CN105461354A - 日用瓷转移印花无铅釉及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及陶瓷釉料技术领域，更具体地，涉及一种日用瓷转移印花无铅釉及其制备方法。该日用瓷转移印花无铅釉，按照重量百分比包括以下配料组分：二氧化硅15~35%、氧化铝1~5%、氧化硼10~30%、氧化钠1~5%、氧化钾1~5%、氧化锌2~10%、氧化锡1~5%、碳酸锶3~15%、碳酸锂1~6%、氧化锆1~5%、氧化铈1~5%、氧化钇1~5%。本发明日用瓷转移印花无铅釉，无铅无毒性，安全可靠，并且化学稳定性好，生产成本低。

Description

日用瓷转移印花无铅釉及其制备方法

技术领域

本发明涉及陶瓷釉料技术领域，更具体地，涉及一种日用瓷转移印花无铅釉及其制备方法。

背景技术

陶瓷制品的装饰多样化、无铅化，国外日用陶瓷装饰方法很多，但主要产品的批量生产大多仍采用贴花方法。国外的花纸生产和供应由专业化工厂来完成，各种釉上、釉中和釉下花纸均成系列，品种很多。由于铅成分的独特性，使得铅熔块釉具有易熔性、光亮度高、机械强度大、热震稳定性好等特点。因此，多年来铅熔块釉一直被广泛沿用着。

陶瓷转移印花是指用刻有装饰纹样的印模在尚未干透的胎体上打印出花纹。近几年，日用陶瓷生产中转移印花工艺的应用越来越多，工艺成熟，可大幅度降低劳动强度，可使画面效果一致，便于机械化流水作业。转移印花也有单色逐渐向多色发展，花面清晰色彩丰富，极大满足客户对陶瓷制品的使用要求。

随着人们生活水平的不断提高，人们的健康意识逐渐增强，而铅成分对人体有严重的危害性，且为了解决铅溶出量问题，国外进行了多种途径的研究，例如有的采用无铅颜料；有的则从提高颜料的耐酸性入手，试验各种高抗蚀性的颜料；还有的则从颜料的制备、花面加工和烧成工艺的改进来降低铅的含量。此外，快烧颜料使其熔入釉中，不但可达到降铅目的，还丰富了装饰方法。目前，国外日用陶瓷餐具的装饰方法已基本上采用釉下彩和釉中彩，向无铅化方向发展。陶瓷转移印花装饰解决了铅镉及重金属离子的熔出问题，采用一次烧成工艺，符合社会潮流的发展方向。

发明内容

本发明为克服上述现有技术所述的至少一种缺陷，提供一种日用瓷转移印花无铅釉，无铅无毒性，安全可靠，并且化学稳定性好，生产成本低。

本发明还提供了一种日用瓷转移印花无铅釉的制备方法。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：

提供一种日用瓷转移印花无铅釉，按照重量百分比包括以下配料组分：二氧化硅15~35%、氧化铝1~5%、氧化硼10~30%、氧化钠1~5%、氧化钾1~5%、氧化锌2~10%、氧化锡1~5%、碳酸锶3~15%、碳酸锂1~6%、、氧化锆1~5%、氧化铈1~5%、氧化钇1~5%。

作为对上述技术方案的改进，其较佳的组成方案为，按照重量百分比包括以下配料组分：二氧化硅20~35%、氧化铝1~5%、氧化硼10~23%、氧化钠1~5%、氧化钾1~5%、氧化锌3~8%、氧化锡1~5%、碳酸锶3~8%、碳酸锂1~6%、、氧化锆1~5%、氧化铈1~5%、氧化钇1~5%。

作为对上述技术方案的进一步改进，按照重量百分比包括以下配料组分：二氧化硅15~35%、氧化铝1~5%、氧化硼10~30%、氧化钠1~5%、氧化钾1~5%、氧化锌2~10%、氧化锡1~5%、碳酸锶3~15%、碳酸锂1~6%、、氧化锆1~5%、氧化铈1~5%、氧化钇1~5%、碳酸钡0~5%、碳酸钙0~5%、氧化镁0~5%、氧化钛0~5%。

上述技术方案更为优选的技术方案为，按照重量百分比包括以下配料组分：二氧化硅30.5%、氧化铝3.5%、氧化硼23%、氧化钠3.1%、氧化钾2.4%、氧化锌5%、氧化锡4.1%、碳酸锶11.2%、碳酸锂2.2%、、氧化锆1.5%、氧化铈1%、氧化钇4.3%、碳酸钙3.6%、氧化镁1.1%、氧化钛3.5%。

本发明还提供一种如上述任一项所述的日用瓷转移印花无铅釉的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、按组分比例将各配料混合均匀，置于池炉中以1050~1180℃的温度下进行熔融，经水淬后得到熔块；

S2、将熔块在球磨机中研磨粉碎得到釉浆，过筛，使釉浆细度在万孔筛余为0.02~0.05%，即得日用瓷转移印花无铅釉。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

本发明日用瓷转移印花无铅釉无铅无毒性，安全可靠，并且化学稳定性好，生产成本低，除了不需用到铅镉的氧化物外，也不用现有的国内外相关技术所采用的影响稳定性和发色的价格昂贵的氧化铋，只利用一些常规的廉价的二氧化硅、氧化硼、碳酸锶、氧化锆和稀土元素，形成均匀致密的网络构成体，这对制备呈色纯正、化学稳定性好的陶瓷釉料奠定了基础。由碱金属、碱土金属和稀土元素组成的复合助熔剂，在降低溶剂熔融温度的同时，借助混合碱效应大大提高了釉料的耐酸性能，而且削减了碱金属和碱土金属的加入所引起的膨胀系数的增加。

本发明日用瓷转移印花无铅釉的制备方法简单，操作方便，使用该方法制得的无铅釉具有以下优点：

（1）化学稳定性好，对色剂适应性广，呈色纯正，色彩艳丽，光泽度高，质量好。该技术方案中，其调整了碱土金属在配方中的比例，又添加了氧化铈和氧化钇等稀土元素，各组分相互配合作用，共同发挥稳定性作用，使高温融化后的溶剂化学稳定性好，能广泛用于各种色剂的发色，呈色纯正，无明显色差，光泽亮丽，质量好；

（2）使用温度低，能源消耗小，生产成本低。该技术方案中，其调整了碱金属和碱土金属成分的用量，增加了碳酸锶、氧化铈和氧化钇等稀土元素的使用，增加了溶剂的熔融性和透明度，并通过减少二氧化硅和氧化铝的用量，从而使颜料的使用温度降低，减少了能源消耗，降低了生产成本。同时，实践证明，尽管降低了使用温度，但是获得的釉料的光泽度、呈色以及耐酸碱的化学性能、热稳定性和膨胀系数均优于现有产品，取得了意想不到的效果。

具体实施方式

本发明经过试验检测，获得的产品的理化性能指标如下：

（1）光泽度：85~96%；

（2）热膨胀系数：40~60×10^-7℃^-1；

（3）化学稳定性：铅镉溶出量均为0.00~0.1mg/dm²，经22±2℃下，4%醋酸溶液中浸泡24h或60±2℃下，5%Na₂CO₃溶液中浸泡40h后，色调、色泽均无变化。

下面结合具体实施方式对本发明作进一步的说明。

实施例中，无铅釉的制备方法步骤如下：

（1）按组分比例将各配料混合均匀，置于池炉中以1050~1180℃的温度下进行熔融，经水淬后得到熔块；

（2）将熔块在球磨机中研磨粉碎得到釉浆，过筛，使釉浆细度在万孔筛余为0.02~0.05%，即得日用瓷转移印花无铅釉。

本发明各实施例的配比如表1所示，各实施例得到的产品的技术指标如表2所示。

表1各实施例配比参数

表2各实施例所得产品的技术指标

技术指标	烧烤温度（℃）	耐酸碱	铅镉溶出量（mg/dm2）	膨胀系数（×10-7 ℃-1）	光泽度（%）
						实施例1	800±20	浸泡后观察无变化	0	53	88.1
实施例2	800±20	浸泡后观察无变化	0	55	90.3
						实施例3	800±20	浸泡后观察无变化	0	61	91.3
实施例4	800±20	浸泡后观察无变化	0	51	88.7
						实施例5	800±20	浸泡后观察无变化	0	56	89.2

显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明权利要求的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种日用瓷转移印花无铅釉，其特征在于，按照重量百分比包括以下配料组分：二氧化硅15~35%、氧化铝1~5%、氧化硼10~30%、氧化钠1~5%、氧化钾1~5%、氧化锌2~10%、氧化锡1~5%、碳酸锶3~15%、碳酸锂1~6%、、氧化锆1~5%、氧化铈1~5%、氧化钇1~5%。

2.根据权利要求1所述的日用瓷转移印花无铅釉，其特征在于，按照重量百分比包括以下配料组分：二氧化硅20~35%、氧化铝1~5%、氧化硼10~23%、氧化钠1~5%、氧化钾1~5%、氧化锌3~8%、氧化锡1~5%、碳酸锶3~8%、碳酸锂1~6%、、氧化锆1~5%、氧化铈1~5%、氧化钇1~5%。

3.根据权利要求1所述的日用瓷转移印花无铅釉，其特征在于，按照重量百分比包括以下配料组分：二氧化硅15~35%、氧化铝1~5%、氧化硼10~30%、氧化钠1~5%、氧化钾1~5%、氧化锌2~10%、氧化锡1~5%、碳酸锶3~15%、碳酸锂1~6%、、氧化锆1~5%、氧化铈1~5%、氧化钇1~5%、碳酸钡0~5%、碳酸钙0~5%、氧化镁0~5%、氧化钛0~5%。

4.根据权利要求1至3任一项所述的日用瓷转移印花无铅釉，其特征在于，按照重量百分比包括以下配料组分：二氧化硅30.5%、氧化铝3.5%、氧化硼23%、氧化钠3.1%、氧化钾2.4%、氧化锌5%、氧化锡4.1%、碳酸锶11.2%、碳酸锂2.2%、、氧化锆1.5%、氧化铈1%、氧化钇4.3%、碳酸钙3.6%、氧化镁1.1%、氧化钛3.5%。

5.一种如权利要求1至4任一项所述的日用瓷转移印花无铅釉的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

按组分比例将各配料混合均匀，置于池炉中以1050~1180℃的温度下进行熔融，经水淬后得到熔块；

将熔块在球磨机中研磨粉碎得到釉浆，过筛，使釉浆细度在万孔筛余为0.02~0.05%，即得日用瓷转移印花无铅釉。