膜版的角。
可选的，所述蒸镀设备为蒸镀盒，所述导向机构为轨道，设置于掩膜板支撑体上；所述第一磁场发生机构与所述掩膜板支撑体相对固定，所述掩膜板支撑体上设置有对位槽；所述第一磁场发生机构为电磁棒，固定于所述掩膜板支撑体上，所述电磁棒上设置有绕组线圈；所述第二磁场发生机构为片状永磁体，所述电磁棒与所述永磁体接触的一端垂直于所述永磁体，使得在二者相互排斥的状态下，排斥力的产生方向朝向所述对位槽，所述绕组线圈从所述蒸镀盒的支撑柱中绕出至所述电磁棒。
可选的，包括4组本发明任意一项实施例所提供的对位装置。
从上面所述可以看出，本发明提供的对位装置，无需手动处理即可对目标物进行对位，从而能够简化目标物的对位过程，在目标物偏离预定位置时无需调整其它部件即能够立即执行对位，快捷容易操作。本发明提供的蒸镀设备，包括本发明任意一项实施例提供的对位装置，能够对掩膜板进行对位，无需操作人员手动处理，并且具有较高的对位准确性。
附图说明
图1A为本发明实施例的对位装置结构示意图；
图1B为本发明实施例的对位装置另一方向的结构示意图；
图2为本发明实施例的蒸镀设备在蒸镀腔室中的应用示意图；
图3为本发明实施例的蒸镀设备应用到蒸镀盒中时的结构示意图；
附图标记：
101—导向机构；102—第二磁场发生机构；103—第一磁场发生机构；104—缓冲垫；105—掩膜板；106—掩膜版支撑体；1061—对位槽；107—连接件；201—掩膜板；202—磁铁；203—第二磁场发生机构；301—蒸镀盒；302—支撑柱；303—电流控制器；304—掩膜版。
具体实施方式
为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
本发明首先提供一种对位装置，用于对目标物进行对位，结构如图1A、图1B所示，包括：
导向机构101；
位于导向机构101上的第二磁场发生机构102和与所述第二磁场发生机构102相对设置的第一磁场发生机构103；
其中，在所述第二磁场发生机构103与第一磁场发生机构103相互作用力的作用下，所述第二磁场发生机构102沿着所述导向机构101滑动，将所述目标物推送到设定位置。
从上面所述可以看出，本发明提供的对位装置，能够通过两个磁场发生机构之间的相互作用力，使得第二磁场机构推动目标物，将目标物送入设定位置，从而无需操作人员手动对位，无需长时间停止工序，节省调整时间；对位操作的执行仅需令第一磁场发生机构和第二磁场发生机构之间产生所述排斥力即可，操作简便。尤其是当目标物处于真空环境中，如果出现位置偏移，通过本发明提供的对位装置进行对位，可避免手动对位时所执行的真空环境与正常大气压环境相互转换的过程，从而节省工艺时间，降低生产成本。
在本发明具体实施例中，所述作用力可以为第一磁场发生机构和第二磁场发生机构的磁场排斥力。
在本发明一些实施例中，所述作用力并不一定是第一磁场发生机构和第二磁场发生机构之间的磁场作用力，也可以为机械作用力。
例如，在另一种具体实施例中，所述作用力也可以由其它器件产生。例如，在第一磁场发生机构和第二磁场发生机构之间设置一个压缩弹簧，第一磁场发生机构或第二磁场发生机构为电磁体；在无需对位的正常情况下，第一磁场发生机构和第二磁场发生机构之间产生相反的磁场，相互吸引，压缩弹簧；当需要对位时，对电磁体停止供电，弹簧反弹，使得第二磁场发生机构推送目标物到设定位置。在上述实施例中，所述导向机构可以为设置一个支撑体上、用于引导方向的轨道，也可以为所述弹簧。
在本发明一些实施例中，仍然参照图1A、图1B，所述第二磁场发生机构102与目标物接触的位置设置有缓冲垫104。
通过所述缓冲垫，能够缓冲第二磁场发生机构和目标物之间的撞击力，防止目标物损坏。当所述第二磁场发生机构足够柔软时，所述缓冲垫也可以为第二磁场发生机构本身。
在本发明一些实施例中，所述第一磁场发生机构为永磁体或电磁体；所述第二磁场发生机构为永磁体或电磁体。例如，所述第一磁场发生机构为永磁体或电磁体中的一个；所述第二磁场发生机构为永磁体或电磁体中的另一个。
在本发明另一种具体实施例中，所述第一磁场发生机构和第二磁场发生机构均为电磁体。
在本发明一种具体实施例中，仍然参照图1A、图1B，所述目标物为掩膜板105；所述导向机构101为轨道，设置于掩膜板支撑体106上，所述第一磁场发生机构103与所述掩膜板支撑体106相对固定。在图1A、图1B所示的实施例中，第一磁场发生机构103固定在一个与掩膜版支撑体106相对固定的连接件107上。
在本发明具体实施例中，所述掩膜板支撑体一般与蒸镀腔室相对固定，用于支撑、放置掩膜板。
在本发明一些实施例中，仍然参照图1A、图1B，所述掩膜板支撑体106上设置有对位槽1061；所述第一磁场发生机构103为电磁棒，固定于所述掩膜板支撑体106上，所述电磁棒上设置有绕组线圈；通过控制绕组线圈中电流方向，可使得电磁棒产生不同方向的磁场；所述第二磁场发生机构102为片状永磁体，所述电磁棒与所述永磁体接触的一端垂直于所述永磁体，使得在二者相互作用的状态下，作用力的产生方向朝向所述对位槽1061。
当无需对位时，可令所述绕组线圈中通过第一方向的电流，使得第一磁场发生机构103和第二磁场发生机构102相互吸引；当需要执行对位时，可令所述绕组线圈中通过第二方向的电流，使得第一磁场发生机构103和第二磁场发生机构102相互排斥。所述第一方向和第二方向为相反的两个电流方向。
例如，若第二磁场发生机构102面向第一磁场发生机构103的部分为其N极、远离第一磁场发生机构103的部分为其S极。那么，从第二磁场发生机构102的位置朝向第一磁场发生机构103的观看方向上，电流逆时针通过所述绕组线圈时，第一磁场发生机构103和第二磁场发生机构102相互排斥，使得第二磁场发生机构推送目标物；电流顺时针通过所述绕组线圈时，第一磁场发生机构103和第二磁场发生机构102相互吸引，对位装置处于一般状态。
所述对位槽1061为开设于掩膜板支撑体106顶部的浅槽，槽的边缘与掩膜板边缘形状一致，用于掩膜板的对位。
在本发明一些实施例中，所述轨道为设置于所述掩膜板支撑体上的滑槽。
具体的，第二磁场发生机构能够沿着滑槽滑动，当第二磁场发生机构为片状时，在其下方设置有与第二磁场发生机构相连的滑杆，该滑杆伸入所述滑槽，并能够在滑槽内部沿着滑槽移动，从而在第二磁场发生机构受到作用力时对其滑动方向起到约束作用。
在一些具体实施例中，所述第二磁场发生机构部分地或全部地处于滑槽中，并能够沿着滑槽滑动。
在本发明一些实施例中，所述对位装置还包括无线接收模块，用于接收无线控制信号，并根据无线控制信号开启或关断电流，使得所述电磁体产生电磁场。
所述无线控制信号可以为红外信号、或蓝牙信号、或无线通信信号等。在实际使用过程中，可通过人眼直接观察或者通过拍摄装置拍摄的图像得知目标物位置发生偏移，然后发送无线控制信号到所述无线接收模块，启动对位装置进行对位。
在其它具体实施例中，所述对位装置还包括导线，用于传输开启或关断电流的控制信号。
进一步，本发明还提供一种蒸镀设备，包括1-4组本发明任意一项实施例所述的对位装置，分别用于对掩膜板的1-4个角或1-4个边进行对位；所述掩膜版为矩形，所述角为所述矩形掩膜版的角。
本发明实施例提供的蒸镀设备针对掩膜板在蒸镀腔室中对位或者掩膜板在取放过程中由于机械手参数异常、掩膜板尺寸问题导致的掩膜板无法放置在正常位置的问题，在蒸镀过程中采用本发明实施例所提供的对位装置进行对位，该装置利用电磁原理对偏离的掩膜板进行机械式的对中，使其回归到正确位置，使蒸镀工艺正常进行。现有技术在OLED量产线中，如果掩膜板出现偏移，须进行充气抽气和调整硬件参数，这浪费了大量的时间，在量产中产生了难以估计的损失。本发明所提供的蒸镀设备，可以在不破真空环境的情况下对中偏移的掩膜板，允许操作人员在一批工艺进行完后再进行检修，实现了量产线解决掩膜板偏移问题零损失。
在本发明具体实施例中，蒸镀设备中的对位装置推送掩膜板进行对位时，第二磁场发生机构与掩膜板接触的位置可以为掩膜板的四个角的倒角面，也可以为掩膜板的四个侧面。所述四个侧面为掩膜板除正面和背面之外的其它四个面。
在本发明具体实施例中，每组对位装置至少包括一个对位装置。在其他一些实施例中，每组对位装置包括两个或两个以上对位装置。
在本发明一些实施例中，所述蒸镀设备为蒸镀盒，例如CASSETTE蒸镀盒，所述目标物为掩膜板；所述导向机构为轨道，设置于掩膜板支撑体上；所述第一磁场发生机构与所述掩膜板支撑体相对固定。所述掩膜板支撑体上设置有对位槽；所述第一磁场发生机构为电磁棒，固定于所述掩膜板支撑体上，所述电磁棒上设置有绕组线圈；所述第二磁场发生机构为片状永磁体，所述电磁棒与所述永磁体接触的一端垂直于所述永磁体，使得在二者相互作用力的作用下，排斥力的产生方向朝向所述对位槽。所述绕组线圈从所述蒸镀盒的支撑柱中绕出至所述电磁棒。
参考图3，当所述蒸镀设备为蒸镀盒301时，在掩膜板支撑体的四周有四根支撑柱302，为空心柱。在支撑柱302的不同高度位置放置有多个掩膜版304，掩膜版支撑体在图中未画出。所述绕组线圈的走线可经过所述支撑柱内部。所有的绕组线汇集到电流控制器303中，电流控制器303内部有电源、电流转换器、接收模块等。具体的，所述接收模块可以是无线接收模块。
本发明所提供的蒸镀设备，在蒸镀腔室中仍然适用。如图2所示，当所述蒸镀设备应用于蒸镀腔室时，在对位时掩膜板201要与用于蒸镀的磁铁202分开，以免影响第一磁场发生机构和第二磁场发生机构203的相互作用力。由于出现遮挡，第一磁场发生机构在图2中未画出。
在本发明一些实施例中，所述蒸镀设备包括4组本发明任意一项实施例所提供的对位装置。所述4组对位装置分别用于对掩膜板的4个角进行对位。
一般情况下，掩膜板为矩形板状物，在矩形四个角的位置处设置有倒角。当目标物为掩膜板、蒸镀设备包括四个对位装置时，所述第二磁场发生机构上用于与掩膜板接触的面与掩膜板四角的倒角面平行。
通过对掩膜板四个角进行对位，能够简单方便地将掩膜板送入掩膜板支撑体上的对位槽中。
在本发明具体实施例中，所述蒸镀设备包括对所述对位装置进行控制的控制装置，例如信号发送模块，用于发送电流开启或电流关断信号，使得所述第一磁场发生机构和第二磁场发生机构之间产生相互作用的磁场或除去相互作用的磁场，从而能够控制所述对位机构执行对位或者停止执行对位。
所述控制装置可以统一控制四组对位装置；例如，所述控制装置为信号发送模块，该信号发送模块所发送的信号能够被所有本设备上的对位装置接收并按照所述信号执行相应的操作，从而统一控制四组对位装置的开启或关闭。所述控制装置也可以单独对每组对位装置进行控制；例如，所述控制装置为四个电路开关，分别对应四组对位装置，每组对位装置的启动和停止都可由对应的电路开关进行控制。在具体实施例中，所述控制装置可集中设置于一个遥控器或控制手柄中。
从上面所述可以看出，本发明提供的对位装置，无需手动处理即可对目标物进行对位，从而能够简化目标物的对位过程，在目标物偏离预定位置时无需调整其它部件即能够立即执行对位，快捷容易操作。本发明提供的蒸镀设备，包括本发明任意一项实施例提供的对位装置，能够对掩膜板进行对位，无需操作人员手动处理，并且具有较高的对位准确性。
应当理解，本说明书所描述的多个实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。并且在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种对位装置，用于对目标物进行对位，其特征在于，包括：
导向机构；
位于导向机构上的第二磁场发生机构和与所述第二磁场发生机构相对设置的第一磁场发生机构；
其中，在所述第二磁场发生机构与第一磁场发生机构相互作用力的作用下，所述第二磁场发生机构沿着所述导向机构滑动，将所述目标物推送到设定位置。
2.根据权利要求1所述的对位装置，其特征在于，所述第二磁场发生机构与目标物接触的位置设置有缓冲垫。
3.根据权利要求1所述的对位装置，其特征在于，所述第一磁场发生机构为永磁体或电磁体；所述第二磁场发生机构为永磁体或电磁体。
4.根据权利要求3所述的对位装置，其特征在于，所述目标物为掩膜板；所述导向机构为轨道，设置于掩膜板支撑体上；所述第一磁场发生机构与所述掩膜板支撑体相对固定。
5.根据权利要求4所述的对位装置，其特征在于，所述掩膜板支撑体上设置有对位槽；所述第一磁场发生机构为电磁棒，固定于所述掩膜板支撑体上，所述电磁棒上设置有绕组线圈；所述第二磁场发生机构为片状永磁体，所述电磁棒与所述永磁体接触的一端垂直于所述永磁体，使得在二者相互排斥的状态下，排斥力的产生方向朝向所述对位槽。
6.根据权利要求5所述的对位装置，其特征在于，所述轨道为设置于所述掩膜板支撑体上的滑槽。
7.根据权利要求4所述的对位装置，其特征在于，还包括无线接收模块，用于接收无线控制信号，并根据无线控制信号开启或关断电流，使得所述电磁体产生电磁场。
8.一种蒸镀设备，其特征在于，包括1-4组如权利要求1-7中任意一项所述的对位装置，分别用于对掩膜板的1-4个角进行对位；所述掩膜板为矩形，所述角为所述矩形掩膜板 的角。
9.根据权利要求8所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀设备包括蒸镀盒，还包括如权利要求5所述的对位装置，所述绕组线圈从所述蒸镀盒的支撑柱中绕出至所述电磁棒。
10.根据权利要求8所述的蒸镀设备，其特征在于，包括4组如权利要求1-7中任意一项所述的对位装置。
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