CN105734496A - 有机真空涂布系统及薄膜形成方法 - Google Patents
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Abstract
一种有机真空涂布系统，包含有一腔体，具有一容室可抽真空；一载台，设于该腔体的容室，供装设被镀物；一蒸发源，设于该腔体的容室；一有机单体供应装置，是对该蒸发源喷射有机单体使蒸发到被镀物上；一固化装置，对该被镀物成形的薄膜加以固化。本发明还提供一种使用所述有机真空涂布系统的薄膜形成方法。
Description
技术领域
本发明是与薄膜成型有关，特别是指一种有机真空涂布系统与薄膜形成方法。
背景技术
已知涂布系统及薄膜形成方法，若在大气中实施会造成溶剂挥发浪费的情形；为解决这种问题，有的使用无尘室设备，然而其成本甚高。
再者，以上的涂布系统及薄膜形成方法为求表面平整，通常须要将膜厚增加才能达成，尤其是在不平整的表面。
另外，其有机液体不易均匀混合喷涂，因此涂膜的机能性较无法提升。
因此，已知有机真空涂布系统及薄膜形成方法的缺点仍然有待改进。
发明内容
有鉴于此，本发明的主要目的在于提供一种有机真空涂布系统及薄膜形成方法，其可免除溶剂使用，减少针孔现象，薄膜平滑的效果，提高亲疏水性及硬度，及加强素材表面不平整处之覆盖能力。
为达成上述目的，本发明提供一种有机真空涂布系统，包含有一腔体，具有一容室可抽真空；一载台，设于该腔体的容室，供装设被镀物；一蒸发源，设于该腔体的容室；一有机单体供应装置，是对该蒸发源喷射有机单体使蒸发到被镀物上；一固化装置，对该被镀物成形的薄膜加以固化。
本发明亦提供一种使用所述有机真空涂布系统的薄膜形成方法，其步骤如下：承载；抽真空；压力控制；成膜；固化；开启；取出。
较佳地，该腔体的容室抽真空使真空度界于在10-1torr-10-6torr之间。
较佳地，该蒸发源的温度设定在摄氏200-450度之间。
较佳地，可重复该成膜步骤及固化步骤。
由此，本发明该蒸发源与有机单体供应装置均设在腔体内，可使被镀物无须移出移进该腔体，以确保涂层不受到外界影响，达到更好的质量。
有关本发明所提供的有机真空涂布系统及薄膜形成方法的详细构造及特点，将于后续的实施方式中予以详尽描述。然而，本技术领域中具有通常知识者理应了解，身上详细说明以及实施本发明所列举的特定实施例，仅用于说明本发明，并非用以限制本发明的专利申请范围。
附图说明
为进一步说明本发明的技术内容，以下结合实施例及附图详细说明如后，其中：
图1是本发明一较佳实施例的结构示意图。
图2是本发明薄膜形成方法之一流程图。
图3是本发明薄膜形成方法另一流程图。
具体实施方式
申请人首先在此说明，于通篇说明书中所指的内、外、上、下等有关方向性的形容词，皆是以本发明附图中的方向为基准。
以下将通过所列举的实施例配合随附的附图，详细说明本发明的技术内容及特征，其中：
如图1所示，本发明一较佳实施例的有机真空涂布系统，包含有：
一腔体10，具有一容室11可抽真空。
一载台20，设于该腔体10的容室11，供装设被镀物。其中，该载台20是可位移及/或旋转。
一蒸发源30，设于该腔体10的容室11底部。
一有机单体供应装置40，对该蒸发源30喷射有机单体使蒸发到被镀物上。
一固化装置50，对该被镀物成形的薄膜加以固化。本实施例中，该固化装置50是设于该腔体10的容室11环周，其能源为一光波或等离子体或热源等架桥固化，例如该固化装置50是为一紫外光灯。
如图2所示，使用所述有机真空涂布系统的薄膜形成方法，即膜层镀工艺，其步骤及说明如下：
承载：将被镀物设置于该载台20。
抽真空：将该腔体10的容室11抽真空，较佳使真空度界于在10-1torr-10-6torr之间。
压力控制：维持前述真空度。
成膜：以该有机单体供应装置40对该蒸发源30喷射有机单体使蒸发到被镀物上，使形成一涂层。
固化：以该固化装置50对前述涂层烘干。
开启：该腔体10的容室11。
取出：拿被镀物。
其中，该蒸发源30的温度设定在摄氏200-450度之间。
如图3所示，使用所述有机真空涂布系统的薄膜形成方法，与前述大致相同，不同处在于重复该成膜与固化步骤一次或一次以上。
其中，各次的有机单体可相同或不同；由此，本实施例对于多个涂层可使被镀物无须移出移进该腔体10，以确保涂层不受到外界影响，达到更好的质量。
因此，利用本发明可达成以下各项：
1.取代目前大气喷涂系统，可免除溶剂使用。
2.不需要无尘室设备来减少粉尘可减少营运成本。
3.由于真空中有抽气可以减少针孔现象。
4.可以减少薄膜厚度就达到保护平滑的效果。
5.可增加有机液体种类混合，提高亲疏水性及硬度。
6.膜面平坦化功用可加强素材表面不平整处之覆盖能力。
综合前述，本发明有机真空涂布系统及薄膜形成方法，确实达成本发明的目的。
Claims (10)
1.一种有机真空涂布系统，包含有：
一腔体(10)，具有一容室(11)可抽真空；
一载台(20)，设于该腔体(10)的容室(11)，供装设被镀物；
一蒸发源(30)，设于该腔体(10)的容室(11)；
一有机单体供应装置(40)，对该蒸发源(30)喷射有机单体使蒸发到被镀物上；
一固化装置(50)，对该被镀物成形的薄膜加以固化。
2.依据权利要求1所述的有机真空涂布系统，其中该蒸发源(30)设于该腔体(10)的容室(11)底部。
3.依据权利要求2所述的有机真空涂布系统，其中该固化装置(50)设于该腔体(10)的容室(11)环周。
4.依据权利要求1所述的有机真空涂布系统，其中该固化装置(50)设于该腔体(10)的容室(11)环周。
5.一种使用如权利要求1至4其中任何一项所述的有机真空涂布系统的薄膜形成方法，其中该腔体(10)的容室(11)抽真空使真空度界于在10-1tort-10-6tort之间。
6.一种如权利要求5所述的有机真空涂布系统的薄膜形成方法，其中该蒸发源(30)的温度设定在摄氏200-450度之间。
7.一种如权利要求5所述的有机真空涂布系统的薄膜形成方法，其包含有成膜步骤及固化步骤，并可重复该成膜步骤及固化步骤。
8.一种使用如权利要求1至4其中任何一项所述的有机真空涂布系统的薄膜形成方法，其中该蒸发源(30)的温度设定在摄氏200-450度之间。
9.一种如权利要求8所述的有机真空涂布系统的薄膜形成方法，其包含有成膜步骤及固化步骤，并可重复该成膜步骤及固化步骤。
10.一种使用如权利要求1至4其中任何一项所述的有机真空涂布系统的薄膜形成方法，其包含有成膜步骤及固化步骤，并可重复该成膜步骤及固化步骤。
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