CN105633211A - 用于处理物料的设备 - Google Patents

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Abstract

一种用于处理物料的设备，具有装备有外罩(20)的处理室(16)，该外罩将位于其内的环境与位于外罩(20)外的环境分开，位于外罩(20)内的环境是受控制的环境。壳体(14)形成处理室(16)的边界。至少一个用于输送物料的传送辊(24)至少部分地布置在处理室(16)内。借助于一个或多个布置在壳体(14)外的支承装置(64、66)支承至少一个传送辊(24)。在至少一个支承装置(64、66)与壳体(14)的、对应于支承装置的壁之间设有柔性的补偿元件(76、78)，设有与补偿元件(76、78)相连的密封布置结构(93、95)，该密封布置结构将至少一个支承装置(64、66)与位于外罩(20)内的环境分开。

Description

用于处理物料的设备
技术领域
本发明涉及一种用于处理物料的设备，该设备具有：
a)处理室，该处理室装备有外罩，该外罩将位于外罩内的环境与位于外罩外的环境分开，其中，位于外罩内的环境是受控制的环境；
b)壳体，该壳体形成处理室的边界；
c)至少一个至少部分地布置在处理室内的、用于输送物料的传送辊；
d)一个或多个支承装置(Lagereinrichtung)，其布置在壳体外且借助于该支承装置支承至少一个传送辊(Tragrolle)。
背景技术
由DE102009019127A1已知了一种用于制造光伏薄膜电池的炉子，这种炉子具有：炉壳体，该炉壳体的壁包括绝缘层；包围炉壳体的气密的外罩，在该外罩的内室中存在受控制的环境；以及包括多个传送辊的输送设备，借助于该输送设备能够经过炉壳体输送基材板，其中，传送辊的与驱动装置相连的端部区域支承在支承装置中，该支承装置包括至少一个支承底座，该支承底座通过金属片型材支承，该金属片型材竖立在与炉壳体相连的钢结构的支柱上。
在DE102011116136A1中描述的用于处理工件、特别是用于处理光伏薄膜电池的基材的设备具有形成处理室的边界的壳体，在该处理室中存在受控制的环境，其中，工件能够通过具有多个传送辊的输送系统经过处理室输送，其中，传送辊从外部支承在壳体侧壁上。
在已知的设备中，传送辊和用于传送辊的支承装置遭受相对较大的磨损。
发明内容
本发明的目的是，提供一种用于处理物料的设备，该设备相对于现有技术，例如在与所述磨损相关的缺点方面得到进一步改进。
该目的在开头所述类型的设备中通过以下方式实现，即
e)在至少一个支承装置与壳体的、对应于支承装置的壁之间设有柔性的补偿元件；
f)设有与补偿元件相连的密封布置结构，该密封布置结构将至少一个支承装置与位于外罩内的环境分开。
以这种方式减少了支承装置的负荷且提高了其耐久性。设备的由取决于磨损的轴承更换所引起的停机时间可以根据本发明减少。由于可以放弃将支承装置直接固定在设备壳体上的做法，因此根据本发明的布置结构能够实现运输辊的更简单的安装和拆卸。
优选地，补偿元件可以这样设计，从而在支承辊的支承功能方面所述至少一个支承装置与壳体的壁脱耦。因此，壳体的壁、例如炉侧壁可以构造成花费更少且成本更有利地制造，例如由于更宽松的制造公差。
有利的是，补偿元件这样预紧地布置，使得密封布置结构被朝向至少一个支承装置的方向挤压。因此能够实现密封布置结构的自动调整，由此可以补偿磨损和回转不精确性。
在适宜的设计方案中，壳体可以具有一个或多个通道，该一个或多个通道分别对应于支承装置，其中，补偿元件这样布置在至少一个支承装置与壳体的、对应于该至少一个支承装置的壁之间，使得即使在传送辊的轴线与用于传送辊的通道的轴线之间存在偏差，仍通过补偿元件确保了密封。因此可以在补偿元件的帮助下对壳体的通道的对准误差进行补偿。因此可以减少磨损、特别是与传送辊的倾斜位置有关的磨损。
优选地，密封布置结构可以具有接纳元件，该接纳元件基本上设计为片材形式，且该接纳元件基本上在垂直于传送辊的转动轴的平面中延伸。设置这样设计的接纳元件恰在设计为在超压情况下用于保护气体运行的设备中使用时是有利的。
例如对于保护气体加载有利的是，密封布置结构具有密封元件，该密封元件布置在补偿元件与密封布置结构的接纳元件之间。在此，接纳元件可以配设有用于接纳密封元件的槽。
通过以下方式可以实现运行特别安全的布置结构，即密封布置结构的接纳元件这样设计，使得该接纳元件在物料输送的过程中在传送辊运动时，特别是在传送辊转动运动时，以与传送辊运动学耦合的方式运动。
有利的是，补偿元件可以基本上设计为管的形状，在该管中布置有传送辊的部分区域。因此能够实现特别容易地更换传送辊。
在另一个有利的设计方案中，补偿元件可以是波纹管。
优选地，处理室的外罩、至少一个补偿元件和至少一个密封布置结构形成环境区域的边界，在该环境区域中存在外罩内部的受控制的环境。
此外适宜的是，外罩、至少一个补偿元件和至少一个密封布置结构设计为气密的。
优选地，补偿元件的至少大部分可以布置在壳体外。在此特别有利的是，补偿元件和密封布置结构都可以被容易地监控状态和功能。
例如在狭小的空间条件下适宜的是，补偿元件的至少一部分布置在壳体的通道中。因此能够实现设备的特别紧凑的实施方式。
在另一个设计方案中，传送辊具有辊体部和辊轴，其中，辊体部和辊轴形锁合地相互连接。以这种方式可以改进设备的维护友好性。传送辊的更好在此被简化。
优选地，传送辊垂直于壳体的两个侧壁延伸，其中，与两个侧壁相对且与两个侧壁间隔开布置地设有各一个具有附属的补偿元件和附属的密封布置结构的支承装置，其中，传送辊支承在两个支承装置中。因此两个支承装置所受到的热负荷减少。支承装置的使用寿命被延长。此外例如可以避免：支承装置的、通常带有轴承润滑脂的轴承与具有相对较高的温度的环境接触。
附图说明
其它有利的设计方案由下面的说明中得出。在此，对本发明的实施例——以不限于此的方式——根据附图进行详细说明。分别在简化的、示意性的附图中示出：
图1示出穿过用于处理物料的设备的竖直剖面图，其中示出根据现有技术的本身已知的炉子；
图2示出根据本发明的一个例子的用于处理物料的设备的竖直剖面图；
图3在细节放大图中示出根据本发明的另一个例子的用于处理物料的设备的竖直剖面图；
图4在与图3相对应的视图中示出本发明的另一个例子；
图5在与图3相对应的视图中示出本发明的另一个例子；
图6在与图3相对应的视图中示出本发明的另一个例子；
图7示出变型的密封布置结构的细节放大图。
具体实施方式
图1至7在不同的设计方案中示出总体上带有附图标记10的炉子作为用于处理物料的设备的例子。
用于处理物料的设备例如可以是用于硬化、燃烧和/或烧结、加热或干燥物料的设备。在此，物料例如可以是用于光伏的陶瓷、技术陶瓷、电极或电子元器件以及用于所谓的热印的金属片或负荷材料。
作为用于在设备的处理室16中处理的物料的例子，图1至6示出工件12，该工件在附图中显示为用于光伏薄膜电池的基材板形式的基材。在这种光伏薄膜电池中可以使用小于十微米厚的无定形半导体层。工件12、例如用于光伏薄膜电池的基材例如可以在优选连续滚压过程中在炉子10中处理。但也可以是定时运行的炉子。
借助于未详细示出的装置可以将材料引入炉子10中或在炉子10中产生，该材料应被涂覆在通过炉子10移动的工件12上。在炉子10中也可以进行无材料涂覆的纯粹的热处理、例如退火处理。
用于处理物料的设备——如其在图1至6中示例性示出地——可以在物料应在设备的处理室16中在与正常环境不同的受控制的环境中处理时被使用。这种受控制的环境具有适配于在处理室16中发生的物理和/或化学过程的参数。受控制的环境例如可以是具有相对于正常压力改变的压力的环境和/或具有特殊气体、例如保护气体或惰性气体的环境。在受控制的环境中例如制造光伏电池。在示出的炉子10中例如可以存在具有相对较高的温度(该温度例如可能超过600℃)的特殊环境。
为了产生在炉子10内期望的受控制的环境，例如在附图中示出的炉子10可以具有其它未详细示出的装置、例如真空泵或管路，通过该装置能够供给保护气体。
待处理的工件12借助于输送系统22经过处理室16移动。附图分别示出例如输送系统22的设计为传送辊24的辊。
具有传送辊24的输送系统22——如其在图1至6中示出地——通常包括多个彼此平行且彼此间隔开地布置的、由适合的耐温材料制成的传送辊24。作为用于传送辊24的材料例如可以使用陶瓷、钢和/或碳化硅，也可以使用碳化硅-复合陶瓷。在连续式加热炉中，待加热的物料借助于传送辊24经过炉子10移动，该连续式加热炉也称为辊式炉。
在图1至6中分别示例性地示出用于传送辊24的驱动装置44，该驱动装置可以装备链条46。该链条46例如可以设计为连续链条并设置在驱动机构中，这例如在DE69334189T2中描述。传送辊24也可以与另一类型的、在附图中未详细示出的驱动装置耦合。因此例如可以设置齿轮电动机作为用于这种另外类型的驱动装置的驱动源，其中，齿轮电动机借助于轴布置结构与传送辊24耦合。这种轴布置结构例如可以类似于在DE102009019127A1中所述的轴布置结构那样设计，其中，轴布置结构优选地可以具有立轴/主轴。在另一个另选的设计方案中例如可能的是，设有用于处理物料的设备的一个或多个传送辊24且没有相对应的驱动装置。另选地或额外地可以给一个或多个传送辊24分别装备直接驱动装置。
图1示出总体上带有附图标记10的炉子，该炉子在下面作为用于处理物料的自身已知的设备的例子进行描述。
炉子10具有壳体14，该壳体形成处理室16的边界，其中，壳体14包括具有绝缘材料18的层和气密的外罩20。在该例子中，具有绝缘材料18的层布置在外罩20内侧。作为用于绝缘层的材料例如可以使用矿物毛织物。
在设计为炉子的设备的处理室16中主要存在有前述的受控制的环境。处理室16的受控制的环境通过气密的外罩20与位于外罩20外的环境分开，其中，外罩20例如可以由金属片材制造。在壳体14的侧壁26和28中设有用于传送辊24的通道30或32。
输送系统22的在图1中示出的传送辊24具有辊体部50和辊轴52，其中，辊轴52被经过通道30、32导入壳体14的侧壁26、28中。在壳体14外，在壳体14两侧的侧壁26、28上布置有用于传送辊24的支承装置34或36。该支承装置34和36与壳体14的侧壁26或28相连且固定在侧壁上。在图1中表明支承装置34、36在侧壁26或28上的示例性的固定。
传送辊24的辊轴52在穿过壳体14的侧壁26、28向外突出的区域中的两侧支承在支承装置34和36中。布置在侧壁26和28中的、用于传送辊24的通道30或32未设计为气密的。用于传送辊24的转动轴52的支承装置34、36同样未设计为气密的。
在炉子10的第一侧上，转动轴52的第一端部区域54和对应的支承装置34与侧壁26相对地由外罩20的壳体部分38包围。
在炉子10的与第一侧相对的第二侧上，转动轴52的第二端部区域56与已经描述的驱动装置44耦合。根据图1在炉子10的第二侧上，转动轴52的第二端部区域56的至少一部分和对应的支承装置36与侧壁28相对地由外罩20的壳体部分40包围。外罩20的壳体部分38、40这样设计，使得在外界环境与在外罩20的内部主要存在的受控制的环境之间实现尽可能气密的分开。转动轴52的第二端部区域56的一部分在图1所示的例子中从外罩20的壳体部分40中向外导出且优选地在单侧与驱动装置44相连。
相应于图1中所示的布置结构——其本身对应于现有技术，用于传送辊24的支承装置34、36位于在外罩20的内部主要存在的受控制的环境中，其中，支承装置34、36受到高的热负荷。
如已经说明地，支承装置34和36在如图1所示的、炉子10的对应于现有技术的实施方式中固定在壳体14的侧壁26或28上。由此决定地，可能由于在实践中不能始终避免的、在壳体14的侧壁26或28中通道30、32的对准误差而导致传送辊24的不期望的斜置。通道30、32的这种对准误差例如可能由于在炉子裂口的结构中的不精确性而出现。辊的斜置可能引起不均匀的辊损耗并提高传送辊24的磨损或用于传送辊24的支承装置34和36的磨损。
在图1中示出的炉子10在其基本构造方面类似于例如由DE102009019127和DE102011116136A1所述的炉子，其中补充性地参考这些文献。
根据图2至6下面描述本发明的不同例子，其中，描述总体上带有附图标记10的炉子作为用于处理物料的设备的例子。在此，在炉子10的由壳体14包围的处理室16中处理工件12，其中，在炉子10中特别可以进行热处理。壳体14根据在图2至6中示出的例子具有由绝缘材料18制成的绝缘层和外罩20。炉子10的外罩20至少很大程度上设计为气密的并将设备的处理室16中的受控制的环境与包围的环境分开。
在图2中表明，在处理室16中设有输送系统22，该输送系统具有一个或多个用于待处理的工件12的传送辊24。在图2至6中示出的传送辊24设计为用于移动工件12经过处理室16并与已经描述的驱动装置44耦合。
炉子10的壳体14具有多个壁。壳体14的壁例如是不带有附图标记的顶板和侧壁26、28。
在壳体14外设有用于传送辊24的支承装置64、66，其中，支承装置64、66与壳体14的侧壁26、28间隔开地布置。这种支承装置64、66例如可以设计为传统的支承轴承和转动轴承，例如以滚动轴承或滑动轴承的形式。传送辊24支承在支承装置64、66中。
在图2至6中示例性示出的传送辊24具有辊体部50和辊轴52。在示出的例子中，辊轴52超过辊体部50向外伸出。辊体部50和辊轴52优选形锁合地相互连接。辊轴52的侧向的轴部段70从辊体部50朝向支承装置66的方向延伸。
图2示出传送辊24的设计方案，其中，辊轴52设计为多部件式的，其中，辊体部50将辊轴52的两个轴部段68、70相连。在示出的例子中，辊体部50被插到辊轴52上，其中，两个轴部段68、70配设有多边形轴60或62。在示出的例子中，多边形轴60、62分别设计为六边形。在示出的例子中，辊轴52的直径小于辊体部50的直径。在传送辊24的图中未示出的、变型的设计方案中，辊体部50的直径可以小于辊轴52的直径。在辊轴52与辊体部50之间的形锁合的其它变型设计方案也是可能的。
根据在图2至6中示出的例子，炉子10的壳体14的面对支承装置66的侧壁28配设有用于传送辊24的通道32。在图2中示出的传送辊24穿过炉子10的壳体14的通道30、32延伸且部分地布置在壳体14内和部分地布置在该壳体外。
在图2至6的例子中，在支承装置66与对应于支承装置66的侧壁28之间设有柔性的补偿元件78。传送辊24的部分区域布置在补偿元件78中或穿过优选地至少基本上管形地设计的补偿元件78延伸。因此可以实现容易地更换各个炉辊、例如输送系统22的传送辊24(见图2)。输送系统22中的辊间距例如可以近似等于或大于75mm。
补偿元件78可以这样预紧地布置，使得密封布置结构95被朝向至少一个支承装置66的方向挤压。以这种方式可以借助于补偿元件78这样实现自动调整，即对磨损和回转不精确性进行补偿。在此可以优选地调节作用于密封布置结构95上的力。柔性的补偿元件在根据图2至6的例子中设计为波纹管。通过其弹性效果，波纹管78可以至少部分地补偿密封布置结构95的损耗。原则上可以例如通过选择材料、结构和/或几何形状规定补偿元件78的柔性或其弹性。
此外，在图2至6的例子中设有与补偿元件78相连的密封布置结构95。该密封布置结构95将支承装置66与位于外罩20内或炉子10的壳体14中的环境分开。为此，密封布置结构95优选地具有接纳元件，该接纳元件基本上设计为片材形式，且该接纳元件基本上在垂直于传送辊24的转动轴的平面中延伸。
在例如设计为波纹管78的补偿元件78的面对壳体14的一侧上设有密封的固定法兰74，其中，根据图2的固定法兰74布置在波纹管78与侧壁28之间，其中，固定法兰74的一部分延伸到通道32中。
在图2至6的例子中示出的辊套管(Rollendurchfuehrung)的密封件的设计方案适用于在超压时的保护气体运行中的炉子10。在此，处理室16的外罩20和补偿元件78及密封布置结构95一起且在包含固定法兰74或密封元件96的情况下形成环境区域的边界，在该环境区域中存在外罩内部的受控制的环境。该环境区域的边界或边界的元件在此优选设计为气密的。
图2示出密封布置结构95，其具有密封元件86和作为用于密封元件86的接纳元件的止推片/挡圈82。止推片82运动学地与传送辊24耦合且在传送辊24转动时与其一起转动，其中，止推片82例如可以与辊轴52焊接。密封元件86也可以设计为环形且在传送辊24移动时在止推片82和辊轴52上发生摩擦。密封元件86布置在止推片82与波纹管78之间，其中，波纹管78的端部区域和密封元件86的一部分由密封布置结构95的环形元件90包围。
图2示意性和示例性地示出炉子10，其中，与炉子10的两个侧壁26、28相对且与侧壁26、28间隔开地各设有位于壳体14外的支承装置64、66。在此，在壳体14的两侧上设有例如设计为波纹管的补偿元件76、78和与补偿元件76、78相连的密封布置结构93、95。传送辊24的辊轴52的轴部段68、70的部分区域分别经过设置在相应的壳体侧上的波纹管76或78延伸。在壳体14的两侧，在相应的波纹管76、78与侧壁26、28相应的通道30、32之间设有优选气密的密封件，该密封件例如可以设计为固定法兰72或74。密封布置结构93、95根据图2中示出的例子在两侧具有隔离分别对应的支承装置64、66的止推片80、82，该止推片借助于至少一个密封元件84、86与波纹管76、78相连，其中，还设有环形元件88、90，该环形元件包围波纹管76、78的端部区域和密封元件84、86的至少一部分。
因此可以将传送辊24的支承功能与处理室16的密封功能彼此分开，这能够实现设备的安全运行，特别是在用于传送辊24的通道30、32的区域中温度非常高时。支承装置64、66关于传送辊24的支承功能与炉子10的壳体14脱耦。
图3示出炉子10，其中，传送辊24的辊体部50比炉子10的内部宽度短。辊轴52为了实现形锁合的带动而通过多边形轴62与辊体部50相连。在图3中示出的密封布置结构95具有止推片94，该止推片装备有用于接纳在示出的例子中设计为密封环92的密封元件的槽。密封布置结构95还具有另一个环形元件90，该环形元件径向布置在密封环92和波纹管78外。止推片94可以夹紧地安装在辊轴52上，其中，例如可以使用垫圈和/或套筒。
在图4中示出的炉子10的传送辊24的辊体部50比炉子10的内部宽度长。在此，辊体部50伸入在例子中设计为波纹管的补偿元件78中。密封布置结构95的在图4中示出的止推片100具有多个带动销钉106，该带动销钉伸入传送辊24中。为此，辊体部50的底部98例如可以配设有用于接纳带动销钉106的钻孔。止推片100还具有用于接纳密封布置结构95的密封环92的槽，其中，设有另一个环形元件90，该环形元件包括密封环92的一部分和波纹管78的一部分。
在图4中可以看到在传送辊的轴与用于传送辊24的、设置在侧壁28中的通道32的轴之间的偏移。这种偏移可以通过补偿元件78补偿。相应地，波纹管78在示出的例子中偏离于水平轴取向，其中，波纹管78从壳体14的壁朝向支承装置66上升地取向。通过设计为波纹管的补偿元件78的灵活的取向，即使在传送辊24的轴线与通道32的轴线之间存在偏差，仍确保了密封。
根据在图2至4中示出的例子，补偿元件78布置在壳体14外。在此，设置在波纹管78与侧壁28之间的固定法兰74优选最大部分地布置在通道32外。
根据在图5和6中示出的例子，补偿元件78的至少一部分布置在壳体14的通道32中。因此能够实现包括传送辊24的布置结构的更紧凑的结构形式。在两个示出的例子中，在此在侧壁28上设有密封元件96，该密封元件布置在设计为波纹管78的补偿元件78与侧壁28之间，其中，密封元件96被拉入侧壁28的通道32中或优选地其大部分布置在通道32内。
在图5和6中示出的密封布置结构95——类似于前面已经描述的密封布置结构95——具有密封环92、外部环形元件和带有用于接纳密封环92的槽的止推片94。根据图5，传送辊24的辊轴52借助于多边形轴62形锁合地与辊体部54相连。
根据图6，传送辊24的辊轴52配设有卡圈104。在此，辊轴通过例如布置在卡圈104上的带动件102与辊体部54相连。带动件102在示出的例子中设计为销钉形且伸入辊体部54的底部98中。这种设计方案可以特别对于大的辊来说是有利的。通道32的直径或波纹管78的直径在此通常匹配于所使用的传送辊24的大小。
根据图2至6说明的本发明示例性设计方案适用于在处理室16中温度非常高的设备，其中，材料选择和设计形式可以适配于特殊的使用条件。这种设计方案的优点之一在于，特别是对于运行重要的密封面可以更容易接近地布置且因此可以相对简单地监控状态和功能。另一优点在于，支承装置64、66的轴承更好地被保护以免受所述高温的影响。
作为本发明的基础的思想可以概括如下：本发明涉及一种用于处理物料的例如设计为辊式炉的设备，该设备具有处理室16，该处理室装备有外罩20，该外罩将位于其内的环境与位于外罩20外的环境分开，其中，位于外罩20内的环境是受控制的环境，该设备还具有：壳体14，该壳体具有壁且形成处理室16的边界；至少一个用于输送物料的、至少部分地布置在处理室16内的传送辊24；以及一个或多个支承装置64、66，其布置在壳体14的壁外，且在该支承装置中支承至少一个传送辊24，其中，在至少一个支承装置64、66与壳体14的、对应于支承装置64、66的壁之间设有柔性的补偿元件78，其中，设有与补偿元件78相连的密封布置结构93、95，该密封布置结构将至少一个支承装置64、66与位于外罩20内的环境分开。因此可以减少支承装置64、66的负荷且延长其使用寿命。
通过将支承装置64、66固定在设备的壳体14上的做法，能够实现运输辊24的更简单的安装和拆卸。设备的取决于磨损的停机时间因此减少。
在图7中，在细节放大图中示出变型的密封布置结构95，其中，已经说明的部件带有相同的附图标记。
在此，密封布置结构95设计为浮动的密封件108，其中，密封环110浮动地布置在支承装置66上的止推片112与补偿元件78上的环形元件114之间。
密封环110在本实施例中具有圆形的横剖面且其外周面116密封地贴靠在止推片112的密封面118上和环形元件114的密封面120上。为此，该密封面118和120是弯曲的且在本实施例中具有圆弧形走向的横剖面。
通过浮动地支承的密封环110确保了，密封件即使在补偿元件78的位置发生变化时也仍能保持不变，因为与此有关的部件能够跟随位置变化，并且由于弯曲的面112、118、120而是线性的密封接触不会中断。
在未特别示出的变型中，密封环110也可以具有不同于圆形的横剖面、特别是矩形的或方形的横剖面。基于弯曲的配对面118、120则也始终确保了与止推片112和环形元件114的密封接触。

Claims (15)

1.一种用于处理物料的设备，该设备具有：
a)处理室(16)，该处理室装备有外罩(20)，该外罩将位于外罩(20)内的环境与位于外罩(20)外的环境分开，其中，位于外罩(20)内的环境是受控制的环境；
b)壳体(14)，该壳体形成处理室(16)的边界；
c)至少一个至少部分地布置在处理室(16)内的、用于输送物料的传送辊(24)；
d)一个或多个支承装置(34、36；64、66)，其布置在壳体(14)外且借助于该支承装置支承至少一个传送辊(24)；
其特征在于，
e)在至少一个支承装置(64、66)与壳体(14)的、对应于支承装置(64、66)的壁之间设有柔性的补偿元件(76、78)；
f)设有与补偿元件(76、78)相连的密封布置结构(93、95)，该密封布置结构将至少一个支承装置(64、66)与位于外罩(20)内的环境分开。
2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，补偿元件(76、78)这样设计，从而在传送辊(24)的支承功能方面所述至少一个支承装置(64、66)与壳体(14)的壁脱耦。
3.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，补偿元件(76、78)这样预紧地布置，使得密封布置结构(93、95)被压向所述至少一个支承装置(64、66)。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的设备，其特征在于，壳体(14)具有一个或多个通道(30、32)，所述一个或多个通道分别对应于支承装置(64或66)，其中，补偿元件(76、78)这样布置在所述至少一个支承装置(64、66)与壳体(14)的、对应于所述至少一个支承装置(64、66)的壁之间，使得即使在传送辊(24)的轴线与用于传送辊(24)的通道(30或32)的轴线之间存在偏差，仍通过补偿元件(76、78)确保了密封。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的设备，其特征在于，密封布置结构(93、95)具有接纳元件，该接纳元件基本上设计为片材形式，且该接纳元件基本上在垂直于传送辊(24)的转动轴线的平面中延伸。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的设备，其特征在于，密封布置结构(95)具有密封元件(92)，该密封元件(92)布置在补偿元件(76、78)与密封布置结构(95)的接纳元件之间。
7.根据权利要求5或6所述的设备，其特征在于，密封布置结构(93、95)的接纳元件这样设计，使得该接纳元件在物料输送的过程中在传送辊(24)运动时，特别是在传送辊(24)转动时，以与传送辊(24)运动学耦合的方式运动。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的设备，其特征在于，补偿元件(76、78)基本上设计为管件形式，在该管件中布置有传送辊(24)的部分区域。
9.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，补偿元件(76、78)是波纹管(76、78)。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的设备，其特征在于，处理室(16)的外罩(20)、所述至少一个补偿元件(76、78)和所述至少一个密封布置结构(93、95)形成环境区域的边界，在该环境区域中存在外罩内部的受控制的环境。
11.根据权利要求10所述的设备，其特征在于，外罩(20)、所述至少一个补偿元件(76、78)和所述至少一个密封布置结构(93、95)设计为气密的。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的设备，其特征在于，补偿元件(76、78)的至少大部分布置在壳体(14)外。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的设备，其特征在于，补偿元件(76、78)的至少一部分布置在壳体(14)的通道(30、32)中。
14.根据权利要求1至13中任一项所述的设备，其特征在于，传送辊(24)具有辊体部(50)和辊轴(52)，其中，辊体部(50)和辊轴(52)形锁合地相互连接。
15.根据权利要求1至14中任一项所述的设备，其特征在于，传送辊(24)垂直于壳体(14)的两个侧壁(26和28)延伸，其中，与两个侧壁(26、28)相对且与两个侧壁(26、28)间隔开布置地各设有一个支承装置(64或66)，所述支承装置具有附属的补偿元件(76、78)和附属的密封布置结构(93、95)，其中，传送辊(24)支承在两个支承装置(64和66)中。
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