CN105418670B - 笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷及其合成方法 - Google Patents
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 93
- -1 acetenyl Chemical group 0.000 title claims abstract description 69
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims abstract description 47
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 title claims abstract description 43
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 32
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims abstract description 32
- IZJCZTTUOBFVHW-UHFFFAOYSA-N chloro-ethynyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C#C IZJCZTTUOBFVHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 20
- APSPVJKFJYTCTN-UHFFFAOYSA-N tetramethylazanium;silicate Chemical compound C[N+](C)(C)C.C[N+](C)(C)C.C[N+](C)(C)C.C[N+](C)(C)C.[O-][Si]([O-])([O-])[O-] APSPVJKFJYTCTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000012320 chlorinating reagent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 claims abstract description 9
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 238000003747 Grignard reaction Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims abstract description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims abstract description 3
- XEGFFGQZIIDFRL-UHFFFAOYSA-N ethynyl-hydroxy-dimethylsilane Chemical class C[Si](C)(O)C#C XEGFFGQZIIDFRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 31
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 18
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 14
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 12
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 12
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylformamide Substances CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 11
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 9
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 9
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 7
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 claims description 7
- KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N (dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)C KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 claims description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical group C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 claims description 5
- 238000010792 warming Methods 0.000 claims description 5
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims description 4
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims description 3
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 claims description 3
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 3
- YEWNLGTVYUADOR-UHFFFAOYSA-M Cl[Mg]C#C Chemical group Cl[Mg]C#C YEWNLGTVYUADOR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 2
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 claims description 2
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 claims description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 2
- UMUUIGACJXUTBK-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethylsilyloxy-dimethylsilane Chemical class C[SiH](C)O[Si](C)(C)Cl UMUUIGACJXUTBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims 2
- UXGNZZKBCMGWAZ-UHFFFAOYSA-N dimethylformamide dmf Chemical compound CN(C)C=O.CN(C)C=O UXGNZZKBCMGWAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 13
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 abstract description 3
- LLCSWKVOHICRDD-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diyne Chemical group C#CC#C LLCSWKVOHICRDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 26
- 239000000047 product Substances 0.000 description 14
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 11
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 11
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 7
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 6
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 5
- DMEXFOUCEOWRGD-UHFFFAOYSA-N chloro-[chloro(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)O[Si](C)(C)Cl DMEXFOUCEOWRGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 5
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 5
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 5
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 4
- DMSZORWOGDLWGN-UHFFFAOYSA-N ctk1a3526 Chemical compound NP(N)(N)=O DMSZORWOGDLWGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 4
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 230000035935 pregnancy Effects 0.000 description 4
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 3
- 238000005133 29Si NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N Cu+ Chemical compound [Cu+] VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004736 wide-angle X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000000475 acetylene derivatives Chemical group 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000852 azido group Chemical group *N=[N+]=[N-] 0.000 description 1
- DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N azobenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012650 click reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000001938 differential scanning calorimetry curve Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 230000005311 nuclear magnetism Effects 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 238000002464 physical blending Methods 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000007348 radical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- TXROVKYTPPNNJW-UHFFFAOYSA-N silicon(4+) tetramethylazanium Chemical compound [Si+4].C[N+](C)(C)C TXROVKYTPPNNJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000001757 thermogravimetry curve Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/21—Cyclic compounds having at least one ring containing silicon, but no carbon in the ring
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Abstract
本发明涉及一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成方法,(1)利用格氏反应合成1,3‑二乙炔基‑1,1,3,3‑四甲基二硅氧烷;(2)1,3‑二乙炔基‑1,1,3,3‑四甲基二硅氧烷水解得到乙炔基二甲基硅醇,采用氯化剂将硅羟基氯化,得到乙炔基二甲基氯硅烷;(3)使用正硅酸乙酯,在四甲基氢氧化铵提供的碱性条件下水解缩合,得到笼型八聚四甲基铵硅酸盐;(4)笼型八聚四甲基铵硅酸盐与乙炔基二甲基氯硅烷反应得到笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷。本发明得到的笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷带有端炔基,具备优良的耐高温性能,反应活性高,可制备纳米POSS材料;在空间、医用等功能性材料上可获得应用,具有很好的发展应用前景。
Description
【技术领域】
本发明涉及材料化学技术领域,具体地说,是一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷及其合成方法。
【背景技术】
多面体低聚倍半硅氧烷(Polyhedral oligomeric silsesquioxane,以下简称POSS)是一类具有特殊分子结构的有机硅化物,其分子以无机硅氧骨架为核心,在多面体的每个顶点处可接上有机基团或活性官能团。由于POSS结构特殊,将其加入聚合物体系中,能够显著改善有机聚合物的热性能、机械性能及生物体系相容性等【张立培.官能化笼型倍半硅氧烷(POSS)的合成与表征及其环氧树脂复合材料性能研究[D].北京,北京化工大学,2004.】。使用非活性POSS,通过物理共混法得到的POSS基高分子材料性能不稳定,容易发生相分离;而使用活性POSS,通过化学方法,可直接将POSS引入高分子骨架中,使含POSS的高分子纳米杂化材料具有有机和无机材料的综合性能。因此活性POSS的研究显得尤为重要,将POSS进行官能化得到合适的活性官能团,可进一步与聚合物等反应。
Xingyi Huang等使用八乙烯基POSS改性低密度聚乙烯(LDPE),极少的 POSS添加量就能够得到具有低介电常数和低介电损耗的LDPE材料【Xingyi Huang,Liyuan Xie,Pingkai Jiang,et al.,Morphology studies and ac electrical property of lowdensity polyethylene/octavinyl polyhedral oligomeric silsesquioxane compositedielectrics,European Polymer Journal,2009,45, 2172-2183】。Yonghong Liu等将八叠氮丙基POSS作为核,制备了星型聚(ε- 己内酯)(PLC),比线型PLC具有更高的熔点及更低的表面自由能【Yonghong Liu,Xingtian Yang,Weian Zhang,Sixun Zheng,Star-shapedpoly(ε-carprolactone) with polyhedral oligomeric silsesquioxane core,Polymer,2006,47,6814-6825】。 Xinyan Su等利用硅氢加成反应,使八氢POSS与不同结构的偶氮苯发色团反应,得到各种结构具有优良光限幅性能和热稳定性的光限幅材料【Xinyan Su,Shanyi Guang,Hongyao Xu,et al.,Controllable preparation and optical limitingproperties of POSS-based functional hybrid nanocomposites with differentmolecular architectures,Macromolecules,2009,42,8969-8976】。
在众多官能化POSS中,含有端炔基的POSS具有优异的反应活性及分子设计性,可通过叠氮-炔点击化学反应,单体加成聚合反应等手段对聚合物进行改性。由于端炔基的存在,在加热过程中即可与炔基树脂发生交联反应,得到POSS纳米改性的炔基树脂。目前对端炔基POSS的研究较少,Weian Zhang等制备了单端炔基POSS,利用其端炔基,结合ATPR和点击化学制备了含POSS的单-,双-及五-遥爪聚苯乙烯【Weian Zhang,Axel H.E.Muller,A“Click Chemistry”Approach to Linear and Star-Shaped Telechelic POSS-Containing Hybrid Polymers,Macromolecules,2010,43,3148-3152】。 Haibo Fan等制备了八端炔丙氨基苯基POSS,利用其与芳基乙炔树脂(PAA) 共混,得到了热稳定性及热氧稳定性更好的新型树脂【Haibo Fan,Xiangmei Li, Yanlin Liu,Rongjie Yang,Curing andThermal Behaviors of Inorganic-Organic Hybrid Polyarylacetylene Resins withPolyhedral Oligomeric Octa(propargylaminophenyl)silsesquioxane,Journal ofApplied Polymer Science, 2013,4361-4367】。
本发明通过使用亚铜离子催化剂,合成了1,3-二乙炔基-1,1,3,3- 四甲基二硅氧烷,并进一步合成了新型八端炔基POSS,即笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷,可将其固化成一种新型的无机纳米材料,也可用于多种树脂(带有不饱和碳键、硅氢键、叠氮基团等)的改性。
【发明内容】
本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷及其合成方法。
笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷和笼型八聚乙炔基二甲基硅氧倍半硅氧烷为同一个材料。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:
一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷,其化学结构式为:
一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成方法,其具体步骤为:
(1)采用1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷为原料,利用格氏反应合成 1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷;
(2)1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷水解得到乙炔基二甲基硅醇,采用氯化剂将硅羟基氯化,得到乙炔基二甲基氯硅烷;
(3)使用正硅酸乙酯,在四甲基氢氧化铵提供的碱性条件下水解缩合,得到笼型八聚四甲基铵硅酸盐;
(4)笼型八聚四甲基铵硅酸盐与乙炔基二甲基氯硅烷反应得到笼型八聚 (乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷;所述反应过程如反应式(1)-(4)所示:
一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成方法,其具体步骤为:
(1)1,3-乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷中间体I的合成,采用格氏试剂法来合成:
在氮气保护条件下,往带有冷凝管的四口圆底烧瓶中加入1,3-二氯- 1,1,3,3-四甲基二硅氧烷、乙炔基格氏试剂、催化剂及溶剂;搅拌下进行反应,反应温度为20~100℃,优选为45~80℃,反应时间为1~10h,优选4~8h;反应结束后除去溶剂,有大量沉淀析出,用正戊烷洗涤沉淀后过滤,将滤液减压蒸馏得到无色透明液体状的1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷中间体 I;
乙炔基格氏试剂为乙炔基氯化镁;
乙炔基格氏试剂与1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的摩尔比为2∶1;
溶剂与1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的摩尔比为2∶1;
催化剂为Cu(PPh3)3Br;
催化剂与1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的摩尔比为0~1∶250,优选 0.1~0.3∶250;可以不含催化剂,但是产率很低。
溶剂为四氢呋喃(THF)、甲苯、N,N-二甲基甲酰胺DMF或丙酮;
(2)乙炔基二甲基氯硅烷II的合成
在氮气保护条件下,将1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷中间体I、六甲基膦酰三胺HMPA和水加入圆底烧瓶中,快速滴加氯化剂,滴加完毕升温至30~50℃,搅拌下进行反应,反应时间为1~50h,优选1~10h;反应结束后,减压蒸馏获得乙炔基二甲基氯硅烷II;
氯化剂为甲基三氯硅烷或氯化亚砜;
氯化剂与1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷中间体I的摩尔比为 2.0~8.0∶1,优选3.0~6.0∶1;
六甲基膦酰三胺HMPA与1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷中间体 I的摩尔比为0.00009∶1;
水与1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷中间体I的摩尔比为0.04∶1;
(3)笼型八聚四甲基铵硅酸盐III的合成
氮气保护条件下,在圆底烧瓶中加入质量分数为25%四甲基氢氧化铵水溶液、甲醇和去离子水的混合溶剂,剧烈搅拌,同时缓慢滴加正硅酸乙酯,滴加完毕后将反应液置于室温下搅拌24h;停止搅拌后,将溶液浓缩并冷却至 5℃以下进行结晶。除去滤液后用丙酮洗涤晶体,将晶体真空干燥后得到笼型八聚四甲基铵硅酸盐III;
甲醇与去离子水的体积比为1∶1;
混合溶剂与四甲基氢氧化铵水溶液的体积比为15∶8;
正硅酸乙酯与四甲基氢氧化铵水溶液的体积比为5∶8;
(4)笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成;
在氮气保护条件下,取乙炔基二甲基氯硅烷II、正己烷加入三口烧瓶中,将笼型八聚四甲基铵硅酸盐III均匀分散与N,N-二甲基甲酰胺DMF中,冰浴下缓慢滴加入烧瓶,乙炔基二甲基氯硅烷II与笼型八聚四甲基铵硅酸盐的摩尔比为10∶1;控制滴加时间为30分钟,滴加完毕升至室温,搅拌下反应1h,反应结束后在冰浴冷却下加入去离子水,继续搅拌回复至室温。用分液漏斗将有机相与水相分离,有机相用去离子水洗至中性,通过旋转蒸发器除去溶剂,得到笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷。
正己烷与N,N-二甲基甲酰胺DMF的体积比为1∶1;
乙炔基二甲基氯硅烷II与正己烷的体积比为3∶10;
笼型八聚四甲基铵硅酸盐III与N,N-二甲基甲酰胺DMF的质量比为7∶94;
去离子水与正己烷的体积比为1∶1;
与现有技术相比,本发明的积极效果是:
本发明公开的笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷及其合成方法具有如下特点:
①步骤一利用亚铜离子催化格氏反应,反应温和,能以高产率、高纯度得到产物;
②步骤二通过选择合适的氯化剂,使得氯化反应温度较低,时间较短,操作简单,条件温和;
③步骤四反应过程易于控制,反应时间短,产率较高。
④根据本发明得到的笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷带有端炔基,具备优良的耐高温性能,反应活性高,可制备纳米POSS材料;并且可通过叠氮-炔点击反应、热聚合等方式用其对聚合物进行改性,在空间、医用等功能性材料上可获得应用,具有很好的发展应用前景。
【附图说明】
图1.OAP的红外图谱;
图2-1为OAP的氢核磁图谱;
图2-2为OAP的硅核磁图谱;
图3OAP的WAXD图谱;
图4OAP的GPC图谱;
图5OAP的DSC曲线;
图6.OAP固化物的TGA曲线(N2)。
【具体实施方式】
以下提供本发明一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷及其合成方法的具体实施方式。
实施例1
笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成
1).1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的合成
将1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷20ml,丙酮100ml,0.5M THF 的乙炔基氯化镁400ml和Cu(PPh3)3Br 0.11g加入到装有冷凝管的500ml四口圆底烧瓶中,通氮气保护,磁力搅拌,将反应物加热至55℃,恒温反应8h。将溶液浓缩到约50ml,有大量沉淀生成,用正戊烷洗涤沉淀,过滤。将滤液减压蒸馏,得到无色透明液体状产物1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷,产率46%,纯度97.7%。1H NMR(400MHz,CDCl3):δ0.3(m,6H,-CH3), 2.4(m,H,≡CH)。
2).乙炔基二甲基氯硅烷的合成
在圆底烧瓶中加入3.01g 1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷、 0.25μl六甲基磷酰三胺和12μl水,氮气保护,磁力搅拌下快速滴加3.4ml 氯化亚砜,滴加完毕,升温至40℃,恒温反应24h。将反应产物40℃减压蒸馏,得到无色透明液体状产物乙炔基二甲基氯硅烷,产率68%。1H NMR (400MHz,CDCl3):δ0.3(m,6H,-CH3),2.4(m,H,≡CH)。
3).笼型八聚四甲基铵硅酸盐的合成
氮气保护条件下,在圆底烧瓶中加入25%四甲基氢氧化铵水溶液16.31g、甲醇7.17g和去离子水7g,剧烈搅拌,同时缓慢滴加9.33g正硅酸乙酯,滴加完毕后将反应液置于室温下搅拌24h。停止搅拌后,将溶液浓缩,冷却至5℃以下进行结晶。除去滤液后用丙酮洗涤晶体,将晶体真空干燥后得到白色粉末状的笼型八聚四甲基铵硅酸盐,产率97%,纯度92%。29Si NMR(400MHz, CDCl3):δ-21.87(s,8Si,Si-O-Si)。
4).笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成
取3mL乙炔基二甲基氯硅烷,10mL正己烷,加入三口烧瓶,将笼型八聚四甲基铵硅酸盐(0.7g)均匀分散于10mL N,N-二甲基甲酰胺中,冰浴冷却下缓慢滴入烧瓶。滴加完毕升至室温,搅拌1h,随后在冰浴下加入10mL蒸馏水,继续搅拌回复至室温。用分液漏斗将有机相与水相分离,有机相用去离子水洗至中性,通过旋转蒸发器除去溶剂,得到笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧烷基)倍半硅氧烷,产率66%,纯度98.4%。FTIR(KBr,cm-1):1098(Si-O-Si), 1259(Si-C),2957(≡CH);1H NMR(400MHz,CDCl3):δ0.3(m,6H,-CH3),2.4 (m,H,≡CH);29Si NMR(400MHz,CDCl3):δ(s,8Si,-21.87)。
实施例2
笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成
1).1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的合成
将1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷20ml,甲苯100ml,0.5M THF 的乙炔基氯化镁400ml和Cu(PPh3)3Br 0.22g加入到装有冷凝管的500ml四口圆底烧瓶中,通氮气保护,磁力搅拌,将反应物加热至80℃,恒温反应1h。将溶液浓缩到约50ml,有大量沉淀生成,用正戊烷洗涤沉淀,过滤。将滤液减压蒸馏,得到无色透明液体产物状1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷,产率48%,纯度97.4%。1H NMR(400MHz,CDCl3):δ0.3(m,6H,-CH3), 2.4(m,H,≡CH)。
2).乙炔基二甲基氯硅烷的合成
在圆底烧瓶中加入3.01g 1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷、 0.25μl六甲基磷酰三胺和12μl水,氮气保护,磁力搅拌下快速滴加6.7ml 甲基三氯硅烷,滴加完毕,升温至40℃,恒温反应10h。将反应产物40℃减压蒸馏,得到无色透明液体状产物乙炔基二甲基氯硅烷,产率80%。1H NMR (400MHz,CDCl3):δ0.3(m,6H,-CH3),2.4(m,H,≡CH)。
3).笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成
与实施例1的步骤(3),(4)相同,得到笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧烷基)倍半硅氧烷。
实施例3
笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成
1).1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的合成
将1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷20ml,DMF 100ml,0.5M THF 的乙炔基氯化镁400ml和Cu(PPh3)3Br 0.33g加入到装有冷凝管的500ml四口圆底烧瓶中,通氮气保护,磁力搅拌,将反应物加热至100℃,恒温反应1 h。将溶液浓缩到约50ml,有大量沉淀生成,用正戊烷洗涤沉淀,过滤。将滤液减压蒸馏,得到无色透明液体状产物1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷,产率56%,纯度97.6%。FTIR(KBr,cm-1):1098(Si-O-Si),1259 (Si-C),2957(≡CH);1H NMR(400MHz,CDCl3):δ0.3(m,6H,-CH3),2.4(m,H,≡CH)。
2).乙炔基二甲基氯硅烷的合成
在圆底烧瓶中加入3.01g 1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷、 0.25μl六甲基磷酰三胺和12μl水,氮气保护,磁力搅拌下快速滴加6.9ml 氯化亚砜,滴加完毕,升温至30℃,恒温反应50h。将反应产物40℃减压蒸馏,得到无色透明液体状产物乙炔基二甲基氯硅烷,产率72%。1H NMR (400MHz,CDCl3):δ0.3(m,6H,-CH3),2.4(m,H,≡CH)。
3).笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成
与实施例1的步骤(3),(4)相同,得到笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧烷基)倍半硅氧烷。
实施例4
笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成
1).1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的合成
将1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷20ml,THF 100ml,0.5M THF 的乙炔基氯化镁400ml和Cu(PPh3)3Br 0.33g加入到装有冷凝管的500ml四口圆底烧瓶中,通氮气保护,磁力搅拌,反应物在20℃恒温反应10h。将溶液浓缩到约50ml,有大量沉淀生成,用正戊烷洗涤沉淀,过滤。将滤液减压蒸馏,得到无色透明液体状产物1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷,产率38%,纯度97.6%。FTIR(KBr,cm-1):1098(Si-O-Si),1259(Si-C),2957 (≡CH);1H NMR(400MHz,CDCl3):δ0.3(m,6H,-CH3),2.4(m,H,≡CH)。
2).乙炔基二甲基氯硅烷的合成
在圆底烧瓶中加入3.01g 1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷、 0.25μl六甲基磷酰三胺和12μl水,氮气保护,磁力搅拌下快速滴加10.8ml 甲基三氯硅烷,滴加完毕,升温至30℃,恒温反应10h。将反应产物40℃减压蒸馏,得到无色透明液体状产物乙炔基二甲基氯硅烷,产率46%。1H NMR (400MHz,CDCl3):δ0.3(m,6H,-CH3),2.4(m,H,≡CH)。
3).笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成
与实施例1的步骤(3),(4)相同,得到笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧烷基)倍半硅氧烷。
实施例5
笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成
1).1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的合成
将1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷20ml,丙酮100ml,0.5M THF 的乙炔基氯化镁400ml和Cu(PPh3)3Br 0.33g加入到装有冷凝管的500ml四口圆底烧瓶中,通氮气保护,磁力搅拌,将反应物加热至45℃,恒温反应8h。将溶液浓缩到约50ml,有大量沉淀生成,用正戊烷洗涤沉淀,过滤。将滤液减压蒸馏,得到无色透明液体状产物1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷,产率49%,纯度97.8%。FTIR(KBr,cm-1):1098(Si-O-Si),1259(Si-C), 2957(≡CH);1H NMR(400MHz,CDCl3):δ0.3(m,6H,-CH3),2.4(m,H,≡CH)。
2).乙炔基二甲基氯硅烷的合成
在圆底烧瓶中加入3.01g步骤1产物、0.25μl六甲基磷酰三胺和12μl 水,氮气保护,磁力搅拌下快速滴加2.7ml甲基三氯硅烷,滴加完毕,升温至50℃,恒温反应1h。将反应产物40℃减压蒸馏,得到无色透明液体状产物乙炔基二甲基氯硅烷,产率23%。1H NMR(400MHz,CDCl3):δ0.3(m,6H, -CH3),2.4(m,H,≡CH)。
3).笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成
与实施例一的步骤(3),(4)相同,得到笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧烷基)倍半硅氧烷。
实施例6
笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷(OAP)的结构与性能
图1为OAP的红外图谱。1098cm-1处为硅笼骨架中Si-O-Si键的振动吸收峰,1259cm-1处为Si-C键的弯曲振动峰,2957cm-1处为C≡C的伸缩振动峰。所得图谱与理论结构相符。
图2-1为OAP的氢核磁图谱,硅甲基所带氢原子a的化学位移为0.24,炔基氢原子b的化学位移为2.36,两处出峰的面积比为6.1∶1,与理论值6∶1 相符。图2-2为OAP的硅核磁图谱,笼型骨架中所带硅原子在化学位移-21.9 处有单一出峰,表明OAPS中每个硅原子的化学环境均相同,与理论相符。
图3为OAP的WAXD图谱,可以看出该POSS的特征三强峰为2θ=8.4, 17.7,24.9°,其对应的晶面距d值分别为10.5,5.01,说明该POSS 晶体为斜方晶型,且晶间距为由于顶角所接链段较短,因此该POSS 尺寸较小。
图4为OAP在THF相中的GPC图谱。经检测,OAP的多分散系数为1.02,说明产物纯度较高。
OAP在加热过程中会发生交联反应。如图5所示,在217℃处开始出现炔基交联的放热峰,279℃达到峰值,放热量为53J/g。
按170℃/1h+210℃/2h+250℃/2h+280℃/4h的固化工艺将OAP进行固化,得到棕色OAP固化物。该固化物在氮气中的热失重曲线如图6所示。失重5%时的温度(Td5)为502℃,800℃残留率为52%,说明OAP的交联产物具有优良的耐热性。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围内。
Claims (13)
1.一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷,其特征在于,其化学结构式为:
2.如权利要求1所述的一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成方法,其特征在于,其具体步骤为:
(1)采用1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷为原料,利用格氏反应合成1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷;
(2)1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷水解得到乙炔基二甲基硅醇,采用氯化剂将硅羟基氯化,得到乙炔基二甲基氯硅烷;
(3)使用正硅酸乙酯,在四甲基氢氧化铵提供的碱性条件下水解缩合,得到笼型八聚四甲基铵硅酸盐;
(4)笼型八聚四甲基铵硅酸盐与乙炔基二甲基氯硅烷反应得到笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷;所述反应过程如反应式(1)-(4)所示:
3.如权利要求1所述的一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成方法,其特征在于,其具体步骤为:
(1)1,3-乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷中间体Ⅰ的合成,采用格氏试剂法来合成:
在氮气保护条件下,往带有冷凝管的四口圆底烧瓶中加入1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷、乙炔基格氏试剂、催化剂及溶剂;搅拌下进行反应,反应温度为20~100℃,反应时间为1~10h;反应结束后除去溶剂,有大量沉淀析出,用正戊烷洗涤沉淀后过滤,将滤液减压蒸馏得到无色透明液体状的1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷中间体Ⅰ;
(2)乙炔基二甲基氯硅烷Ⅱ的合成
在氮气保护条件下,将1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷中间体Ⅰ、六甲基膦酰三胺HMPA和水加入圆底烧瓶中,快速滴加氯化剂,滴加完毕升温至30~50℃,搅拌下进行反应,反应时间为1~50h;反应结束后,减压蒸馏获得乙炔基二甲基氯硅烷Ⅱ;
(3)笼型八聚四甲基铵硅酸盐Ⅲ的合成
氮气保护条件下,在圆底烧瓶中加入质量分数为25%四甲基氢氧化铵水溶液、甲醇和去离子水的混合溶剂,剧烈搅拌,同时缓慢滴加正硅酸乙酯,滴加完毕后将反应液置于室温下搅拌24h;停止搅拌后,将溶液浓缩并冷却至5℃以下进行结晶;除去滤液后用丙酮洗涤晶体,将晶体真空干燥后得到笼型八聚四甲基铵硅酸盐Ⅲ;
(4)笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成;
在氮气保护条件下,取乙炔基二甲基氯硅烷Ⅱ、正己烷加入三口烧瓶中,将笼型八聚四甲基铵硅酸盐Ⅲ均匀分散于N,N-二甲基甲酰胺DMF中,冰浴下缓慢滴加入烧瓶,乙炔基二甲基氯硅烷Ⅱ与笼型八聚四甲基铵硅酸盐的摩尔比为10:1;控制滴加时间为30分钟,滴加完毕升至室温,搅拌下反应1h,反应结束后在冰浴冷却下加入去离子水,继续搅拌回复至室温;用分液漏斗将有机相与水相分离,有机相用去离子水洗至中性,通过旋转蒸发器除去溶剂,得到笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷。
4.如权利要求3所述的一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成方法,其特征在于,在所述的步骤(1)中,反应温度为45~80℃,反应时间为4~8h;在所述的步骤(2)中,反应时间为1~10h。
5.如权利要求3所述的一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成方法,其特征在于,在所述的步骤(1)中,
乙炔基格氏试剂为乙炔基氯化镁;
乙炔基格氏试剂与1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的摩尔比为2:1。
6.如权利要求3所述的一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成方法,其特征在于,在所述的步骤(1)中,
溶剂与1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的摩尔比为2:1;
催化剂为Cu(PPh3)3Br;
催化剂与1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的摩尔比为0~1:250。
7.如权利要求6所述的一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成方法,其特征在于,催化剂与1,3-二氯-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷的摩尔比为0.1~0.3:250。
8.如权利要求3所述的一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成方法,其特征在于,在所述的步骤(2)中,
氯化剂为甲基三氯硅烷或氯化亚砜;
氯化剂与1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷中间体Ⅰ的摩尔比为2.0~8.0:1。
9.如权利要求8所述的一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成方法,其特征在于,氯化剂与1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷中间体Ⅰ的摩尔比为3.0~6.0:1。
10.如权利要求3所述的一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成方法,其特征在于,在所述的步骤(2)中,
六甲基膦酰三胺HMPA与1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷中间体Ⅰ的摩尔比为0.00009:1;
水与1,3-二乙炔基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷中间体Ⅰ的摩尔比为0.04:1。
11.如权利要求3所述的一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成方法,其特征在于,在所述的步骤(3)中,
甲醇与去离子水的体积比为1:1;
混合溶剂与四甲基氢氧化铵水溶液的体积比为15:8;
正硅酸乙酯与四甲基氢氧化铵水溶液的体积比为5:8。
12.如权利要求3所述的一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成方法,其特征在于,在所述的步骤(4)中,
正己烷与N,N-二甲基甲酰胺DMF的体积比为1:1;
乙炔基二甲基氯硅烷Ⅱ与正己烷的体积比为3:10。
13.如权利要求3所述的一种笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷的合成方法,其特征在于,在所述的步骤(4)中,
笼型八聚四甲基铵硅酸盐Ⅲ与N,N-二甲基甲酰胺DMF的质量比为7:94;
去离子水与正己烷的体积比为1:1。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510918618.0A CN105418670B (zh) | 2015-12-11 | 2015-12-11 | 笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷及其合成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510918618.0A CN105418670B (zh) | 2015-12-11 | 2015-12-11 | 笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷及其合成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105418670A CN105418670A (zh) | 2016-03-23 |
CN105418670B true CN105418670B (zh) | 2018-02-09 |
Family
ID=55497263
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201510918618.0A Active CN105418670B (zh) | 2015-12-11 | 2015-12-11 | 笼型八聚(乙炔基二甲基硅氧)倍半硅氧烷及其合成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN105418670B (zh) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108841006B (zh) * | 2018-08-20 | 2020-09-29 | 贵阳学院 | 一种具有良好形变回复性能的生物基环氧树脂的制备方法 |
JP7126999B2 (ja) * | 2019-09-06 | 2022-08-29 | 信越化学工業株式会社 | アルキニル基含有環状オルガノポリシロキサン及びヒドロシリル化反応制御剤 |
CN111423586A (zh) * | 2020-05-12 | 2020-07-17 | 哈尔滨工业大学 | 一种硅氢官能团的多面体低聚倍半硅氧烷的合成方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103172657A (zh) * | 2011-12-26 | 2013-06-26 | 北京化工大学 | 含炔基的官能化笼型多面体聚倍半硅氧烷及其制备方法 |
-
2015
- 2015-12-11 CN CN201510918618.0A patent/CN105418670B/zh active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103172657A (zh) * | 2011-12-26 | 2013-06-26 | 北京化工大学 | 含炔基的官能化笼型多面体聚倍半硅氧烷及其制备方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Curing and Thermal Behaviors of Inorganic–Organic Hybrid Polyarylacetylene Resins with Polyhedral Oligomeric Octa(propargylaminophenyl)silsesquioxane;Haibo Fan et al.;《J. APPL. POLYM. SCI.》;20121025;第4361-4367页 * |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN105418670A (zh) | 2016-03-23 |
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