CN105541409B - 一种发光龙泉青瓷釉层及其制备方法 - Google Patents

一种发光龙泉青瓷釉层及其制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种发光龙泉青瓷釉层及其制备方法，配制发光青釉料浆：将青瓷釉料、发光粉和纳米二氧化硅，研磨成发光青釉，计入聚甲基纤维素或醇类作悬浮剂调制成发光龙泉青瓷釉浆；施釉：可采用浸釉、浇釉、荡釉、喷釉或其他施釉方法，在青瓷坯体或素烧好青瓷坯体表面上施发光釉层；热处理：将施釉后的发光龙泉青瓷在还原气氛下热处理，得最后的发光龙泉青瓷釉层。发光龙泉青瓷可吸收可见光后，能够在黑暗处持续发光，具有化学稳定性好、发光亮度高、发光时间较长且对环境无任何污染，可用于装饰性陶瓷和安全消防疏散标志灯。

Description

一种发光龙泉青瓷釉层及其制备方法
技术领域
本发明涉及青瓷技术领域，具体涉及一种发光龙泉青瓷釉层，还涉及一种发光龙泉青瓷釉的制备方法。
背景技术
青瓷自1976年研究恢复成功以来，一直以生产仿古和日用餐具为主，虽有儒雅和柔和的艺术效果，但釉色以“青”为主比较单一，适应不了当今文化艺术发展形势和人们更加完美的艺术欣赏水平的需要。
发明内容
为了克服上述现有龙泉青瓷釉色单调，影响其装饰效果的不足，本发明的目的在于提供了一种发光龙泉青瓷釉，还提供一种发光龙泉青瓷釉的制备方法。
本发明的一个技术方案为：一种发光龙泉青瓷釉层，发光龙泉青瓷釉层组成包括发光龙泉青瓷釉料和聚甲基纤维素或醇类，发光龙泉青瓷釉料包括青瓷基础釉料、发光粉和纳米二氧化硅；发光龙泉青瓷釉料按质量百分比含量：发光粉为5％～55％，纳米二氧化硅为0.05％～1.21％，其他均为青瓷基础釉料；聚甲基纤维素或醇类为发光龙泉青瓷釉料的1～5倍。
本发明的另一个技术方案为：一种发光龙泉青瓷釉层的制备方法，包括以下步骤：
a配制发光龙泉青釉料浆：将发光龙泉青瓷釉料按质量百分比：发光粉为5％～55％、纳米二氧化硅为0.05％～1.21％和其他均为青瓷基础釉料，混合研磨；然后加入聚甲基纤维素或醇类作悬浮介质调配成发光青瓷釉料浆，聚甲基纤维素或醇类为发光龙泉青瓷釉料的1～5倍；
b施釉：可采用浸釉、浇釉、荡釉、喷釉或其他施釉方法，在龙泉青瓷坯体或素烧好青瓷坯体表面上施发光釉层；
c热处理：将施釉后的发光龙泉青瓷在还原气氛下热处理，得最后的发光龙泉青瓷釉层。
本发明所采用的技术方案是采用Eu和Dy激发的硅酸盐长余辉发光材料制成一种化学稳定性 好、发光亮度高、余辉时间长的发光青瓷釉料，它的发光机理是依靠稀土元素的吸光、储光和释放光的能力，将吸收到的太阳光或灯光在光线暗淡时释放出来，并采用加入纳米二氧化硅和醇类为辅助材料提高了釉面质量，在青瓷坯体或素烧后的青瓷坯体制品表面上施一层发光龙泉青瓷釉料，再进行热处理。
发光龙泉青瓷釉层吸收可见光后，能够在黑暗处持续发光，化学稳定性好、发光亮度高、余辉时间长的，该发光龙泉青瓷釉层主要可用于消防安全疏散标志和装饰艺术青瓷等。
与现有发光陶瓷比较，本发明具有以下意想不到的技术效果：
1由本发明所制备的发光龙泉青瓷表面平滑光亮，例如用于生活用品的碗、盘、碟等，夜间呈现色彩发玉光图案，可美化环境，增加人们的审美情趣；也可制成发光标识等。
2由本发明所制备的发光龙泉青瓷在吸收可见光15～30min后，能够在黑暗中自行发光11h以上，并且发光亮度高、余辉时间长。
3本发明使用的基础釉是一种青瓷釉料，此釉料的釉面平整且有一定的透光度。
4本发明中采用聚甲基纤维素作为发光龙泉青釉浆的分散剂，因为硅酸盐荧光粉不易水解，而用聚甲基纤维素作分散剂，分散性好，釉料不变性。
5本发明中将纳米二氧化硅加入发光釉浆中，对发光釉浆进行改性，起到触变剂的作用。
6最重要的是本发明制备的产品是无源光源，不需还要任何附加设备，不需要任何人工能源，对环境无污染。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明进一步详细说明，但本发明不限于这些实施例。
本发明公开一种发光龙泉青瓷釉层，发光龙泉青瓷釉层组成包括发光龙泉青瓷釉料和聚甲基纤维素或醇类，发光龙泉青瓷釉料包括青瓷基础釉料、发光粉和纳米二氧化硅；发光龙泉青瓷釉料按质量百分比含量：发光粉为5％～55％，纳米二氧化硅为0.05％～1.21％，其他均为青瓷基础釉料；聚甲基纤维素或醇类为发光龙泉青瓷釉料的1～5倍。所述发光粉为稀土激活的硅酸盐化合物，其化学组成为Na1.45La8.55(SiO4)6(F0.9O1.1):Eu2+,Dy3+。发光青釉层厚度为1～2mm。
本发明还公开一种发光龙泉青瓷釉层的制备方法，包括以下步骤：
a配制发光龙泉青釉料浆：将发光龙泉青瓷釉料按质量百分比：发光粉为5％～55％、纳米二氧化硅为0.05％～1.21％和其他均为青瓷基础釉料，混合研磨；然后加入聚甲基纤维素或醇类作悬浮介质调配成发光青瓷釉料浆，聚甲基纤维素或醇类为发光龙泉青瓷釉料的1～5倍；所述发光粉为稀土激活的硅酸盐化学物，其化学组成为Na1.45La8.55(SiO4)6(F0.9O1.1):Eu2+,Dy3+。
b施釉：可采用浸釉、浇釉、荡釉、喷釉或其他施釉方法，在龙泉青瓷坯体或素烧好青瓷坯体表面上施发光釉层；
c热处理：将施釉后的发光龙泉青瓷在还原气氛下热处理，得最后的发光龙泉青瓷釉层。热处理的温度为1000～1250℃。热处理得升温速率为2～5℃/min。
作为优选方案，可先将青瓷坯体进行850～950℃素烧后，再施一层发光瓷釉层，发光瓷釉层厚度为1～2mm。
实施例1
配制发光龙泉青瓷釉浆：将青瓷基础釉料、发光粉稀土激活的硅酸盐化合物和纳米二氧化硅混合，研磨成发光龙泉青瓷釉料，青瓷釉料：由下列重量份数的组分组成：钾长石10～25份、钠长石5～15份、硼酸2～10份、锂辉石1～10份、石英20～35份、氧化铝5～20份、氧化镁0～10份、氟化钙2～10份、滑石2～8份、氧化锌2～8份、骨灰2～5份、碳酸钙2～15份、紫金土2～8份、三氧化二铁0.1～2.0份、氧化铜1.0～2.0份、氧化锰2～5份。加入聚甲基纤维素或醇类作悬浮介质调制成发光龙泉青瓷釉浆，釉浆比重保持在1.2～1.5；按质量百分比，青瓷基础釉料为87.9％，发光粉为11.2％，纳米二氧化硅为0.9％，按质量比，聚甲基纤维素(CMC)、醇类、粘土或其任意比例的混合物为发光釉料的2倍；所述发光粉采用稀土激活的硅酸盐化合物，其化学组成为Na1.45La8.55(SiO4)6(F0.9O1.1):Eu2+,Dy3+。
施釉：采用浸釉方法在素烧后青瓷坯体上或直接在青瓷坯体表面上施发光青瓷釉层；发光龙泉青瓷釉层的厚度为1.1mm。
热处理：将施釉后的发光龙泉青瓷放入马弗炉中还原气氛中热处理，热处理得温度为1100℃， 热处理的升温速率为2℃/min，得表面较平整、光滑；无放射性危害，余辉时间超过11h的发光龙泉青瓷釉层；
实施列2：与实施例1类似，其区别在于按质量百分比，青瓷基础釉为81.5％，发光粉为14.6％，纳米二氧化硅为3.9％，按质量比，聚甲基纤维素的加入量为发光龙泉青釉的3.5倍；热处理温度为1050℃，升温速率为3℃/min。
实施例3：与实施例1类似，其区别在于按质量百分比，青釉基础料为76.8％，发光粉为22.4％，纳米二氧化硅为0.8％，按质量比，聚甲基纤维素或醇类的加入量为发光青釉的2.5倍；热处理温度为1100℃，升温速率为4℃/min。
实施例4：与实施例1类似，其区别在于按质量百分比，青釉基础料为72.9％，发光粉为26.5％，纳米二氧化硅为0.6％，按质量比，聚甲基纤维素或醇类的加入量为发光青釉的2.5倍；热处理温度为1150℃，升温速率为3℃/min。
实施例5：与实施例1类似，其区别在于按质量百分比，青釉基础料为71.9％，发光粉为26.7％，纳米二氧化硅为0.8％，按质量比，聚甲基纤维素或醇类的加入量为发光青釉的3倍；热处理温度为1180℃，升温速率为4℃/min。
实施例6：与实施例1类似，其区别在于按质量百分比，青釉基础料为67.4％，发光粉为31.7％，纳米二氧化硅为0.9％，按质量比，聚甲基纤维素或醇类的加入量为发光青釉的2.5倍；热处理温度为1200℃，升温速率为5℃/min。
以上实施例仅用以说明非限制本发明的技术方案，发光粉也可以采用其它组成的发光粉，而且分散剂也可以采用无水乙醇或由电解质与膨化剂组成。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (2)

1.一种发光龙泉青瓷釉层，其特征在于：发光龙泉青瓷釉层组成包括发光龙泉青瓷釉料和聚甲基纤维素或醇类，发光龙泉青瓷釉料包括青瓷基础釉料、发光粉和纳米二氧化硅；
聚甲基纤维素或醇类作悬浮介质调制成发光龙泉青瓷釉浆，釉浆比重保持在1.2～1.5；按质量百分比，青瓷基础釉料为87.9％，发光粉为11.2％，纳米二氧化硅为0.9％，按质量比，聚甲基纤维素(CMC)、醇类、粘土或其任意比例的混合物为发光釉料的2倍；所述发光粉采用稀土激活的硅酸盐化合物，其化学组成为Na1.45La8.55(SiO4)6(F0.9O1.1):Eu2+,Dy3+；
青瓷基础釉料由下列重量份数的组分组成：钾长石10～25份、钠长石5～15份、硼酸2～10份、锂辉石1～10份、石英20～35份、氧化铝5～20份、氧化镁0～10份、氟化钙2～10份、滑石2～8份、氧化锌2～8份、骨灰2～5份、碳酸钙2～15份、紫金土2～8份、三氧化二铁0.1～2.0份、氧化铜1.0～2.0份、氧化锰2～5份；
发光青釉层厚度为1.1mm。
2.如权利要求1所述的一种发光龙泉青瓷釉层的制备方法，其特征在于包括以下步骤：
a配制发光龙泉青釉料浆：将发光龙泉青瓷釉料按质量百分比：发光粉为11.2％，纳米二氧化硅为0.9％，其余87.9％为龙泉青瓷基础釉粉，按质量比，醇类的加入量为发光青瓷釉料的2倍；
所述发光粉为稀土激活的硅酸盐化学物，其化学组成为Na1.45La8.55(SiO4)6(F0.9O1.1):Eu2+,Dy3+；
b施釉：可采用浸釉、浇釉、荡釉、喷釉或其他施釉方法，先将青瓷坯体进行850～950℃素烧后，再施一层发光瓷釉层，发光瓷釉层厚度为1.1mm；
c热处理：将施釉后的发光龙泉青瓷在还原气氛下热处理，得最后的发光龙泉青瓷釉层；热处理的温度为1000～1250℃；热处理得升温速率为2～5℃/min。
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