CN105624651A - 一种针对连续式化学镀的清洗方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及清洗技术与设备领域，具体涉及一种针对连续式化学镀的清洗方法。一种针对连续式化学镀的清洗方法，包括六级冲洗步骤。本发明采用溢流清洗的思想设计了适用于连续式化学镀的“三级溢流、六级清洗工位”，对清洗水循环利用、逐级利用。三级溢流、六级清洗工位中每级之间都有风刀或辊子隔开，防止交叉污染。本发明操作简单，有效地减少了用水量。
Description
技术领域
本发明涉及清洗技术与设备领域，具体涉及一种针对连续式化学镀的清洗方法。
背景技术
在电子元器件生产行业，化学镀作为一种常用的镀膜方式而普遍存在。在工业化大生产中，连续式化学镀又是量产的必然方式。但由于化学镀中常有有毒的离子存在，例如镉离子，清洗后的水中就会存在这些有毒离子，这些含有有毒离子的废水不能直接排放，必须交给专业的厂家处理，处理的费用非常昂贵。而产品量产中使用的连续式化学镀后清洗由于清洗工位在连续不间断工作，需要的用水量非常大，随之产生的废水量就会非常多，因此要降低废水处理成本，就必须在保证清洗效果的同时大大降低废液的产生量。
发明内容
本发明旨在提出一种针对连续式化学镀的清洗方法。
本发明的技术方案在于：
一种针对连续式化学镀的清洗方法，包括以下六级冲洗步骤：
一级冲洗：在镀制区内，水来自第三溢流区，初步去除工件表面残存的大量化学液，将绝大部分化学液隔离在镀制区内；
二级冲洗：在隔离工位内，水来自第三溢流区，二次去除膜正面残存的化学液，冲洗后的废水可选择流入废液回收槽或废水回收槽；
三级冲洗：水来自第三级溢流槽，由液下泵供应，并经过滤器过滤，对膜进行清洗，清洗后的水逐级溢流到二级溢流槽；
四级冲洗：水来自第二级溢流槽，由液下泵供应，并经过滤器过滤，对膜进行清洗，清洗后的水逐级溢流到一级溢流槽；
五级冲洗：水来自第一级溢流槽，由液下泵供应，并经过滤器过滤，对膜进行清洗，清洗后的水经过溢流排放口排掉；
六级冲洗：水来自DI水主水路，最终清洗。
优选地，所述的三级溢流槽内均舍友液位检测装置，当三级溢流槽内任意一个液位低时开启辅助补水功能。
或者优选地，所述的在第二级溢流槽内设有电阻率检测，用来检测溢流槽内的水质，当电阻率低于设定值时，也开启辅助补水功能，将溢流槽内的脏水替换掉。
本发明的技术效果在于：
本发明采用溢流清洗的思想设计了适用于连续式化学镀的“三级溢流、六级清洗工位”，对清洗水循环利用、逐级利用。三级溢流、六级清洗工位中每级之间都有风刀或辊子隔开，防止交叉污染。本发明操作简单，有效地减少了用水量。
具体实施方式
一种针对连续式化学镀的清洗方法，包括以下六级冲洗步骤：
一级冲洗：在镀制区内，水来自第三溢流区，初步去除工件表面残存的大量化学液，将绝大部分化学液隔离在镀制区内；
二级冲洗：在隔离工位内，水来自第三溢流区，二次去除膜正面残存的化学液，冲洗后的废水可选择流入废液回收槽或废水回收槽；
三级冲洗：水来自第三级溢流槽，由液下泵供应，并经过滤器过滤，对膜进行清洗，清洗后的水逐级溢流到二级溢流槽；
四级冲洗：水来自第二级溢流槽，由液下泵供应，并经过滤器过滤，对膜进行清洗，清洗后的水逐级溢流到一级溢流槽；
五级冲洗：水来自第一级溢流槽，由液下泵供应，并经过滤器过滤，对膜进行清洗，清洗后的水经过溢流排放口排掉；
六级冲洗：水来自DI水主水路，最终清洗。
其中，三级溢流槽内均舍友液位检测装置，当三级溢流槽内任意一个液位低时开启辅助补水功能。
第二级溢流槽内设有电阻率检测，用来检测溢流槽内的水质，当电阻率低于设定值时，也开启辅助补水功能，将溢流槽内的脏水替换掉。
三级溢流、六级清洗工位中每级之间都有风刀或辊子隔开，防止交叉污染。
Claims (3)
1.一种针对连续式化学镀的清洗方法，其特征在于：包括以下六级冲洗步骤：
一级冲洗：在镀制区内，水来自第三溢流区，初步去除工件表面残存的大量化学液，将绝大部分化学液隔离在镀制区内；
二级冲洗：在隔离工位内，水来自第三溢流区，二次去除膜正面残存的化学液，冲洗后的废水可选择流入废液回收槽或废水回收槽；
三级冲洗：水来自第三级溢流槽，由液下泵供应，并经过滤器过滤，对膜进行清洗，清洗后的水逐级溢流到二级溢流槽；
四级冲洗：水来自第二级溢流槽，由液下泵供应，并经过滤器过滤，对膜进行清洗，清洗后的水逐级溢流到一级溢流槽；
五级冲洗：水来自第一级溢流槽，由液下泵供应，并经过滤器过滤，对膜进行清洗，清洗后的水经过溢流排放口排掉；
六级冲洗：水来自DI水主水路，最终清洗。
2.如权利要求1一种针对连续式化学镀的清洗方法，其特征在于：所述的三级溢流槽内均舍友液位检测装置，当三级溢流槽内任意一个液位低时开启辅助补水功能。
3.如权利要求1一种针对连续式化学镀的清洗方法，其特征在于：所述的在第二级溢流槽内设有电阻率检测，用来检测溢流槽内的水质，当电阻率低于设定值时，也开启辅助补水功能，将溢流槽内的脏水替换掉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201410600332.3A CN105624651A (zh) | 2014-10-31 | 2014-10-31 | 一种针对连续式化学镀的清洗方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201410600332.3A CN105624651A (zh) | 2014-10-31 | 2014-10-31 | 一种针对连续式化学镀的清洗方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN105624651A true CN105624651A (zh) | 2016-06-01 |
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ID=56039987
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN201410600332.3A Pending CN105624651A (zh) | 2014-10-31 | 2014-10-31 | 一种针对连续式化学镀的清洗方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN105624651A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108831848A (zh) * | 2018-06-25 | 2018-11-16 | 扬州思普尔科技有限公司 | 一种半导体晶圆清洗干燥设备 |
-
2014
- 2014-10-31 CN CN201410600332.3A patent/CN105624651A/zh active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108831848A (zh) * | 2018-06-25 | 2018-11-16 | 扬州思普尔科技有限公司 | 一种半导体晶圆清洗干燥设备 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20160601 |