CN105609399A - 等离子体处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种等离子体处理装置，包括：室，其具备供等离子体生成的空间，在上端壁部的下端固定有卡盘；第1夹具组件，其安装于所述室的上端壁部，配备有供基板托盘安放的第1夹具，配备得能够在室的内部沿上下方向升降，从而当上升运转时，使得基板托盘接触卡盘并固定；及第2夹具组件，其安装于所述室的上端壁部，配备得能够在室的内部沿上下方向升降，当包围所述第1夹具与基板托盘地形成的第2夹具上升运转时，使得基板托盘与第1夹具一同贴紧卡盘。

Description

等离子体处理装置

技术领域

本发明用于在等离子体处理装置内部坚固地固定基板托盘，特别涉及一种等离子体处理装置，能够应用于在室的下部形成有等离子体的方式的等离子体处理装置，把基板托盘固定于室内。

背景技术

一般而言，在用于半导体的晶片及要求精密的薄膜加工工序中，使用利用了等离子体的蚀刻和沉积法，提高制品的精密度。

如此产生等离子体的等离子体处理装置，由形成外形的室和安装于室的外侧的天线及使晶片放置于室内部的卡盘构成。

由此，所述的天线供应高频，借助于高频而在室内部形成有等离子体，对放置于卡盘的晶片进行加工。

以往的等离子体处理装置在室上部形成等离子体，在下部固定托盘，利用等离子体蚀刻安放于托盘的晶片(基板)。这存在的问题是，在室上部发生的工序副产物借助于重力而落于基板，因此，工序副产物对基板的工序造成影响，蚀刻作业无法顺利进行，因而发生不良。

为了解决这种问题，提出了在室的上部固定托盘、在下部形成等离子体的方案。由此，消除了因工序副产物落于基板而发生不良的问题，但基板与以往朝向上面的情形相反，而是朝向下面，在把托盘坚固地固定于室的上部方面发生问题。

以往的日本专利公开公报2004-285469A提出“载置架处理装置及方法”。但是，在这种现有文献中，只公开了在平行平板式电极之间接入高频电力并产生等离子体，借助于该等离子体而使工程气体激活，在较低温度下进行既定的成膜处理或蚀刻处理，并未针对在室内部坚固地固定基板托盘的手段进行公开。

作为所述背景技术而说明的事项，只是为了增进对本发明的背景的理解，不得视为承认属于该所属技术领域的技术人员已知的以往技术。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利公开公报JP2004-285469A

发明内容

本发明正是为了解决这种问题而研发的，其目的在于提供一种等离子体处理装置，针对在室的下部形成有等离子体的方式的等离子体处理装置，在室内部坚固地固定基板托盘，使得基板托盘的周边工序环境均一，在蚀刻作业时使出错实现最少化。

旨在达成所述目的的本发明的等离子体处理装置包括：室，其具备供等离子体生成的空间，在上端壁部的下端固定有卡盘；第1夹具组件，其安装于所述室的上端壁部，配备有供基板托盘安放的第1夹具，配备得能够在室的内部沿上下方向升降，从而当上升运转时，使得基板托盘接触卡盘并固定；及第2夹具组件，其安装于所述室的上端壁部，配备得能够在室的内部沿上下方向升降，当包围所述第1夹具与基板托盘地形成的第2夹具上升运转时，使得基板托盘与第1夹具一同贴紧卡盘。

本发明的另一特征在于，所述室在上端壁部固定有卡盘，工程气体从下端壁部向上方供应，侧端壁部的上侧，天线配备于下侧。

本发明的另一特征在于，所述第1夹具组件包括：第1长度调节部，其固定安装于所述室的上端壁部上端，长度沿上下方向可变；第1运转部，其位于所述第1长度调节部的上侧，连接有第1长度调节部，借助于第1长度调节部而上下移动；第1支撑部，其从所述第1运转部向下方延长，贯通室的上端壁部，在延长的末端，具备在室的内部供基板托盘安放的第1夹具。

其特征在于，所述第1长度调节部包括：缸，其固定于室上端壁部；活塞杆，其配备得在缸中沿上下方向升降，且连接有第1运转部。

本发明的另一特征在于，所述第1运转部与室的上端壁部水平地配置，在中心连接有所述第1长度调节部，从中心呈辐射状延长形成有构成相同长度和等角的至少两个以上的第1连接臂，并连接有第1支撑部。

本发明的另一特征在于，所述第1运转部的第1连接臂能够弹性弯曲地形成。

本发明的另一特征在于，所述第1运转部从中心呈辐射状延长形成有三个第1连接臂。

本发明的另一特征在于，所述第1支撑部的一端连接于第1运转部的第1连接臂，另一端向下方延长而其末端位于比室内部的卡盘更下侧，在另一端配备有朝向室的中央以凸缘形态延长的第1夹具。

本发明的另一特征在于，连接于所述多个第1连接臂的各个第1支撑部，连接于以环形态形成的连接环的外周。

本发明的另一特征在于，所述连接环在第1支撑部的延长的末端连接于比第1夹具更上侧。

本发明的另一特征在于，在所述室中形成有引导支撑部，所述引导支撑部固定安装于上端壁部的上端，向上方延长，连接有第1夹具组件与第2夹具组件，从而使得第1夹具组件和第2夹具组件向相同方向升降，在延长的末端配备有固定面板。

所述第2夹具组件包括：第2长度调节部，其固定安装于固定面板的下端，长度沿上下方向可变；第2运转部，其位于所述第2长度调节部的下侧，连接有第2长度调节部，借助于第2长度调节部而向上下移动；第2支撑部，其从所述第2运转部向下方延长，贯通室的上端壁部，在延长的末端，具备在室的内部一同包围第1夹具与基板托盘的第2夹具。

本发明的另一特征在于，所述第2长度调节部包括：缸，其固定于第2运转部；活塞杆，其配备得在缸中沿上下方向升降，连接于固定面板。

本发明的另一特征在于，所述第2运转部与室的上端壁部水平地配置，在中心连接有所述第2长度调节部，从中心呈辐射状延长形成有构成相同长度和等角的至少两个以上的第2连接臂，连接有第2支撑部。

本发明的另一特征在于，所述第2运转部的第2连接臂能够弹性弯曲地形成。

本发明的另一特征在于，所述第2支撑部一端连接于第2运转部的第2连接臂，另一端向下方延长，其末端位于比第1夹具更下侧，在另一端配备有以环形态形成并包围第1夹具与基板托盘的第2夹具。

本发明的另一特征在于，所述第2夹具以环形态形成，在外周形成有供第1夹具容纳的插入槽和供基板托盘安放的支撑槽。

本发明的另一特征在于，在所述引导支撑部的固定面板上，形成有向下方延长并位于第1运转部上侧的停止部，从而使得第1运转部在向上方过度移动时接触停止部并限制移动。

本发明的另一特征在于，还配备有盒模块，所述盒模块具备在底面两侧对称的板，并具备：在两板上沿上下方向构成多段，且朝向相互相向的方向凸出的支撑架；放置架，其安放于所述支撑架，在中央部，以比基板托盘外周更小的外周形成有移送槽，前方以与移送槽相接的方式开放，沿着移送槽的外周形成有供基板托盘安放的安放槽；移送组件，其将安放于所述放置架的基板托盘移送到所述室内而安放于第1夹具组件。

本发明的另一特征在于，所述盒模块设有安装于支撑架的传感器部，所述传感器部判断安放于支撑架的基板托盘的有无。

本发明的另一特征在于，所述移送组件以平面形成，以便与基板托盘的下面接触，在外周配备有防止基板托盘滑动的橡胶垫，在中央形成有用于分散负载的分散孔。

另一方面，旨在达成所述目的的本发明的晶片固定装置包括：其特征在于，包括：第1夹具组件，其配备有供基板托盘安放的第1夹具，配备得能够在室的内部沿上下方向升降，从而当运转时，使得基板托盘接触室内的卡盘并固定；及第2夹具组件，其与所述第1夹具组件独立地配备，使得能够在室的内部沿上下方向升降，具备包围所述第1夹具和基板托盘地形成的第2夹具，运转时，使得基板托盘与第1夹具一同贴紧室内的卡盘。

发明效果

由如上所述结构构成的等离子体处理装置，针对在室的下部形成等离子体的方式的等离子体处理装置，在室内部坚固地固定基板托盘，使得基板托盘的周边工序环境均一，在蚀刻作业时使出错实现最少化。

另外，提供作为用于向室内部移送基板托盘的手段的盒，使得容易把装载于盒的基板托盘移送到室内，增大作业效率。

附图说明

图1是显示本发明一实施例的等离子体处理装置的图。

图2至3是显示图1所示等离子体处理装置的运转状态的图。

图4是显示图1所示等离子体处理装置的第1夹具组件的立体图。

图5是显示图1所示等离子体处理装置的第2夹具组件的立体图。

图6是显示本发明一实施例的等离子体处理装置的盒的立体图。

图7至8是用于说明图6所示等离子体处理装置的盒的图。

图9至14是用于说明本发明一实施例的等离子体处理装置的基板托盘的移送及固定作业的图。

符号说明

100－室，120－上端壁部，122－卡盘，140－侧端壁部，142－天线，160－下端壁部，180－引导支撑部，182－固定面板，184－停止部，200－第1夹具组件，220－第1长度调节部，222－缸，224－活塞杆，240－第1运转部，242－第1连接臂，260－第1支撑部，262－第1夹具，264－连接环，300－第2夹具组件，320－第2长度调节部，322－缸，324－活塞杆，340－第2运转部，342－第2连接臂，360－第2支撑部，362－第2夹具，364－插入槽，366－支撑槽，400－盒模块，420－板，422－支撑架，440－放置架，442－移送槽，460－移送组件，462－橡胶垫，464－分散孔，W－基板托盘，a－等离子体生成空间。

具体实施方式

下面参照附图，对本发明优选实施例的等离子体处理装置进行考查。

图1是显示本发明一实施例的等离子体处理装置的图，图2至3是显示图1所示等离子体处理装置的运转状态的图，图4是显示图1所示等离子体处理装置的第1夹具组件的立体图，图5是显示图1所示等离子体处理装置的第2夹具组件的立体图。

另一方面，图6是显示本发明一实施例的等离子体处理装置的盒的立体图，图7至8是用于说明图6所示等离子体处理装置的盒的图。

图9至14是用于说明本发明一实施例的等离子体处理装置的基板托盘的移送及固定作业的图。

如图1所示，本发明的等离子体处理装置包括：室100，其具备供等离子体生成的空间a，在上端壁部120的下端固定有卡盘122；第1夹具组件200，其安装于所述室100的上端壁部120，配备有供基板托盘W安放的第1夹具262，配备得能够在室100的内部沿上下方向升降，从而当上升运转时，使得基板托盘W接触卡盘并固定；及第2夹具组件300，其安装于所述室100的上端壁部120，配备有包围所述第1夹具262和基板托盘W地形成的第2夹具362，配备得能够在室100的内部沿上下方向升降，从而使得在上升运转时，基板托盘W与第1夹具200一同贴紧卡盘122。

在上端壁部120固定安装有卡盘122，基板托盘W固定于上部，工程气体从下端壁部160供应，使得在室100内的下部形成等离子体，在应用这种方式的等离子体处理装置中，本发明在上部固定有基板托盘W，在下部形成等离子体，因而具有使工序副产物的影响实现最小化的优点，同时，在室100内部坚固地固定基板托盘W，使得基板托盘W的周边工序环境均一，防止蚀刻过程中出错。

所述室100可以在上端壁部120固定有卡盘122，工程气体从下端壁部160向上方供应，侧端壁部140的上侧连接有真空泵(图中未示出)，下侧连接有天线142。

参照图1，本发明的室100在上端壁部120固定有卡盘122，工程气体从下端壁部160向上方供应，引入室100内部的工程气体借助配备于侧端壁部140下侧的天线142所供应的高频而解离，使得执行基板托盘W的蚀刻。特别是在本发明中，在室100的侧端壁部140，上侧连接有真空泵(图中未示出)，从而能够防止当真空泵(图中未示出)连接于室100的下部时，工程气体的分离的物质接近位于室100下部的真空泵(图中未示出)形成，因而，应传递到基板托盘W侧的工程气体的分离的物质被吸入真空泵(图中未示出)，向基板托盘W侧传递的物质的量减少的问题。由此，可以充分形成基板托盘W的初始目标的形状，错误减少，品质提高。

另一方面，在本发明中，在室100的上端壁部120，安装有能够沿上下方向升降的第1夹具组件200，在第1夹具组件200中，配备有在室100内供基板托盘W安放的第1夹具262。这种第1夹具组件200使得在上升运转时，安放于第1夹具262的基板托盘W接触卡盘122，位置被固定。

而且，在室100的上端壁部120，独立于第1夹具组件200，安装有能够沿上下方向升降的第2夹具组件300。在这种第2夹具组件300中，配置有在室100内一同包围第1夹具262与基板托盘W地形成的第2夹具362，当上升运转时，基板托盘W与第1夹具262一同贴紧卡盘122。

本发明如图1至3依次所示，通过第1夹具组件200，基板托盘W一次固定于卡盘122，借助于第2夹具组件300，二次加压，从而基板托盘W可以完全固定，使得不在卡盘122中发生晃动。

如果针对在所述的室100内固定基板托盘W的本发明的夹具组件进行具体说明，那么，第1夹具组件200可以包括：第1长度调节部220，其固定安装于所述室100的上端壁部120上端，长度沿上下方向可变；第1运转部240，其位于所述第1长度调节部220的上侧，连接有第1长度调节部220，借助于第1长度调节部220而上下移动；第1支撑部260，其从所述第1运转部240向下方延长，贯通室100的上端壁部120，在延长的末端，配备在室100的内部供基板托盘W安放的第1夹具262。

即，如图4所示，第1夹具组件200配备有第1运转部240，所述第1运转部240连接于配备得长度沿上下可变的第1长度调节部220并向上下移动，第1长度调节部220运转时，随着第1运转部240向上下移动，连接于其的第1支撑部260向上下移动。其中，在第1支撑部260，配备有在室100内部供基板托盘W安放的第1夹具262，从而当第1支撑部260上升运转时，第1夹具262朝向室100内的卡盘122向上方移动，使得接触卡盘122。因此，安放于第1夹具262的基板托盘W在室100的上部，位置固定于卡盘122与第1夹具262之间。

详细而言，所述第1长度调节部220可以包括：缸222，其固定于室100上端壁部120；活塞杆224，其配备得在缸222中沿上下方向升降，供第1运转部240连接。如图1所示，第1长度调节部220的缸222固定安装于室100，在缸222中沿上下方向移动的活塞杆224连接于第1运转部240，从而，如果缸222的活塞杆224上升，则连接于其的第1运转部240一同上升。其中，缸222与活塞杆224可以构成得利用压缩空气进行升降运转，可以应用使得活塞杆224在缸222中移动的各种手段。

另一方面，所述第1运转部240可以与室100的上端壁部120水平地配置，在中心连接有所述第1长度调节部220，从中心呈辐射状延长形成有构成相同长度和等角的至少两个以上的第1连接臂242，并连接有第1支撑部260。

当然，第1运转部240作为借助于第1长度调节部220而沿上下方向移动的结构，可以以单纯的圆形形态应用。但是，第1运转部240在中心连接有第1长度调节部220，从而使得随着第1长度调节部220的升降运转而进行作用的负载不偏向一侧，第1连接臂242从中心呈辐射状构成等角并延长，从而与单纯以圆形形态形成的情形相比，能够减少重量。

而且，第1运转部240从中心延长的第1连接臂242以相同长度和相同角度形成，从而使得当第1运转部240上下移动时，向各个第1连接臂242分配相同的负载。

特别是所述第1运转部240的第1连接臂242能弹性弯曲地形成，从而使得当负载作用于第1连接臂242时不易破损。即，随着第1长度调节部220进行上升运转，第1运转部240和连接于其的第1支撑部260上升，从而安放在第1夹具262的基板托盘W接触卡盘122，为了使基板托盘W坚固地接触卡盘122，第1长度调节部220的上升力强烈地进行作用。

此时，就第1运转部240而言，上升力在第1长度调节部220所连接的中心进行作用，随着第1支撑部260的第1夹具262挂接于卡盘122，包括第1连接臂242的第1运转部240弹性弯曲，从而防止第1连接臂242的端部破损，与第1长度调节部220的上升力一起，第1运转部240弹性弯曲，从而能够使得安放于第1夹具262的基板托盘W坚固地固定于卡盘122。

所述的第1运转部240可以从中心呈辐射状延长形成有三个第1连接臂242。当然，就从第1运转部240延长的第1连接臂242而言，如果增加其个数，则具有第1运转部240的整体刚性增加的优点。但是，在本发明中，基板托盘W通过第1夹具组件200的侧面进入并安放，根据第1连接臂242的个数的增加，第1连接臂242间的间隔减小，难以确保供基板托盘W进入的空间。因此，优选从第1运转部240延长的第1连接臂242构成等间隔，形成三个左右，从而在确保供基板托盘W进入的空间的同时，使得确保第1运转部240适当水平的刚性。

这种第1连接臂242的个数可以考虑基板托盘W的进入空间及整体刚性而设置为适当个数。

另一方面，所述第1支撑部260一端连接于第1运转部240的第1连接臂242，另一端向下方延长，其末端位于比室100内部的卡盘122更下侧，在另一端可以配备有朝向室100的中央以凸缘形态延长的第1夹具262。

如上所述，第1支撑部260一端连接于第1连接臂242，在第1长度调节部220运转时，与第1连接臂242一同上下移动，另一端向下方延长，位于室100内。特别是在第1支撑部260的另一端，配备有朝向室100的中央以凸缘形态延长的第1夹具262，基板托盘W可以安放于室100内部。

在本发明中，第1夹具组件200用于一次固定基板托盘W，配备于第1支撑部260的第1夹具262以凸缘形态形成，以便基板托盘W安放于上端。更优选地，第1夹具262以凸缘形态延长，在延长的部分形成凸台，从而可以使得安放的基板托盘W不会游动、脱离。此时，在基板托盘W上，可以也形成对应于第1夹具262的凸台的凸台。

另外，第1夹具262的延长长度可以设置成支撑基板托盘W外周的程度，当向上方移动时挂接于卡盘122，从而基板托盘W接触卡盘122，使得位置固定。

另一方面，连接于所述多个第1连接臂242的各个第1支撑部260可以连接于以环形态形成的连接环264的外周。

如图4所示，在本发明中，在第1运转部240延长有多个第1连接臂242，在这种多个第1连接臂242上，分别连接有第1支撑部260。而且，第1支撑部260从第1连接臂242向下方延长，当第1运转部240上下移动时，因运转冲击，各自会发生晃动。

因此，使得从第1连接臂242延长的各个第1支撑部260通过以环形态形成的连接环264而全部连接，从而可以使第1支撑部260的晃动减小，使得安放在第1夹具262的基板托盘W被稳定地支撑。另外，第1支撑部260一端连接于第1连接臂242，另一端通过连接环264连接，从而在结构上也可以实现稳定化。这种连接环264根据卡盘122的形态，不仅是圆形，也可以以四边环状加以应用。

其中，优选所述连接环264在第1支撑部260的延长的末端，连接于比第1夹具262更上侧。如此使得连接环264连接于比第1夹具262更上侧，从而能够使得从侧方进入的基板托盘W移到到连接环264与第1夹具262之间的空间。由此，可以使第1支撑部260的结构稳定化，使得基板托盘W的进入顺利执行。

另一方面，在所述室100中可以形成有引导支撑部180，其固定安装于上端壁部120的上端，向上方延长，连接有第1夹具组件200与第2夹具组件300，从而使得第1夹具组件200与第2夹具组件300沿相同方向升降，在延长的末端配备有固定面板182。

这种引导支撑部180固定安装于室100的上端壁部120，以棒形态向上方延长。这种引导支撑部180可以形成多个。特别是在引导支撑部180，连接有第1夹具组件200和第2夹具组件300，第1夹具组件200和第2夹具组件300随着引导支撑部180而被引导得沿上下方向移动，从而可以使得第1夹具组件200与第2夹具组件300向相同方向执行稳定的升降运转。

其中，所述第1夹具组件200和第2夹具组件300在室100的上端壁部120上下地配置，可以构成得在所述的引导支撑部180，贯通连接有第1夹具组件200的第1运转部240，贯通连接有下面将说明的第2夹具组件300的第2运转部340。

而且，在引导支撑部180的延长的末端，可以连接有固定面板182。就固定面板182而言，作为供下面将说明的第2夹具组件300安装的部分，可以以平面形成，当引导支撑部180形成多个时，连接各引导支撑部180，使得在结构上实现稳定化。

如果对第2夹具组件300进行具体说明，所述第2夹具组件300可以包括：第2长度调节部320，其固定安装于固定面板182的下端，长度沿上下方向可变；第2运转部340，其位于所述第2长度调节部320的下侧，供第2长度调节部320连接，借助于第2长度调节部320而向上下移动；第2支撑部360，其从所述第2运转部340向下方延长，贯通室100的上端壁部120，在延长的末端，具备在室100的内部一同包围第1夹具262和基板托盘W的第2夹具362。

即，如图5所示，第2夹具组件300配备有第2运转部340，所述第2运转部340连接于配备得长度沿上下可变的第2长度调节部320，向上下进行移动，在第2长度调节部320运转时，随着第2运转部340向上下移动，连接于其的第2支撑部360向上下移动。其中，在第2支撑部360，具备在室100内部供基板托盘W安放的第2夹具362，从而使得当第2支撑部360上升运转时，第2夹具362朝向室100内的卡盘122向上方移动，接触卡盘122。特别是配备于第2支撑部360的第2夹具362，一同包围第1夹具262与基板托盘W地形成，从而使第1夹具262和安放于第1夹具262的基板托盘W在室100的上部贴紧卡盘122。如上所述，第1夹具组件200与第2夹具组件300一同使得基板托盘W接触卡盘122，位置被固定，从而能够使得更坚固安全地固定基板托盘W的位置。

详细而言，所述第2长度调节部320可以包括：缸322，其固定于第2运转部340；活塞杆324，其配备得在缸322中沿上下方向升降，连接于固定面板182。

如图1所示，第2长度调节部320的缸322固定安装于第2运转部340，在缸322中沿上下方向移动的活塞杆324连接于固定面板182，从而，如果缸322的活塞杆324进行下降运转，则使得缸322上升，第2运转部340上升。

所述的缸322与活塞杆324的连接，可以互换并安装于固定面板182或第2运转部340，缸322与活塞杆324可以构成得利用压缩空气进行升降运转，可以应用使得在活塞杆324在缸322中移动的各种手段。

另一方面，所述第2运转部340可以与室100的上端壁部120水平地配置，在中心连接有所述第2长度调节部320，从中心呈辐射状延长形成有构成相同长度和等角的至少两个以上的第2连接臂342，连接有第2支撑部360。

如图5所示，第2运转部340使得在中心连接有第2长度调节部320，从而使得随着第2长度调节部320的升降运转而进行作用的负载不偏向一侧，第2连接臂342从中心呈辐射状构成等角延长，从而与单纯以圆形形态形成的情形相比，能够减小重量。

而且，第2运转部340从中心延长的第2连接臂342以相同长度和相同角度形成，从而使得当第2运转部340上下移动时，向各个第2连接臂342分配相同的负载。

其中，所述第2运转部340的第2连接臂342能弹性弯曲地形成。即，在第2运转部340的中心连接有第2长度调节部320，因而上升力进行作用，随着第2支撑部360的第2夹具362挂接于卡盘122，包括第2连接臂342的第2运转部340弹性弯曲，从而防止第2连接臂342的端部破损，与第2长度调节部320的上升力一起，第2运转部340弹性弯曲，从而能够使得被第2夹具362包围的基板托盘W坚固地固定于卡盘122。

所述的第2运转部340可以从中心呈辐射状延长有第2连接臂342，第2连接臂342的个数可以按与后述插入槽364个数相同的个数延长形成。

另一方面，所述第2支撑部360一端连接于第2运转部340的第2连接臂342，另一端向下方延长，其末端位于比第1夹具262更下侧，在另一端可以配备有以环形态形成并包围第1夹具262和基板托盘W的第2夹具362。

如上所述，第2支撑部360一端连接于第2连接臂342，在第2长度调节部320运转时，与第2连接臂342一同上下移动，另一端向下方延长，位于室100内。特别是在第2支撑部360的另一端，配备有以环形态形成并包围第2夹具362和基板托盘W的第2夹具362，从而能够使得第1夹具262和基板托盘W位置固定于卡盘122。

所述的第2夹具362以环形态形成，在外周可以形成有供第1夹具262容纳的插入槽364和供基板托盘W安放的支撑槽366。

在本发明中，第2夹具组件300用于对通过第1夹具组件200而一次固定的基板托盘W二次进行更坚固固定，配备于第2支撑部360的第2夹具362可以以环形态形成，以便包围基板托盘W外周。这种第2夹具362根据基板托盘W的形状，可以以圆形环形态或四边环形态形成，可以与基板托盘W的形状匹配，与其对应地形成。

另外，在第2夹具362上，可以形成有供第1夹具262容纳的插入槽364，按基板托盘W的外周形状形成有支撑槽366，形成有供基板托盘W安放的支撑槽366。由此，第2夹具362上升时，第1夹具262插入于插入槽364，基板托盘W插入支撑槽366并安放，从而，以第2夹具362包围第1夹具262，使得工序环境相同地进行作用，防止蚀刻工序中出错，即，防止当只以第1夹具262固定基板托盘W时，固定的部位与未固定的部位在蚀刻过程中因不同的工序环境进行作用而发生错误。

而且，在第2夹具362中，第1夹具262通过插入槽364插入，基板托盘W通过支撑槽366插入并安放，从而防止基板托盘W游动，基板托盘W坚固地接触卡盘122，位置被固定。

另一方面，在所述引导支撑部180的固定面板182上，形成有向下方延长并位于第1运转部240上侧的停止部184，从而使得第1运转部240在向上方过度移动时接触停止部184并限制移动。

如上所述，利用从固定面板182延长的停止部184，防止第1运转部240随着第1长度调节部220过度运转而过度移动，从而能够防止第1夹具262的破损。如上所述，第1夹具262以凸缘形态延长，当设置强度以上的力进行作用时会容易破损。因此，在固定面板182上，使停止部184向下方延长且位于第1运转部240的上侧，从而借助于第1长度调节部220而上升的第1运转部240挂接于停止部184，第1夹具262接触卡盘122后，使得不会因过度上升而破损。就第2夹具362而言，在包围基板托盘W和第1夹具262后接触卡盘122，上升运转被限制，不需要另外的停止手段。

另一方面，如图6至8所示，可以还配备有盒模块400，所述盒模块400具备在底面向两侧对称的板420，并具备：在两板420上沿上下方向构成多段，且朝向相互相向的方向凸出的支撑架422；放置架440，其安放于所述支撑架422，在中央部，以比基板托盘W外周更小的外周形成有移送槽442，前方以与移送槽442相接的方式开放，沿着移送槽442的外周，形成有供基板托盘W安放的安放槽444；移送组件460，其使安放于所述放置架440的基板托盘W移送到所述室100内，安放于第1夹具组件200。

所述的盒模块400用于在把基板托盘W移送到室100内之前，收纳及保管基板托盘W。

这种盒模块400在底面向两侧对称地配备有板420，从而前后方敞开，在两板420上，支撑架422沿上下方向构成多段地形成。

在这种支撑架422上配备有供基板托盘W安放的放置架440。在放置架440上，上侧供基板托盘W安放，在中央部，以小于基板托盘外周的外周形成有移送槽442，前方部开放，以便与移送槽442相接，从而使得下面将说明的移送组件460能够抬升安放于放置架440的基板托盘W。而且，在放置架440上形成有移送槽442，从而能够防止放置架440接触基板托盘W的电极而造成电极损伤。另外，在放置架440中，在供基板托盘W安放的部分形成凸台，能够使得防止基板托盘W的游动。

所述移送组件460是用于使放置架440上安放的基板托盘W移送到室100内的装置。最近，随着作业工序的机械化，借助于机器人执行晶片的移送。在本发明中，移送组件460作为用于把持基板托盘W的手段，可以加装于机器人。即，借助于机器人的运转，移送组件460可以把持所述放置架440上安放的基板托盘W，使移送到所述室100内，安放于第1夹具组件200。

另一方面，所述盒模块400可以在支撑架422上安装有传感器部480，所述传感器部480判断有无安放于支撑架422的基板托盘W。

当使基板托盘W向室100移送时，在盒模块400中，放置架440留下，只有基板托盘W移送到室100，因而在盒模块400中，需要用于确认基板托盘W是否存在而不是确认放置架440是否存在的手段。

因此，在盒模块400中，可以安装判断有无基板托盘W的传感器部480，使得在机器人自动化作业时，找到层叠于盒模块400的基板托盘W并准确地移送。

所述的传感器部480例如可以在支撑架422安装透光传感器，在放置架440上，在与透光传感器对应的位置形成孔，从而随着基板托盘W安放于放置架440，可以通过放置架440的孔，判断光线是否通过，判断基板托盘W的有无。

另一方面，如图8所示，所述移送组件460可以以平面形成，使得与基板托盘W的下面接触，在外周上配备有防止基板托盘W滑动的橡胶垫462，在中央形成有用于分散负载的分散孔464。

如上所述，移送组件460可以以平面形成，稳定地支撑基板托盘W，在与基板托盘W接触的端面形成有橡胶垫462，因而可以使得在移送组件460上安放的基板托盘W不滑动脱落。另外，在移送组件460的中央形成分散孔464，从而能够使得移送组件460可以充分支撑基板托盘W的重量。

所述的作为对基板托盘W进行固定的手段的晶片固定装置可以包括：第1夹具组件200，其配备有供基板托盘W安放的第1夹具262，配备得能够在室100的内部沿上下方向升降，从而当运转时，使得基板托盘W接触室100内的卡盘122并固定；及第2夹具组件300，其独立于所述第1夹具组件200配备，使得能够在室100的内部沿上下方向升降，配备有包围所述第1夹具262和基板托盘W地形成的第2夹具362，运转时，使得第1夹具262和基板托盘W一同贴紧室100内的卡盘122；从而使得基板托盘W在室100内坚固地固定。

下面参照附图，对本发明的动作进行说明。

如图9所示，在盒模块400的支撑架422上安放放置架440，在放置架440上安放基板托盘W，基板托盘W在移送到室100之前进行待机。

如图10所示，当使相应基板托盘W移送到室100时，移送组件460只抬升安放在放置架440的基板托盘W，执行向室100的移送。

如此移送的基板托盘W移送到图11至12所示的室100内的晶片固定装置，基板托盘W安放于第1夹具组件200的第1夹具262。

如果基板托盘W安放于第1夹具262，则如图13所示，随着第1夹具组件200的第1长度调节部220上升运转，第1运转部240上升移动，连接于其的第1支撑部260上升，从而第1夹具262上升。因此，安放于第1夹具262的基板托盘W朝向卡盘122移动并接触，从而位置被一次固定。

在该状态下，如图14所示，随着第2夹具组件300的第2长度调节部320上升运转，第2运转部340上升移动，连接于其的第2支撑部360上升，从而第2夹具362上升。由此，第2夹具362把第1夹具262和基板托盘W一同向上方推动加压，从而使得基板托盘W二次坚固地固定于卡盘122。

针对在室100的下部形成有等离子体的方式的等离子体处理装置，由如上所述结构构成的等离子体处理装置在室100内部坚固地固定基板托盘W，使得基板托盘W的周边工序环境均一，在蚀刻作业时使出错实现最少化。

另外，提供作为用于向室100内部移送基板托盘W的手段的盒，使得容易把装载于盒的基板托盘W移送到室100内，增大作业效率。

本发明就特定实施例进行了图示和说明，但在不超出借助于以下权利要求书而提供的本发明的技术思想的限度内，本发明可以多样地改良及变化，这是所属领域的技术人员不言而喻的。

Claims (21)

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

室，其具备供等离子体生成的空间，在上端壁部的下端固定有卡盘；

第1夹具组件，其安装于所述室的上端壁部，配备有供基板托盘安放的第1夹具，配备得能够在室的内部沿上下方向升降，从而当上升运转时，使得基板托盘接触卡盘并固定；及

第2夹具组件，其安装于所述室的上端壁部，配备得能够在室的内部沿上下方向升降，当包围所述第1夹具与基板托盘地形成的第2夹具上升运转时，使得基板托盘与第1夹具一同贴紧卡盘；

所述第1夹具组件包括：

第1长度调节部，其固定安装于所述室的上端壁部上端，长度沿上下方向可变；

第1运转部，其位于所述第1长度调节部的上侧，连接有第1长度调节部，借助于第1长度调节部而向上下移动；

第1支撑部，其从所述第1运转部向下方延长，贯通室的上端壁部，在延长的末端，具备在室的内部供基板托盘安放的第1夹具。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述室在上端壁部固定有卡盘，工程气体从下端壁部向上方供应，侧端壁部的上侧连接有真空泵，在下侧有配备有天线。

3.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第1长度调节部包括：缸，其固定于室上端壁部；活塞杆，其配备为在缸中沿上下方向升降，且连接有第1运转部。

4.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第1运转部与室的上端壁部水平地配置，在中心连接有所述第1长度调节部，从中心呈辐射状延长形成有构成相同长度和等角的至少两个以上的第1连接臂，并连接有第1支撑部。

5.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第1运转部的第1连接臂能够弹性弯曲地形成。

6.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第1运转部从中心呈辐射状延长形成有三个第1连接臂。

7.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第1支撑部的一端连接于第1运转部的第1连接臂，另一端向下方延长而其末端位于比室内部的卡盘更下侧，在另一端配备有朝向室的中央以凸缘形态延长的第1夹具。

8.根据权利要求4所述的等离子体处理装置，其特征在于，

连接于所述多个第1连接臂的各个第1支撑部，连接于以环形态形成的连接环的外周。

9.根据权利要求8所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述连接环在第1支撑部的延长的末端连接于比第1夹具更上侧。

10.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

在所述室中形成有引导支撑部，所述引导支撑部固定安装于上端壁部的上端，向上方延长，连接有第1夹具组件与第2夹具组件，从而使得第1夹具组件和第2夹具组件向相同方向升降，在延长的末端配备有固定面板。

11.根据权利要求10所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第2夹具组件包括：

第2长度调节部，其固定安装于所述固定面板的下端，长度沿上下方向可变；

第2运转部，其位于所述第2长度调节部的下侧，连接有第2长度调节部，借助于第2长度调节部而向上下移动；

第2支撑部，其从所述第2运转部向下方延长，贯通室的上端壁部，在延长的末端，具备在室的内部一同包围第1夹具与基板托盘的第2夹具。

12.根据权利要求11所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第2长度调节部包括：缸，其固定于第2运转部；活塞杆，其配备得在缸中沿上下方向升降，连接于固定面板。

13.根据权利要求11所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第2运转部与室的上端壁部水平地配置，在中心连接有所述第2长度调节部，从中心呈辐射状延长形成有构成相同长度和等角的至少两个以上的第2连接臂，连接有第2支撑部。

14.根据权利要求13所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第2运转部的第2连接臂能够弹性弯曲地形成。

15.根据权利要求13所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第2支撑部一端连接于第2运转部的第2连接臂，另一端向下方延长而其末端位于比第1夹具更下侧，在另一端配备有以环形态形成并包围第1夹具与基板托盘的第2夹具。

16.根据权利要求15所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述第2夹具以环形态形成，在外周形成有供第1夹具容纳的插入槽和供基板托盘安放的支撑槽。

17.根据权利要求10所述的等离子体处理装置，其特征在于，

在所述引导支撑部的固定面板上形成有向下方延长并位于第1运转部上侧的停止部，从而使得第1运转部在向上方过度移动时接触停止部并限制移动。

18.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

还配备有盒模块，所述盒模块具备在底面两侧对称的板，并具备：

在两板上沿上下方向构成多段，且朝向相互相向的方向凸出的支撑架；

放置架，其安放于所述支撑架，在中央部，以比基板托盘外周更小的外周形成有移送槽，前方以与移送槽相接的方式开放，沿着移送槽的外周形成有供基板托盘安放的安放槽；

移送组件，其将安放于所述放置架的基板托盘移送到所述室内而安放于第1夹具组件。

19.根据权利要求18所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述盒模块设有安装于支撑架的传感器部，所述传感器部判断安放于支撑架的基板托盘的有无。

20.根据权利要求18所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述移送组件以平面形成，以便与基板托盘的下面接触，在外周配备有防止基板托盘滑动的橡胶垫，在中央形成有用于分散负载的分散孔。

21.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

第1夹具组件，其配备有供基板托盘安放的第1夹具，配备得能够在室的内部沿上下方向升降，从而当运转时，使得基板托盘接触室内的卡盘并固定；及

第2夹具组件，其与所述第1夹具组件独立地配备，使得能够在室的内部沿上下方向升降，具备包围所述第1夹具和基板托盘地形成的第2夹具，运转时，使得基板托盘与第1夹具一同贴紧室内的卡盘；

所述第1夹具组件包括：

第1长度调节部，其固定安装于所述室的上端壁部上端，长度沿上下方向可变；

第1运转部，其位于所述第1长度调节部的上侧，连接有第1长度调节部，借助于第1长度调节部而向上下移动；

第1支撑部，其从所述第1运转部向下方延长，贯通室的上端壁部，在延长的末端，具备在室的内部供基板托盘安放的第1夹具。