CN105572960A - 显示基板、液晶面板、显示装置及显示基板的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示基板、液晶面板、显示装置及显示基板的制作方法。显示基板包括多个像素区，相邻的像素区之间具有沟槽，所述显示基板还包括：隔垫物层，所述隔垫物层包括填充于所述沟槽内的网状填充部，以及凸出于所述网状填充部的支撑部。网状填充部填充于相邻像素区之间的沟槽内，从而提升显示基板表面平坦性，有效改善显示装置的残影不良现象，提高显示装置的显示品质。支撑部用于支撑上、下基板，该支撑部与网状填充部一体连接，连接强度高；在摩擦取向工序中柱状支撑部不易脱落，不会污染取向液，因此显示装置的制造品质提高。

Description

显示基板、液晶面板、显示装置及显示基板的制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示基板、液晶面板、显示装置及显示基板的制作方法。
背景技术
在平板显示装置中，薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，简称TFT-LCD)具有体积小、功耗低、制造成本相对较低和无辐射等特点，在当前的平板显示器市场占据了主导地位。
TFT-LCD的液晶面板的主要结构包括：对盒设置的阵列基板和彩膜基板，以及填充于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层，此外，为保证液晶层厚度的均一性，彩膜基板在靠近液晶层的一侧还设置有隔垫物。
在不添加平坦层的情况下，彩膜基板的相邻像素区之间会有比较明显的沟槽，彩色滤光单元四周的角段差更加大了沟槽的深度，从而导致显示装置的显示画面出现残影不良，显示品质欠佳。另外，彩膜基板的隔垫物在后续摩擦工序中可能会脱落，不仅污染了取向液，也会影响液晶层厚度均一性，进而降低显示装置的图像显示品质。
发明内容
本发明实施例的目的是提供一种显示基板、液晶面板、显示装置及显示基板的制作方法，以改善显示装置的残影不良现象，提高隔垫物的连接强度，从而提高显示装置的显示品质。
本发明实施例提供了一种显示基板，包括多个像素区，相邻的像素区之间具有沟槽，所述显示基板还包括：隔垫物层，所述隔垫物层包括填充于所述沟槽内的网状填充部，以及凸出于所述网状填充部的支撑部。
在本发明实施例技术方案中，网状填充部填充于相邻像素区之间的沟槽内，从而使得显示基板表面平坦性较好，可以有效改善显示装置的残影不良现象，提高了显示装置的显示品质。支撑部能够起到与现有隔垫物相同的支撑作用，并且由于其与网状填充部一体连接，连接强度较高，因此在后续的摩擦工序中支撑部不易脱落，不会污染到取向液，这些为显示装置的制造品质提供了保障。
优选的，所述显示基板为彩膜基板，包括衬底基板以及在衬底基板之上依次设置的黑矩阵、彩色滤光膜层和所述隔垫物层，其中，所述黑矩阵包括与像素区位置相对的透光部，所述彩色滤光膜层包括对应每个透光部设置的彩色滤光单元，相邻彩色滤光单元之间形成所述沟槽。
具体的，所述显示基板还包括位于彩色滤光膜层和所述隔垫物层之间的透明电极层。
本发明实施例还提供了一种液晶面板，包括前述任一技术方案所述的显示基板。该液晶面板应用于显示装置，相比现有技术，显示画面的残影不良现象得以改善，显示品质较高，此外，液晶面板中液晶层的厚度均一性较好，也进一步保障了显示品质。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括前述技术方案所述的液晶面板，相比现有技术，显示画面的残影不良现象得以改善，显示品质较高。
本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法，包括：
通过构图工艺形成隔垫物层，所述隔垫物层包括填充于相邻像素区之间的沟槽内的网状填充部，以及凸出于所述网状填充部的支撑部。
采用本发明实施例方法制作的显示基板，网状填充部填充于相邻像素区之间的沟槽内，从而使得显示基板表面平坦性较好，可以有效改善显示装置的残影不良现象，提高了显示装置的显示品质。支撑部能够起到与现有隔垫物相同的支撑作用，并且由于其与网状填充部一体连接，连接强度较高，因此在后续的摩擦工序中支撑部不易脱落，不会污染到取向液，这些为显示装置的制造品质提供了保障。
所述显示基板为彩膜基板，所述制作方法具体包括：
通过构图工艺在所述衬底基板之上形成黑矩阵，所述黑矩阵包括与预形成像素区位置相对的透光部；
通过构图工艺在所述黑矩阵之上形成彩色滤光膜层，所述彩色滤光膜层包括对应每个透光部设置的彩色滤光单元，相邻彩色滤光单元之间具有沟槽；
在所述彩色滤光膜层之上形成透明电极层；
通过构图工艺在所述透明电极层之上形成隔垫物层，所述隔垫物层包括填充于相邻彩色滤光单元之间的沟槽内的网状填充部，以及凸出于所述网状填充部的支撑部。
优选的，所述通过构图工艺形成隔垫物层，包括：通过单狭缝掩模构图工艺形成隔垫物层，所述单狭缝掩模构图工艺中使用的掩模板在对应所述沟槽的区域具有透光狭缝，在对应所述支撑部的区域具有透光部。
采用单狭缝掩模构图工艺，可以使形成的网状填充部具有精细化的线宽尺寸，从而进一步提升显示基板的制造品质。
较佳的，所述透光狭缝的宽度为1～3μm。
可选的，所述通过构图工艺形成隔垫物层，包括：通过半色调掩模构图工艺形成隔垫物层，所述半色调掩模构图工艺中使用的掩模板在对应所述沟槽的区域具有半透光部，在对应所述支撑部的区域具有全透光部。
附图说明
图1为本发明一实施例显示基板的局部俯视图；
图2为图1的A-A向截面视图；
图3为图1的C-C向截面视图；
图4为本发明一实施例显示基板的制作方法流程示意图。
附图标记：
10-像素区
12-隔垫物层
121-网络填充部
122-支撑部
13-衬底基板
14-黑矩阵
15-彩色滤光膜层
151-彩色滤光单元
16-透明电极层
具体实施方式
为改善显示装置的残影不良现象，提高隔垫物的连接强度，以提高显示装置的显示品质，本发明实施例提供了一种显示基板、液晶面板、显示装置及显示基板的制作方法。为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，以下举实施例对本发明作进一步详细说明。
如图1至图3所示，本发明一实施例提供的显示基板，包括多个像素区10，相邻的像素区10之间具有沟槽，显示基板还包括：隔垫物层12，隔垫物层12包括填充于沟槽内的网状填充部121，以及凸出于网状填充部121的支撑部122。
该实施例显示基板的结构中无需设置平坦层。采用该实施例结构，网状填充部121填充于相邻像素区10之间的沟槽内，从而使得显示基板表面平坦性较好，可以有效改善显示装置的残影不良现象，提高了显示装置的显示品质。此外，支撑部122能够起到与现有隔垫物相同的支撑作用，并且由于其与网状填充部121一体连接，连接强度较高，因此在后续的摩擦工序中支撑部122不易脱落，不会污染到取向液，这些为显示装置的制造品质提供了保障。
显示基板的具体类型不限，例如可以为扭曲向列(TwistedNematic，简称TN)模式彩膜基板，或者未设置平坦层的垂直取向(verticalalignment，简称VA)模式彩膜基板等等。
如图2和图3所示，该显示基板具体为TN模式彩膜基板，包括衬底基板13以及在衬底基板13之上依次设置的黑矩阵14、彩色滤光膜层15、透明电极层16和隔垫物层12，其中，黑矩阵14包括与像素区10位置相对的透光部，彩色滤光膜层15包括对应每个透光部设置的彩色滤光单元151，相邻彩色滤光单元151之间形成沟槽。对于其它模式的彩膜基板，隔垫物层12也可以直接形成在彩色滤光膜层15之上，而不需要设置透明电极层16。此外，值得一提的是，隔垫物层12的支撑部122可以位于行向的相邻像素区10之间，也可以位于列向的相邻像素区10之间。
另，该支撑部于网状填充部上呈连续的支撑连接挡墙，以实现更好的基板支撑；且该支撑部可设置于显示基板的周边非显示区域，使得在形成显示基板的上下基板对盒工艺时，放置液晶于基板上快速扩散而被封框胶污染。
本发明实施例还提供了一种液晶面板，包括前述实施例的显示基板。该液晶面板应用于显示装置，相比现有技术，显示画面的残影不良现象得以改善，显示品质较高，此外，液晶面板中液晶层的厚度均一性较好，也进一步保障了显示品质。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括前述技术方案的液晶面板，相比现有技术，显示画面的残影不良现象得以改善，显示品质较高。显示装置的具体类型不限，例如可以为液晶显示器、液晶电视、平板电脑、手机等等。
本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法，该方法包括以下步骤：
通过构图工艺形成隔垫物层，隔垫物层包括填充于相邻像素区之间的沟槽内的网状填充部，以及凸出于网状填充部的支撑部。
具体的，如图4所示，显示基板为彩膜基板时，制作方法具体包括以下步骤：
步骤101、通过构图工艺在衬底基板之上形成黑矩阵，黑矩阵包括与预形成像素区位置相对的透光部。该步骤需要使用到一张与黑矩阵图案相匹配的掩模板。
步骤102、通过构图工艺在黑矩阵之上形成彩色滤光膜层，彩色滤光膜层包括对应每个透光部设置的彩色滤光单元，相邻彩色滤光单元之间具有沟槽。
具体的，当基板的彩色滤光单元的颜色包含红色、绿色和蓝色时，可以首先使用与基板红色滤光单元图案相匹配的掩模板在基板上形成各个红色滤光单元的图案，然后使用与基板绿色滤光单元图案相匹配的掩模板在基板上形成各个绿色滤光单元的图案，之后再使用与基板蓝色滤光单元图案相匹配的掩模板在基板上形成各个蓝色滤光单元的图案。上述形成彩色滤光单元的步骤顺序也可以互换。
步骤103、在彩色滤光膜层之上形成透明电极层。透明电极层具体可以采用溅射工艺形成。
步骤104、通过构图工艺在透明电极层之上形成隔垫物层，隔垫物层包括填充于相邻彩色滤光单元之间的沟槽内的网状填充部，以及凸出于网状填充部的支撑部。
优选的，步骤104采用以下方式实施：通过单狭缝掩模构图工艺形成隔垫物层，单狭缝掩模构图工艺中使用的掩模板在对应沟槽的区域具有透光狭缝，在对应支撑部的区域具有透光部。
较佳的，透光狭缝的宽度为1～3μm。单狭缝掩模构图工艺中使用的掩模板在对应沟槽的区域具有透光狭缝，在对应支撑部的区域具有透光部，在对基板进行曝光处理时，通过光的狭缝衍射使基板预形成网状填充部的区域曝光，显影后形成网状填充部的图案。掩模板透光部的形状与支撑部的形状相匹配，可以为圆形、方形等。采用单狭缝掩模构图工艺，可以使形成的网状填充部具有精细化的线宽尺寸，从而进一步提升显示基板的制造品质。
作为可选方案，步骤104也可以采用以下方式实施：通过构图工艺形成隔垫物层，包括：通过半色调掩模构图工艺形成隔垫物层，半色调掩模构图工艺中使用的掩模板在对应沟槽的区域具有半透光部，在对应支撑部的区域具有全透光部。
采用本发明实施例方法制作的显示基板，网状填充部填充于相邻像素区之间的沟槽内，从而使得显示基板表面平坦性较好，可以有效改善显示装置的残影不良现象，提高了显示装置的显示品质。支撑部能够起到与现有隔垫物相同的支撑作用，并且由于其与网状填充部一体连接，连接强度较高，因此在后续的摩擦工序中支撑部不易脱落，不会污染到取向液，这些为显示装置的制造品质提供了保障。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种显示基板，包括多个像素区，相邻的像素区之间具有沟槽，其特征在于，所述显示基板还包括：
隔垫物层，所述隔垫物层包括填充于所述沟槽内的网状填充部，以及凸出于所述网状填充部的支撑部。
2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为彩膜基板，包括衬底基板以及在衬底基板之上依次设置的黑矩阵、彩色滤光膜层和所述隔垫物层，其中，所述黑矩阵包括与像素区位置相对的透光部，所述彩色滤光膜层包括对应每个透光部设置的彩色滤光单元，相邻彩色滤光单元之间形成所述沟槽，该支撑部于网状填充部上呈连续的支撑连接挡墙。
3.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括位于彩色滤光膜层和所述隔垫物层之间的透明电极层，该支撑部设置于显示基板的周边非显示区域。
4.一种液晶面板，其特征在于，包括如权利要求1～3任一项所述的显示基板。
5.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求4所述的液晶面板。
6.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：
通过构图工艺形成隔垫物层，所述隔垫物层包括填充于相邻像素区之间的沟槽内的网状填充部，以及凸出于所述网状填充部的支撑部。
7.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述显示基板为彩膜基板，所述制作方法具体包括：
通过构图工艺在所述衬底基板之上形成黑矩阵，所述黑矩阵包括与预形成像素区位置相对的透光部；
通过构图工艺在所述黑矩阵之上形成彩色滤光膜层，所述彩色滤光膜层包括对应每个透光部设置的彩色滤光单元，相邻彩色滤光单元之间具有沟槽；
在所述彩色滤光膜层之上形成透明电极层；
通过构图工艺在所述透明电极层之上形成隔垫物层，所述隔垫物层包括填充于相邻彩色滤光单元之间的沟槽内的网状填充部，以及凸出于所述网状填充部的支撑部。
8.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述通过构图工艺形成隔垫物层，包括：通过单狭缝掩模构图工艺形成隔垫物层，所述单狭缝掩模构图工艺中使用的掩模板在对应所述沟槽的区域具有透光狭缝，在对应所述支撑部的区域具有透光部。
9.如权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述透光狭缝的宽度为1～3μm。
10.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述通过构图工艺形成隔垫物层，包括：通过半色调掩模构图工艺形成隔垫物层，所述半色调掩模构图工艺中使用的掩模板在对应所述沟槽的区域具有半透光部，在对应所述支撑部的区域具有全透光部。
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