CN105706435A

CN105706435A - 摄像装置、有机el元件、摄像方法、程序、和记录介质

Info

Publication number: CN105706435A
Application number: CN201480060623.6A
Authority: CN
Inventors: 金周作
Original assignee: NEC Lighting Ltd
Current assignee: Fluorescein lux Co., Ltd
Priority date: 2013-11-08
Filing date: 2014-10-21
Publication date: 2016-06-22
Anticipated expiration: 2034-10-21
Also published as: US20160255258A1; CN105706435B; JPWO2015068568A1; WO2015068568A1; US9912851B2; JP6410321B2

Abstract

本发明提供一种能够通过降低直接进入摄像元件的光的影响而获得高对比度图像的摄像装置。摄像装置其特征在于，该摄像装置包括摄像元件(11)，发光元件(13)和图像数据校正单元，发光元件(13)利用光照射摄像对象物(14)，摄像元件(11)检测被摄像对象物(14)反射的照射光(16)并且生成图像数据，图像数据校正单元通过从所述图像数据减去在不被摄像对象物(14)反射的情况下从发光元件(13)直接进入摄像元件(11)的光(15)来校正所述图像数据。

Description

摄像装置、有机EL元件、摄像方法、程序、和记录介质

技术领域

本发明涉及一种摄像装置、一种有机EL元件、一种摄像方法、一种程序、和一种记录介质。

背景技术

使用摄像元件和发光元件的摄像装置例如被用于各种设备诸如数字摄像机、手机等中。

摄像装置的实例包括其中发光二极管(LED)元件被置于靠近镜头的装置和允许照明光通过外部光纤越过镜头进入的装置。然而，这些装置的光学系统是复杂的，从而增加了装置的尺寸和作为系统的成本。

另一方面，存在使用有机EL元件作为发光元件的摄像装置(专利文献1)。

引用列表

专利文献

专利文献1：JP2003-087502A

发明内容

要解决的技术问题

作为薄发光元件的有机EL元件等的使用有助于降低摄像装置的尺寸并且降低成本。

然而，发光元件诸如透明有机EL元件不仅在摄像对象物的方向上发光也在相反方向上(即在摄像元件的方向上)发光。因此，除了从摄像对象物反射的光之外，从发光元件在相反方向上(即在摄像元件的方向上)发出的光直接进入摄像元件。该直接入射光可能成为噪声并且可能降低获得的图像的对比度。

因此，本发明旨在提供降低直接入射光在摄像元件上的影响并且允许获得高对比度图像的摄像装置、有机EL元件、摄像方法、程序和记录介质。

技术方案

为了实现以上目标，本发明提供包括以下的摄像装置：摄像元件；发光元件；和图像数据校正单元，其中发光元件利用光照射摄像对象物，摄像元件感测被摄像对象物反射的光并且生成图像数据，并且图像数据校正单元通过从图像数据减去在不被摄像对象物反射的情况下从发光元件直接进入摄像元件的入射光来校正图像数据。

本发明还提供在根据本发明的摄像装置中用作发光元件的有机EL元件。

本发明还提供摄像方法，其包括以下步骤：利用光照射摄像对象物；利用摄像元件感测被摄像对象物反射的光，从而生成图像数据；并且通过从图像数据减去在不被摄像对象物反射的情况下直接进入摄像元件的入射光来校正图像数据。

本发明还提供能够在计算机上执行根据本发明的摄像方法的程序。

本发明还提供记录有根据本发明的程序的计算机可读记录介质。

有益效果

根据本发明的摄像装置、有机EL元件、摄像方法、程序和记录介质，能够降低直接入射光在摄像元件上的影响并且获得高对比度图像。

附图说明

[图1]图1是示出根据本发明的摄像装置的构造的实例的示意图。

[图2]图2A～2C是各个示出用于根据本发明的摄像装置中的发光元件(有机EL元件)的构造的实例的示意图。图2A为平面视图，并且图2B和2C为横截面视图。

具体实施方式

在下文中，将参照实例详细说明本发明。然而，本发明不限于以下说明。在图1和图2A至2C中，利用相同的数字和符号指示相同的部件，并且对于相同部件的说明可能被适当省略。此外，为了解释方便，在图1和图2A至2C中示出的各个部件的结构可能被适当简化，并且部件的尺寸、比例等可能被示意性示出并且与实际的尺寸、比例等不同。

[实施例1]

图1为示出根据本发明的摄像装置的构造的实例的示意图。如在图1中所示，该摄像装置包括摄像元件11、镜头12和发光元件13。镜头12置于摄像元件11和发光元件13之间。由此，从发光元件13侧进入镜头12的入射光能够通过镜头12进入摄像元件11。

在图1中示出的摄像装置例如如下拍摄图像。也就是说，首先，发光元件13利用光照射摄像对象物14。该光被摄像对象物14反射。被反射的光16通过发光元件13，进入镜头12，通过镜头12，并且进入摄像元件11。此时，发光元件13也利用光照射摄像对象物14的相反侧(即存在镜头12和摄像元件11的侧)。该光(直接入射光)15不被摄像对象物14反射而是直接进入镜头12，通过镜头12，并且进入摄像元件11。

摄像元件11感测入射光并且生成图像数据。此时，图像数据校正单元(未示出)通过使用软件(程序)从图像数据减去(消除)直接入射光15而校正图像数据。在该校正后的图像数据为待输出的图像。该校正降低直接入射光15在图像数据上的影响并且允许获得高对比度图像。

没有对于摄像元件11的特别限制，并且其实例包括摄像元件诸如CCD、CMOS等。

镜头12不被限制为特定的项目，只要其具有作为镜头的功能。在根据本发明的摄像元件中，从光利用效率等的观点看，例如优选的是如在图1中示出的摄像装置那样使用镜头。

在根据本发明的摄像装置中，没有对于摄像元件、镜头和发光元件的布置的特别限制。优选地，例如如在图1中所示，镜头12和发光元件13被放置在从摄像元件11看的同一侧(同一方向)。这允许例如照明难以达到的区域诸如筒的底部等的更容易的照明(光照射)。一般地，当在镜头和摄像对象物之间的距离非常近的状态下拍摄图像时(例如数字像机的特写模式)，不能足够地获得环境光，并且除了摄像对象物是自发光摄像对象物的情况外难以获得锐利的图像。本发明例如通过使用薄透明有机EL光源作为发光元件13(光源)并且越过该透明有机EL光源而拍摄摄像对象物14的图像来解决上述问题。

图像数据的校正方法不被限制为特定方法。例如，能够通过以下来进行校正，即预先测量发光元件对摄像元件侧(镜头侧)的发光特性并且使用软件程序消除该值(即从图像数据减去该值)。

具体地，例如通过以下步骤(1)至(4)能够执行用于消除成为图像数据的噪声的直接照射光的方案。

(1)首先，将显微镜用作摄像元件，并且将几乎不反射光的黑板(理想地，反射率为0)置于载物台上作为参照物。通过根据本发明的摄像装置的发光元件利用光照射作为摄像对象物的该参照物，并且拍摄参照物的图像。

(2)根据步骤(1)，因为作为摄像对象物(参照物)的黑板几乎不反射光，被摄像对象物反射的光能够被认为0。也就是说，能够测量仅从发光元件直接进入摄像元件的光(直接入射光)。

(3)将通过测量获得的光的量作为直接入射光的量存储在软件(程序)中。

(4)在实际的摄像中，通过消除存储在步骤(3)中的直接入射光的量(即从图像数据减去该值)来校正图像数据。

在步骤(1)至(4)中，当从发光元件发出的光的强度(亮度)变化时，到摄像元件(显微镜)侧的直接入射光的量增加。因此，在步骤(1)至(3)中，优选的是通过改变光的强度(亮度)来测量直接入射光的量的一些样本，并且根据需要存储它们。

在根据本发明的摄像元件中，发光元件优选地为有机EL元件。此外，优选地，设计有机EL元件使得向摄像对象物侧发出的光的量大于向摄像对象物的相反侧发出的光的量。例如，有机EL元件的构造能够为以下构造A或以下构造B。注意，“ITO”表示氧化铟锡。在以下构造A和B两者中，优选地，在基板玻璃侧放置摄像对象物，并且利用向基板玻璃侧发出的光照射摄像对象物。

[构造A]

基板玻璃/透明电极(ITO等)/有机层/镜面电极(Al等)/空气/密封玻璃

[构造B]

基板玻璃/透明电极(ITO等)/有机层/透明电极(ITO等)/空气/密封玻璃

图2A至2C中的每个具体地示出在根据本发明的摄像元件中使用的有机EL元件的构造的实例。图2A是平面视图。图2B是沿着图2A中A-A’线截取的横截面视图。图2C是沿着图2A中的线B-B’截取的横截面视图。如在图2A至2C中所示，所述有机EL元件13包括基板玻璃21、密封玻璃22、第一电极23、有机层24、第二电极25、高折射率层26、和抗反射膜27至29。在基板玻璃21的一个表面上，密封玻璃22、第一电极23、有机层24、第二电极25、和高折射率层26依此次序层叠。有机层24置于第一电极23和第二电极25之间并且电连接至所述电极两者。基板玻璃21的在其上层叠(stack)第一电极23、有机层24、第二电极25、和高折射率层26的侧覆盖有密封玻璃22。第一电极23、有机层24、第二电极25、和高折射率层26被密封在夹在基板玻璃21和密封玻璃22之间的空间中。在该空间中，放置抗反射膜27使得，其接触密封玻璃22并且面对高折射率层26。第一电极23和第二电极25中的每个电极的两端向密封玻璃22的外部突出，并且利用突出的部分能够将第一电极23和第二电极25电连接至外部配线等。第一电极23不直接与第二电极25接触，并且第一电极23的长度方向(即两端从密封玻璃22突出的方向)垂直于第二电极25的长度方向。抗反射膜28被置于基板玻璃21的与在其上层叠第一电极23、有机层24、第二电极25、和高折射率层26的侧相反的侧上。抗反射膜29被置于密封玻璃22的与在其上放置有抗反射膜27的侧相反的侧上(即在密封玻璃22的外侧上)。注意，在平面视图2A中，为了图示简化起见，未示出抗反射膜27至29。图2A至2C示出的有机EL元件13通过在基板玻璃21侧放置摄像对象物并且由摄像对象物反射向基板玻璃21侧发出的光来拍摄图像。

第一电极23可以例如为透明电极等。第二电极25可以为镜面电极(Al等)或例如透明电极等。用于透明电极的材料没有被限制为特别材料，并且其实例包括由ITO、ZnO、IZO(注册商标，铟锌氧化物)、IGZO(铟-镓-锌氧化物)、GZO(镓锌氧化物)、SnO₂等形成的透明导电性薄膜。此外，第一电极23或第二电极25可以为阳极，并且第一电极23或第二电极25可以为阴极。

有机层24没有特别限制，只要其包括发光层即可。例如，有机层24可以与在一般的有机EL元件中的有机层相同。例如，有机层24可以包括含有有机电致发光物质的发光层，可以包括把发光层夹在中间的空穴传输层和电子传输层，并且可以包括把空穴传输层和电子传输层夹在中间的空穴注入层、电子注入层等。此外，例如，有机层24可以进一步包括阻挡空穴或电子并且增加发光效率的载流子阻挡层。例如，有机层24可以为其中空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、和电子注入层依此次序从第一电极23侧层叠的层叠体(laminate)。

提供空穴注入层从而降低对于从第一电极23向有机层24注入的空穴的注入势垒的高度，并且缓和在阳极和空穴传输层之间的能级的差，以允许从阳极向空穴传输层注入的空穴的容易的注入。空穴注入层由空穴注入层材料形成。空穴注入层材料的实例包括空穴注入有机材料。其具体实例包括铜酞菁和芳基胺(arylamine)衍生物诸如星爆(starburst)型芳香族胺(aromaticamine)等。例如，空穴注入有机材料可以为化学掺杂有无机物诸如五氧化二钒、三氧化钼等或有机物诸如F4-TCNQ等的材料，以进一步降低注入势垒的高度和驱动电压的水平。

优选地由空穴传输层材料形成空穴传输层。空穴传输层材料具有适度的电离电位(ionizationpotential)以增加向发光层的空穴迁移率，并且同时，具有电子亲和力以防止电子从发光层泄漏。空穴传输层材料的具体实例包括三苯基二胺和星爆型芳香族胺。三苯基二胺的实例包括双(二(对甲苯基)氨基苯基)-1,1-环己烷、4,4’-双(间甲苯基苯基氨基)联苯(TPD)和N,N’-二苯基-N-N-双(1-萘基)-1,1’-联苯)-4,4’-二胺(α-NPD)。

发光层再结合从电极注入的电子和空穴以发出荧光、磷光等。发光层含有发光材料。发光材料的实例包括低分子化合物诸如三(8-羟基喹啉)铝络合物(Alq₃)、双二苯基乙烯基联苯(BDPVBi)、1,3-双(对叔丁基苯基-1,3,4-噁二唑基)苯基(OXD-7)、N,N’-双(2,5-二叔丁基苯基)苝四甲酰二亚胺(BPPC)、1,4双(N-对甲苯基-N-4-(4-甲基苯乙烯基)苯氨基)萘等；和高分子化合物诸如聚苯亚乙烯聚合物等。

此外，例如，发光材料由主体和掺杂剂的二成分体系形成并且可以为以下材料，其中在主体分子中产生的激发态能量被转移至掺杂剂分子以引起掺杂剂分子发光。这种发光材料的实例包括上述发光材料、以下将描述的电子传输层材料、和上述空穴传输层材料。其具体实例包括通过利用根据以下组合的掺杂剂掺杂主体而获得的材料：

主体：羟基喹啉金属络合物诸如Alq₃等

掺杂剂：喹吖啶酮衍生物诸如4-二氰基亚甲基-2-甲基-6-(对二甲氨基苯乙烯基)-4H-吡喃(DCM)、2,3-喹吖啶酮等或香豆素衍生物诸如3-(2’-苯并噻唑)-7-二乙基氨基香豆素等；

主体：电子传输材料双(2-甲基-8-羟基喹啉)-4-苯基苯酚-铝络合物

掺杂剂：缩合多环芳香族化合物诸如苝等；

主体：空穴传输层材料4,4’-双(间甲苯基苯基氨基)联苯(TPD)

掺杂剂：红荧烯等；和

主体：咔唑化合物诸如4,4’-双咔唑基联苯(CBP)、4,4’-双(9-咔唑基)-2,2’-二甲基联苯(CDBP)等

掺杂剂：铂络合物或铱络合物诸如三-(2苯基吡啶)铱(Ir(ppy)₃)、双(4,6-二-氟苯基)-吡啶-N,C2)铱(吡啶甲酸)(FIr(pic))、双(2-2’-苯并噻吩基)-吡啶-N,C3铱(乙酰丙酮)(Btp₂Ir(acac))、三-(吡啶甲酸)铱(Ir(pic)₃)、双(2-苯基苯并噻唑-N,C2)铱(乙酰丙酮)(Bt₂Ir(acac))等。

发光材料能够例如根据要从有机EL照明面板发出的光的所期望的颜色而适当地选择。该选择的具体实例如下：

在发射绿色光的情况下：

主体：Alq₃

掺杂剂：喹吖啶酮、香豆素等或

主体：CBP

掺杂剂：Ir(ppy)₃等；

在发射蓝色光的情况下：

主体：4,4’-双(2,2-二苯基乙烯基)-1,1’-联苯(DPVBi)

掺杂剂：苝、二苯乙烯基丙炔衍生物等或

主体：CBP

掺杂剂：FIr(pic)等；

在发射绿色至蓝-绿色光的情况下：

主体：Alq₃

掺杂剂：OXD-7等；

在发射红色至橙色光的情况下：

主体：Alq₃

掺杂剂：DCM或4-(二氰基亚甲基)-2-叔丁基-6-(1,1,7,7-四甲基久洛尼定基-9-烯基)-4H-吡喃(DCJTB)或

主体：CBP

掺杂剂：Ir(pic)₃等；和

在发射黄色光的情况下：

主体：Alq₃

掺杂剂：红荧烯或

主体：CBP

掺杂剂：Bt₂Ir(acac)等。

发出白色光的发光层能够为例如含有发出红色光、绿色光和蓝色光的发光材料的三层层叠结构的层。除此之外，发出白色光的发光层的实例包括：含有发出互补色诸如蓝色和黄色等的发光材料的二层层叠结构的层、和通过多元共蒸发等使得各个颜色的发光材料被混合而使用各个颜色的发光材料获得的单层结构的层。此外，也可以使用通过将形成三层层叠结构的层和二层层叠结构的层的各个颜色层的发光材料的红色、蓝色、绿色等细微的像素按次序平面地排列而获得的层作为发射白色光的发光层。

电子传输层优选地由电子传输层材料形成。电子传输层材料具有适度的电离电位以提高向发光层的电子迁移率，并且同时，具有电子亲和力以防止空穴从发光层泄漏。电子传输层材料的具体实例包括有机材料诸如噁二唑衍生物如2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑(Bu-PBD)、OXD-7等；三唑衍生物；羟基喹啉金属络合物；等。此外，电子传输层材料可以例如为通过使有机材料利用供电子(electron-donating)物质诸如碱金属如锂等化学掺杂而获得的材料。

提供电子注入层以例如缓和因为在用于形成阴极的诸如铝等的金属材料的功函数(workfunction)和电子输送层的电子亲和力(LUMO能级)之间的能量的较大差异而导致的从阴极向电子传输层的电子注入的难度。电子注入层优选地由电子注入层材料形成。电子注入层材料的实例包括具有低功函数的材料，并且其具体实例包括碱金属诸如锂、铯等和碱土金属诸如钙等的氟化物和氧化物；镁-银；和锂铝合金。

载流子阻挡层的实例包括空穴阻挡层。空穴阻挡层设置在发光层和电子传输层之间以阻挡空穴在不贡献发光的情况下通过发光层并且提高在发光层中的再结合概率。用于形成空穴阻挡层的材料的实例包括2,9-二甲基-4,7-二苯基-1,10-菲咯啉(BCP)、三苯基二胺衍生物和三唑衍生物。

没有对于有机层24的厚度的特别限制。形成有机层24的各个层的厚度例如为在从1至500nm的范围内，并且所述各层的总厚度例如为在从100至1000nm的范围内。

高折射率层26的材料没有限制为特定材料，并且该材料能够例如为具有比ITO更高的折射率的二氧化钛。

抗反射膜27至29的材料没有限制为特定材料，并且该材料能够例如为诸如MgF₂(氟化镁，折射率：1.37)、五氧化二钽、二氧化硅等材料中的一种或两种或更多种的层叠结构。

在用在根据本发明的摄像装置中的有机EL元件中，为了增加照射到摄像对象物侧的光量，例如，能够采用以下方法(有机EL元件的构造)。也就是说，首先，例如在密封玻璃侧的透明电极和诸如空气的气体之间的界面处，或在透明电极和真空之间的界面处，具有约0.8的折射率差。因此，由于菲涅尔(Fresnel)反射，射向基板玻璃侧的光量相对增加。为了积极地利用该现象，优选地将有机EL元件密封在空间中。具体地，例如，有机EL元件可以通过中空玻璃密封。更具体地，例如，如在图2A至2C中所示，优选地将有机EL元件密封在夹在基板玻璃和密封玻璃之间的空间中。此外，没有对于在有机EL元件被密封的空间中的气氛(围绕密封在该空间中的有机EL元件的气体)的特别限制，并且所述气氛能够例如为空气、惰性气体(氮气、氩气等)等或能够为真空。从防止有机EL元件劣化的观点来看，在气氛中的水含量优选地尽可能少。此外，从同样的观点出发，在气氛中的氧含量优选地尽可能少。特别优选地，该气氛不含氧(例如该气氛为惰性气体)。为了促进该现象，例如，具有更高折射率的高折射率层可以层叠在透明电极上。此外，通过适当地设计透明电极、有机层和其它层中的每个的厚度从而优化干涉条件，照射到有机EL元件的两侧的光量可以偏置到两侧中的一侧。

另外，在有机EL元件中，为了增加照射到摄像对象物侧的光量，例如，优选地在有机EL元件的发光侧面上没有放置投射阴影的物体(例如网格状辅助配线)。优选地，作为浑浊度(cloudiness)的指标的有机EL元件的雾度值为10％以下。注意，所述雾度值能够例如根据JIS-K-7136测量。注意，该测量方法仅是说明性的并且不限制本发明。此外，在有机EL元件中，从有机EL元件本身发射的光的透过率优选地为90％以上。此外，为了抑制在基板玻璃和密封玻璃处的反射，如上所述可以使用抗反射膜。除了抗反射膜外或代替抗反射膜，可以使用蛾眼片等。

在根据本发明的摄像装置中使用的有机EL元件的构造不限制于上述构造，并且能够作出各种变化。例如，有机EL元件可以包括除了在图2中示出的构成要素之外的构成要素。例如，除了在图2中示出的第一电极23、有机层24和第二电极25之外的构成要素可以适当地被省略或不同地布置。

根据本发明的摄像装置的使用没有限制为特别的用途，并且能够用于例如照相机、显微镜、扫描仪等中。虽然根据本发明的摄像装置能够用在需要扫描的设备诸如复印机中，但是其适合于需要立刻摄像的光学系统。所述需要立刻摄像的光学系统例如为用于拍摄相对小的区域的图像的显微镜的光源。特别地，在使用具有短焦距的镜头的情况下，虽然一般不能获得足够的照明(光量)，但是根据本发明的摄像装置能够获得大的光量。因此在这种情况下，根据本发明的摄像装置是有效的。而且在观察管的内部的情况下，因为根据本发明的摄像装置能够垂直地对底部照明，所以能够获得大的光量。因此在这种情况下根据本发明的摄像装置是有效的。

另外，根据本发明的摄像装置，例如，引起以下效果(1)至(3)。然而，这些仅是说明性的而不限制本发明。

(1)如上所述，即使在难以获得环境光的情况下也能够拍摄鲜明的图像。

(2)在光学系统中的照明系统能够被简化并且其贡献于削减成本。

(3)其允许更薄的光学系统并且其贡献于装置的小型化。近年来，随着移动装置变得更小，存在对于更简单、更小且更薄的光学系统的需求。根据本发明的摄像装置能够满足该要求。

以上参照实施例描述了本申请的发明。然而，本申请的发明不限于上述实施例。在本申请的发明的范围内，在本申请的发明的构造和细节中，能够由本领域的技术人员理解的各种变化能够被做出。

上述实施例的部分或全部能够如以下补充说明所述。然而，本发明不被以下补充说明所限制。

(补充说明1)

补充说明1的本发明提供摄像装置，其包括：摄像元件；发光元件；和图像数据校正单元，其中所述发光元件利用光照射摄像对象物，所述摄像元件感测被摄像对象物反射的光并且生成图像数据，并且所述图像数据校正单元通过从图像数据减去在不被摄像对象物反射的情况下从发光元件直接进入摄像元件的入射光来校正图像数据。

(补充说明2)

补充说明2的本发明提供根据补充说明1所述的摄像装置，其中所述发光元件为有机电致发光(EL)元件。

(补充说明3)

补充说明3的本发明提供根据补充说明1或2所述的摄像装置，其中所述摄像元件为电荷耦合器件(CCD)或互补MOS(CMOS)图像传感器。

(补充说明4)

补充说明4的本发明提供根据补充说明1至3中的任一项所述的摄像装置，其中被摄像对象物反射的光通过发光元件并且进入摄像元件。

(补充说明5)

补充说明5的本发明提供根据补充说明1至4中的任一项所述的进一步包括镜头的摄像装置，其中被摄像对象物反射的光通过镜头并且进入摄像元件。

(补充说明6)

补充说明6的本发明提供用作根据补充说明1至5中的任一项所述的发光元件的有机EL元件。

(补充说明7)

补充说明7的本发明提供根据补充说明6所述的有机EL元件，所述有机EL元件包括第一电极、包括发光层的有机层、和第二电极，其中所述第一电极、所述有机层和所述第二电极依此次序层叠，并且所述有机层电连接至所述电极两者。

(补充说明8)

补充说明8的本发明提供根据补充说明7所述的有机EL元件，其中所述第一电极和所述第二电极两者都为透明电极。

(补充说明9)

补充说明9的本发明提供根据补充说明7或8所述的有机EL元件，其中所述第一电极、所述有机层和所述第二电极中的全部都被密封在空间中。

(补充说明10)

补充说明10的本发明提供根据补充说明7至9中的任一项所述的有机EL元件，所述有机EL元件进一步包括基板玻璃和密封玻璃，其中所述第一电极、所述有机层和所述第二电极中的全部都被密封在夹在所述基板玻璃和所述密封玻璃之间的空间中。

(补充说明11)

补充说明11的本发明提供根据补充说明7至10中的任一项所述的有机EL元件，所述有机EL元件进一步包括高折射率层，其中所述高折射率层置于所述第一电极、所述有机层和所述第二电极以及所述摄像元件之间。

(补充说明12)

补充说明12的本发明提供根据补充说明11所述的有机EL元件，其中所述高折射率层由二氧化钛形成。

(补充说明13)

补充说明13的本发明提供根据补充说明7至12中的任一项所述的有机EL元件，其中雾度值为10％以下。

(补充说明14)

补充说明14的本发明提供根据补充说明7至13中的任一项所述的有机EL元件，其中从有机EL元件本身发出的光的透过率为90％以上。

(补充说明15)

补充说明15的本发明提供包括如下步骤的摄像方法：利用光照射摄像对象物；利用摄像元件感测被摄像对象物反射的光，从而生成图像数据；并且通过从所述图像数据减去在不被摄像对象物反射的情况下直接进入所述摄像元件的入射光来校正所述图像数据。

(补充说明16)

补充说明16的本发明提供根据使用根据补充说明1至5中的任一项所述的摄像装置进行的补充说明15所述的摄像方法。

(补充说明17)

补充说明17的本发明提供能够在计算机上执行根据补充说明15或16所述的摄像方法的程序。

(补充说明18)

补充说明18的本发明提供根据补充说明17所述的程序以使得根据补充说明1至5中的任一项所述的摄像装置执行根据补充说明16所述的摄像方法。

(补充说明19)

补充说明19的本发明提供记录有根据补充说明17或18所述的程序的计算机可读记录介质。

本申请要求来自于2013年11月8日提交的日本专利申请No.2013-232165的优先权。该日本专利申请的全部公开通过引用并入本文。

附图标记说明

11摄像元件

12镜头

13发光元件

14摄像对象物

16被摄像对象物14反射的光

15直接入射光

21基板玻璃

22密封玻璃

23第一电极

24有机层

25第二电极

26高折射率层

27,28,29抗反射膜

Claims

1.一种摄像装置，包括：

摄像元件；

发光元件；和

图像数据校正单元，其中

所述发光元件利用光照射摄像对象物，

所述摄像元件感测被所述摄像对象物反射的所述光并且生成图像数据，并且

所述图像数据校正单元通过从所述图像数据减去在不被所述摄像对象物反射的情况下从所述发光元件直接进入所述摄像元件的入射光来校正所述图像数据。

2.根据权利要求1所述的摄像装置，其中所述发光元件为有机电致发光(EL)元件。

3.根据权利要求1或2所述的摄像装置，其中所述摄像元件为电荷耦合器件(CCD)或互补MOS(CMOS)图像传感器。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的摄像装置，其中被所述摄像对象物反射的所述光通过所述发光元件并且进入所述摄像元件。

5.一种用作根据权利要求1至4中的任一项所述的发光元件的有机EL元件。

6.根据权利要求5所述的有机EL元件，包括：

第一电极，

包括发光层的有机层，和

第二电极，其中

所述第一电极、所述有机层、和所述第二电极依此次序层叠，并且

所述有机层电连接至所述电极两者。

7.根据权利要求6所述的有机EL元件，其中所述第一电极和所述第二电极两者都是透明电极。

8.一种摄像方法，包括以下步骤：

利用光照射摄像对象物；

利用摄像元件感测被所述摄像对象物反射的所述光，从而生成图像数据；以及

通过从所述图像数据减去在不被所述摄像对象物反射的情况下直接进入所述摄像元件的入射光来校正所述图像数据。

9.一种能够在计算机上执行根据权利要求8所述的摄像方法的程序。

10.一种记录有根据权利要求9所述的程序的计算机可读记录介质。