CN105274501A - 一种金刚石膜抛光装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种金刚石膜抛光装置，包括封闭的容器，所述容器下端设有支撑腿支撑于地面，容器侧面设有水冷装置，所述的水冷装置前端部插入容器内，所述的水冷装置前端设有铝板制成的阴极，阴极连接直流电源，阴极外侧设有绝缘层，在阴极对面设有托架，金刚石膜设置于托架上，所述的托架上还连接电热偶，形成电子束，所述的容器下端设有气泵，气泵连接气源，气源为氧气和氢气。本发明采用离子体通过阴极表面时将产生弯曲，使之在工件与阴极之间产生半聚焦的电子束，同时容器保持一定的真空度，电子束辅助等离子体加工可用于处理最小厚度仅为5μm的极薄金刚石膜，加工速度约为10～40nm/min。
Description
技术领域
本发明涉及金刚石加工技术领域，具体属于一种金刚石膜抛光装置。
背景技术
近年来，低压化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜技术得到迅速发展,研究开发了诸如灯丝热解CVD法、微波等离子体CVD法、直流等离子体喷射CVD法和燃焰法等多种金刚石薄膜合成方法。根据不同的沉积方法和沉积条件，在1～980μm/h的沉积速度下，可得到厚度为0.5～1000μm的薄(厚)膜，可沉积出直径达300mm的大面积金刚石膜，为金刚石膜的广泛应用奠定了基础。
由于气相沉积的金刚石膜为多晶膜，晶粒较多，表面凸凹不平，在许多情况下不能直接使用，因而金刚石膜的光整加工(抛光)是必不可少的重要工艺步骤。由于金刚石膜硬度高、厚度薄、整体强度低，因此抛光效率低，且膜极易破裂及损伤，加工难度较大。
发明内容
针对上述问题，本发明的目的是提供了一种金刚石膜抛光装置，采用离子体通过阴极表面时将产生弯曲，使之在工件与阴极之间产生半聚焦的电子束，同时容器保持一定的真空度，电子束辅助等离子体加工可用于处理最小厚度仅为5μm的极薄金刚石膜，加工速度约为10～40nm/min。
本发明采用的技术方案如下：
一种金刚石膜抛光装置，包括封闭的容器，所述容器下端设有支撑腿支撑于地面，所述的容器侧面设有水冷装置，所述的水冷装置前端部插入容器内，所述的水冷装置前端设有铝板制成的阴极，阴极连接直流电源，阴极外侧设有绝缘层，在阴极对面设有托架，金刚石膜设置于托架上，所述的托架上还连接电热偶，形成电子束，所述的容器下端设有气泵，气泵连接气源，气源为氧气和氢气。
所述的容器上端面上设有观察口。
所述的水冷装置为铜制成的冷却套，冷却套上设有进水口和出水口。
所述的容器内设有压力传感器。
所述的阴极铝板具有圆弧面，圆弧直径为72mm，曲率为200mm。
与已有技术相比，本发明的有益效果如下：
本发明采用离子体通过阴极表面时将产生弯曲，使之在工件与阴极之间产生半聚焦的电子束，同时容器保持一定的真空度，电子束辅助等离子体加工可用于处理最小厚度仅为5μm的极薄金刚石膜，加工速度约为10～40nm/min。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式
参见附图，一种金刚石膜抛光装置，包括封闭的容器1，所述容器1下端设有支撑腿101支撑于地面，所述的容器1侧面设有水冷装置2，所述的水冷装置2为铜制成的冷却套，冷却套上设有进水口201和出水口202；所述的水冷装置2前端部插入容器1内，所述的水冷装置前端设有铝板制成的阴极3，阴极铝板具有圆弧面，圆弧直径为72mm，曲率为200mm，阴极连接直流电源4，阴极外侧设有绝缘层301，在阴极对面设有托架4，金刚石膜5设置于托架4上，所述的托架上还连接电热偶6，形成电子束，所述的容器1下端设有气泵7，气泵连接气源，气源为氧气和氢气，容器上端面上设有观察口102；所述的容器内设有压力传感器8，传感器连接控主制板，主控板连接气泵，并控制气泵。采用离子体通过阴极表面时将产生弯曲，使之在工件与阴极之间产生半聚焦的电子束，同时容器保持一定的真空度，电子束辅助等离子体加工可用于处理最小厚度仅为5μm的极薄金刚石膜，加工速度约为10～40nm/min。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (5)
1.一种金刚石膜抛光装置，包括封闭的容器，所述容器下端设有支撑腿支撑于地面，其特征在于：所述的容器侧面设有水冷装置，所述的水冷装置前端部插入容器内，所述的水冷装置前端设有铝板制成的阴极，阴极连接直流电源，阴极外侧设有绝缘层，在阴极对面设有托架，金刚石膜设置于托架上，所述的托架上还连接电热偶，形成电子束，所述的容器下端设有气泵，气泵连接气源，气源为氧气和氢气。
2.根据权利要求1所述的一种金刚石膜抛光装置，其特征在于：所述的容器上端面上设有观察口。
3.根据权利要求1所述的一种金刚石膜抛光装置，其特征在于：所述的水冷装置为铜制成的冷却套，冷却套上设有进水口和出水口。
4.根据权利要求1所述的一种金刚石膜抛光装置，其特征在于：所述的容器内设有压力传感器。
5.根据权利要求1所述的一种金刚石膜抛光装置，其特征在于：所述的阴极铝板具有圆弧面，圆弧直径为72mm，曲率为200mm。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201510627303.0A CN105274501A (zh) | 2015-09-25 | 2015-09-25 | 一种金刚石膜抛光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201510627303.0A CN105274501A (zh) | 2015-09-25 | 2015-09-25 | 一种金刚石膜抛光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN105274501A true CN105274501A (zh) | 2016-01-27 |
Family
ID=55144309
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| CN201510627303.0A Pending CN105274501A (zh) | 2015-09-25 | 2015-09-25 | 一种金刚石膜抛光装置 |
Country Status (1)
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| CN (1) | CN105274501A (zh) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1562566A (zh) * | 2004-04-06 | 2005-01-12 | 北京工业大学 | 金属结合剂砂轮在线电解磨削修整法及其装置 |
| CN101294274A (zh) * | 2008-05-19 | 2008-10-29 | 牡丹江师范学院 | 低成本生长高品质纳米金刚石膜的方法 |
| CN101298122A (zh) * | 2008-05-09 | 2008-11-05 | 浙江工业大学 | 一种复杂型面刀具的加工方法 |
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2015
- 2015-09-25 CN CN201510627303.0A patent/CN105274501A/zh active Pending
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| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
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