CN105121130A - 用于pet预制件的加热系统 - Google Patents

Abstract

本发明描述了一种用于加热预制件（20）的加热系统（10）和对应的方法。所述预制件具有瓶颈（22）、至少一个侧壁（24）和底部（26）。加热系统（10）包括输送系统，其包括握持设备（70），以优选地在预制件（20）的瓶颈（22）处持住至少一个预制件（20），所述输送系统适配于输送加热系统（10）内的预制件（20）。加热系统还包括光提供安排，其具有用于加热预制件的侧壁（24）的至少一个激光辐射生成单元（30）；以及用于直接加热预制件的底部（26）的照明装置。加热系统（10）使得能够实现对于预制件的底部（26）进行改进的加热，从而增强PET吹瓶的灵活性。

Description

用于PET预制件的加热系统

发明技术

本发明涉及在吹瓶过程中用于加热PET预制件的加热系统和在吹瓶过程中加热PET预制件的对应的方法。

背景技术

US2012/0160822A1公开了一种加热由半径、材料厚度、和材料吸收光谱表征的预制件的方法，所述方法包括以下步骤：取决于想要的温度廓线（temperatureprofile）,基于预制件半径和材料厚度选择对于预制件的想要的有效吸收系数；生成激光辐射光束，其包括具有基于吸收光谱的吸收系数被编制以满足有效吸收系数的波长光谱的辐射；以及将激光辐射光束引导到预制件，以加热预制件。

FR2976841A1公开了一种借助于电磁辐射而加热塑料材料的预制件以用于从形成的预制件产生空心体的方法。

EP2425959A1公开了一种包括加热通道的设备，其具有主要辐射器，该主要辐射器以发射最大值来发射波长范围中的电磁辐射。另外，提供了次要辐射器，其以另一发射最大值来发射另一波长范围中的电磁辐射。所描述的方法只提供有限的可能性来将加热过程适配于所处理的预制件的最后的形式。

发明内容

因此，本发明的目的是提供在吹瓶过程期间加热预制件的改进的加热系统和对应的方法。

按照第一方面，呈现了用于加热具有瓶颈、至少一个侧壁和瓶底的预制件的加热系统，加热系统包括具有用于优选地在预制件的瓶颈处持住至少一个预制件的握持设备的输送系统。输送系统适配于输送加热系统内的预制件。加热系统还包括光提供安排。所述光提供安排包括用于加热预制件的侧壁的至少一个激光辐射生成单元；以及用于直接加热预制件的底部的照明装置。

激光辐射生成单元包括一个或多个激光器（优选地，一个或多个激光器阵列）并发射基本上垂直于预制件的假想轴、延伸穿过握持设备（例如，在圆柱体预制件的情形下圆柱体的轴）的激光。激光辐射生成单元的激光器由此可以优选地被集成在加热系统的侧面或侧壁处中，从而围合预制件通过加热系统的路径。优选类型的激光器是发射红外（IR）激光的垂直空腔表面发射激光器（VCSEL）。VCSEL可以在晶片尺度过程中产生，这样，可以以有利的价格提供高质量激光器，并且尤其是激光器阵列。而且，VCSEL确实具有优点：IR辐射可被调谐到优选地只被预制件吸收的波长区域。

激光辐射生成单元或加热系统包括驱动器，其用于驱动激光辐射生成单元，以便生成适配于吹瓶过程的加热程序。在这方面，瓶子意味着可以基于预制件产生的任何种类的容器。激光辐射生成单元可包括两个、三个、四个或更多的激光器阵列，它们可以借助于驱动器被独立地驱动。驱动器由此可以适配于激光器或阵列的驱动部分。以便于使得能够进行瓶子加热，并且最终，吹瓶过程适配于所打算的瓶子形式。

为了将加热廓线进一步适配于PET预制件的形状和所打算的瓶子形式，加入了照明装置。对于许多PET瓶子的形状而言，尤其是预制件的瓶底区域必须被吹伸到极限，允许达到特殊的、客户要求的直立、凹陷等等。因此，预制件的瓶底区域的温度是吹瓶过程的最关键参数之一，这使得高度希望的是，能对积聚的能量进行更好的控制。照明装置由此提供对于预制件的底部的直接加热。光并且由此热可以直接积聚在预制件的底部，这允许了限定的局部加热。直接加热意味着光达到预制件的底部，而不用之前与预制件交互（例如，由预制件指引或折射的光）。直接加热可以由此使得能够实现由照明装置提供的加热廓线在加热和吹瓶过程后适配于所打算的瓶子底部的形式。

照明装置适配于从激光辐射生成单元独立地加热预制件的底部。后者可以通过使用以将所发射的光引导至预制件的底部方式来安排的一个或者多个光源而被安排。所发射的光可以直接达到预制件的底部，或其可以借助于如镜子之类的反射设备来指引。预制件的直接照射可以借助于被集成在握持设备中的一个或者多个光源或被放置在预制件的底部下面的一个或者多个光源而被生成。预制件的底部的间接照射可以由类似于激光辐射生成单元的、被集成在加热系统的侧面的光源生成。光可以垂直于预制件的轴被发射，以及借助于一个或多个反射设备被重新引导到预制件的底部，这样，使得能够实现以所限定的加热廓线直接加热预制件的底部。光辐射可以可替换地相对于由激光辐射生成单元的激光器所发射的激光而倾斜。倾斜的角度可以取决于激光器的位置，例如，离加热系统的底部的距离。

用于照明设备的一个或者多个光源可以是传统的卤素灯或如用于激光辐射生成单元的激光器或激光器阵列。虽然基于灯的解决方案可能会更简单和更便宜的，但它具有缺点：由于卤素灯的宽的IR谱，大多数能量被积聚在预制件的表面层，把这些表面层加热到大于再结晶温度（通常大于140⁰C）的温度，而内部体积仍旧低于120⁰C的目标温度。而且，由于这样的卤素灯的相对较低的加热效率，大多数IR辐射不被用来加热预制件，而用来提高整个加热炉环境的温度。然而，由于在预制件的底部只要求有限量的附加能量，因此，这些缺点可能是可管理的。激光器解决方案可以提供如上面讨论的选择性波长光谱，并且可以具有另外的优点：激光被引导，并且可以以容易的方式被操控。由此，与由传统卤素灯发射的光相比，可以更集中地应用激光。

用来直接加热预制件的底部的光也可以借助于激光辐射生成单元被发射。照明装置在这种情形中包括至少一个反射设备，其适配于把由激光辐射生成单元发射的激光重新引导到预制件的底部。用来驱动激光辐射生成单元的激光器的驱动器在这种情形中也控制用来直接加热预制件的底部的光。这可能具有这样的效果：如果激光辐射生成单元不包括可被独立地控制的几个激光器或激光器阵列，则可能对于用来加热预制件的底部的激光只存在有限的控制。这种情况可以借助于适配于在吹瓶过程后的PET瓶子的最终形式的反射设备而被补偿。在具有可借助于上述驱动器被独立地驱动的几个激光器或激光器阵列的激光辐射生成单元的情形中，照明单元可以仅仅由作为反射设备（如镜子）的无源光学单元组成。

反射设备可包括至少一个镜面反射表面、漫反射表面或其组合。镜面反射表面（如传统的镜子）可以具有优点：例如，激光器光以定向的方式被反射。由此，在吹瓶过程期间可以更容易在预制件的底部提供所限定的加热廓线。

反射设备可被安排在握持设备下面，这样，预制件可以在反射设备的上面被传送。这种安排可以与激光辐射生成单元相组合地使用，但也可以在如果照明装置包括如与激光辐射生成单元的激光器无关的激光器那样的光源（例如，在预制件下面的（一个或者多个）激光器、与握持设备组合的或被集成在握持设备中的（一个或者多个）激光器和/或被集成在与激光辐射生成单元无关地操作的加热系统的侧壁上的激光器）的情况下使用。

反射设备可以替换地集成在握持设备内。在这种情形中，反射设备可以是在预制件内的、把光重新引导到预制件的底部的镜面反射表面和/或漫反射表面。反射表面可置于从预制件内的握持设备开始延伸的柱子上。反射表面在这种情形中可以是更靠近表面，并且由此更靠近预制件的底部。持住反射表面的柱子本身应当是透明的或反射的，以便使得由它吸收的辐射能量最小化。底部的加热甚至可以通过把反射表面的形状以如下方式来安排而进行改进，即：使得预制件的底部的加热适配于所打算的瓶子形状，尤其是在加热和吹瓶过程后的所打算的瓶子底部的形状。

在照明装置包括至少一个被安排在握持设备的下面以便直接加热预制件底部的光源的情形中，可能有利的是，光源包括至少第一和第二激光器。第一激光器被安排成加热预制件的底部的第一部分，以及第二激光器被安排成加热预制件的底部的第二部分。使用多于一个的激光器可以具有优点：预制件的底部可以以更限定的方式被加热。加热系统，或更精确地，驱动照明装置的（一个或者多个）光源的驱动器甚至可以被安排成与由第二激光器发射的激光无关地控制由第一激光器发射的激光强度。可以被彼此无关地控制的激光器或激光器阵列可用来几乎逐点地限定预制件的底部的加热廓线。尤其地，包括许多可被独立控制的小的VCSEL的激光器阵列可使得能实现具有高分辨率的激光图案。替换地或附加地，VCSEL或VCSEL阵列的各组可被并行地控制，这样使得能够实现不同的加热区域。如果最后的PET瓶子的形状包括均匀区域（最后的PET瓶子的圆柱部分）和具有例如不规则形状的区域，则被共同控制和单独控制的VCSEL的组合可以是有利的。温度廓线可以被“印记”到预制件的底部，由此允许对于最终的PET瓶底部的设计的更广的选项。激光器或激光器阵列可耦合到检测预制件存在于激光器之上的传感器设备。尤其地，相机可被用来以精确的方式检测位置，这样，每个激光器或每个子阵列的控制可以适配于预制件的位置。对光谱的IR部分敏感的相机甚至可用来检测预制件的底部的加热廓线，以便相应地控制激光器。

照明装置包括至少一个被集成在握持设备中的光源的加热系统可以具有优点：预制件的底部可以以容易的方式直接加热。预制件与一个或者多个光源的相对位置不改变。尤其地，发射定向光的光源（如激光器）可以是有利的。可以提供固定的加热廓线，它可以只随时间改变，以便将热供应适配于预制件，以便使得能够实现所打算的预制件的加热廓线。

光可以借助于类似于上述在反射表面的上下文中的柱子而被提供到预制件的底部附近。柱子可被用作为光导，以把光引导到预制件的底部。替换地，一个或者多个光源（例如，激光器）可以甚至被安排在柱的顶部，靠近预制件的底部，以便在预制件的底部处提供局部热图案。每个激光器可以与光源内的其他激光器无关地控制。替换地或附加地，柱子和在柱子的顶端处的光源可以是对某些类型的预制件和/或底部形状专用的。柱子由此可以是握持设备的可替换部分。

按照另外的方面，提供了加热具有瓶颈、至少一个侧壁和底部的预制件的方法，该方法包括以下步骤：

-借助于作为输送系统的一部分的握持设备来持住至少一个预制件，

-借助于加热系统内的输送系统，输送预制件，

-借助于光提供安排来加热预制件，其中所述光提供安排包括：

　　-至少一个激光辐射生成单元，其用于加热预制件的侧壁，以及

　　-照明装置，其用于独立地加热预制件的底部。

该方法还包括与照明装置无关地控制激光辐射生成单元以便改进预制件的底部的加热廓线的步骤。可能甚至有可能的是，以如下的方式控制照明装置，即：预制件的至少第一部分和第二部分被彼此无关地加热，其可以使得能够实现瓶子底部的多种多样的形状，并且从而，实现瓶子的多种多样的形状。

将理解，权利要求1的加热系统和权利要求12的方法具有类似的和/或相同的实施例，特别地，如在从属权利要求中限定的。

将会理解，本发明的优选实施例也可以是从属权利要求与相应独立权利要求的任何组合。

另外的有利的实施例在下面限定。

附图说明

从此后描述的实施例将使得本发明的这些和其他方面显而易见，并且参照这些实施例阐述本发明的这些和其他方面。

现在将作为例子，参照附图，基于实施例描述本发明。

在图中：

图1示出了按照本发明的加热系统的第一实施例的示意性截面图。

图2示出了按照本发明的加热系统的第二实施例的示意性截面图。

图3示出了按照本发明的加热系统的第三实施例的示意性截面图。

图4示出了按照本发明的加热系统的第四实施例的示意性截面图。

图5示出了按照本发明的加热系统的第五实施例的示意性截面图。

图6示出了按照本发明的加热系统的第六实施例的示意性截面图。

图7示出了按照本发明的加热系统的第七实施例的示意性截面图。

图8示出了按照本发明的加热系统的第八实施例的示意性截面图。

图9示出了按照本发明的加热系统的第九实施例的示意性截面图。

在图中，贯穿全文，相同的数字指相同的对象。图中的对象不一定按比例画出。

具体实施方式

现在将借助于附图描述本发明的各种实施例。

图1和2描绘了按照本发明的加热系统10的第一和第二实施例的示意性截面图。用于加热预制件20的加热系统10包括用于加热预制件的侧壁24的激光辐射生成单元30。预制件借助于握持设备（未示出）被持住。对于直接加热预制件的底部而言，有两种可能的方法是可想象到的：或者是提供图2中描绘的非激光45的传统卤素灯40，或者是某种类型的高功率激光器阵列50（如VCSEL阵列），其提供加热炉或加热系统10中的其余部分所采用的激光55，如图1所描绘的。虽然基于灯的解决方案可能会更简单和更少花费，但它带来如以上讨论的缺点。然而，由于只要求有限量的附加能量，鉴于成本，这些缺点（如低效率和不打算的对环境的加热）并且由此加热系统10可以是可接受的。

另一方面，激光器解决方案供应了许多附加选项。通过采用分段的热源，有可能的是，仅仅接通实际上处在预制件20的下面的那些激光器（因此，使得设置可适配于变化的预制件宽度）。而且，通过对不同的激光器分段选择不同的操作功率，甚至连温度廓线可被“印记”在预制件的底部26，因此，允许对于最后的PET瓶底部的设计的更广的选项。最后，采用可更好控制的激光器（代替于卤素灯）将有助于避免预制件螺纹（在所描绘的加热炉设计中其处在预制件的瓶颈22）过热。

图3和4示出了按照本发明的加热系统的第三和四实施例的示意性截面图。

如果不采用附加热源，则在许多情形中，将有可能利用激光辐射生成单元30的现有高功率VCSEL阵列来直接加热预制件的底部26。典型地，吹瓶的加热炉并且由此加热系统10将安装激光器模块，其具有比对于大多数使用的预制件20所必须的高度更高的高度。这样，加热炉具有加热很大范围的预制件高度的灵活性。由此，如果加热短于最大模块长度的预制件20，则剩余的较低的激光区域可被用来直接加热预制件底部。

这可以最方便地由作为平面重新引导镜61的反射设备来实现。这种镜61应当被安排成与加热炉的壁成接近45⁰的角度。通过适当地选择要操作的附加激光区域，可以照射预制件底部的精确宽度，而不会存在对自由空间的另外的能量损失。在图3中，激光辐射生成单元30的所有激光器或激光器阵列被用来加热预制件20。取决于安排的几何关系（在激光器之间的距离、与预制件20的距离以及加热炉或加热系统10的宽度），可能甚至有可能的是,在直接照射预制件的区域与经由镜61照射预制件的底部26的区域之间的某些区域被关断（=“裂缝”），如图4所描绘的。由图4的中间箭头和图4的上部的点线箭头所描绘的、照射预制件的底部26的右侧的激光器之间的激光器被关断。在这种安排的改进中，要被接通的附加激光区域的实际数目和位置可以根据加热设备10的已知尺度和预制件20的用户供应的几何关系来自动确定。作为一个例子，裂缝的尺寸并且甚至相对于直接照射预制件的侧壁24的区域的功率电平设置的、对于用于加热预制件的底部26的附加区域的功率电平设置可以由包括激光辐射生成单元30的驱动器的加热系统10的控制单元进行计算。

图5和6示出了按照本发明的加热系统的第五和第六实施例的示意性截面图。

作为图3和4中示出的概念的变例，也可以采用抛物柱面镜63。这样的安排将把来自附加区域的激光55聚焦在例如预制件的半球底部26的中心上。这样，可以预期由于预制件的底部26的折射而造成的较少的不均匀性。这种概念的小缺点可能在于，预制件的底部26的仅仅一半可以被这样照射。然而，由于预制件20在其通过加热系统10的过程期间围绕其长轴恒定地旋转，所以这个缺点应当会在完整的加热过程中消失。在图6中示出的另一个实施例中，抛物柱面镜63（用于远离辐射激光器单元30的预制件20的部分）可以与离激光辐射生成单元30的激光器较近的、用于预制件部分的平面镜61相组合，以便与图5所示的安排相比进一步减轻这种缺点。这样的安排将供应某些更多的控制选项，以通过平衡多少辐射被聚焦和多少辐射沿预制件20的长轴传递而实现在预制件的底部26中的想要的温度廓线。

图7和8示出了按照本发明的加热系统10的第七和第八实施例的示意性截面图。

每个预制件20在其通过加热系统10的过程中被握持设备70持住。这个握持设备70典型地由具有某些镶嵌o形环的金属组成，以提供对于预制件20的良好的紧握。经由这个握持设备70，也实现了预制件的旋转。握持设备的底部表面接近于预制件的瓶颈22的平面。当握持设备70的这个底部表面配备有反射涂层时，在加热炉空腔中更多的辐射将被反射回预制件20，并且尤其是预制件的底部26（代替于被握持设备70吸收，其如今需要附加的冷却来防止过热）。

一般地，这样的反射涂层可以分成两种类型。如图7所示的提供镜面反射区域65的反射涂层将按照简单的反射定律（入射角等于出射角）反射辐射。这样的涂层将在与图1、图3和图4描述的、或多或少将小角度的辐射引导向预制件的底部26的措施相组合时是特别有用的。但对于以更大角度进行的辐射而言，这样的镜子也将改进加热系统10的总体效率。

另一种类型的反射涂层将提供漫反射区域62，如图8中所描绘的。主要地，这样的涂层具有较小的全反射角度。然而，在特殊的情形中（例如，对于Lambertian漫反射器），漫反射的辐射具有垂直于反射表面的优选方向。由此，虽然这样的反射涂层将不会把来自预制件的底部26区域的所有辐射反射回预制件的底部26，但它将重新引导来自加热系统10的其他部分的辐射的大部分。总计而言，这与只能利用已经来自右面方向的辐射的镜面反射器的情形相比仍旧可以增大在预制件的底部26积聚的能量。

在图7和8中示出的两个替换方案也可以与从握持设备70延伸到预制件的底部26的柱子相组合地使用。靠近预制件的底部26的柱子尖端可包括漫反射区域62和/或镜面反射区域65，其把光反射到预制件的底部26。柱子可使得能实现辐射的更高效使用，因为由反射区域62、65反射的辐射的大部分可以重新引导到预制件的底部26。而且，反射区域62、65的形状可以被适配成所打算的底部形状，以使得在预制件的底部26提供预定义的加热图案。可能有利的是，柱子或握持设备70可以是可交换的（例如，具有螺纹的柱子），以便于取决于所打算的底部形式提供不同的加热廓线。为了避免能量被柱子本身（在反射区域62、65与握持设备70之间的空间中）过分吸收，柱子可以由反射涂层来涂覆，或由对激光辐射透明的材料制成。

漫反射涂层的想法也可以被应用于加热系统10的底部镜子。通过使用如上所述相同的理由，这也可以增大在预制件的底部26积聚的能量总量。为了避免在没有预制件20的区域中的能量损失，底部镜甚至可以是镜面镜（在没有预制件20的区域下面）和漫反射镜64（在预制件20下面）的组合，如图9所示。这样，在例如加热系统的拐角中的杂散辐射将被重新引导到主要体积中，而加热预制件20的底部的辐射将主要地被直接重新引导到预制件的底部26，以便提供改进的加热廓线。

当然，在实际的加热系统10中，这些措施中的几种措施可以被组合。在握持设备70中的镜面涂层和附加源或镜子的组合已经提及。但用于加热系统的某些长度的（例如，加热炉的一半，如果这个热源长度是足够的话）、在底部的附加热源与用于加热炉的其余部分的、在加热系统的底部处的漫反射镜64的组合看来也是可行的。这样，用于另一热源的附加成本是有限的，而同时用于加热预制件的底部26的效果可以最大化。另一组合可以是漫反射镜64，其与预制件的底部26一致地定形（例如，围绕预制件的底部半球为中心的半球），由此，其将优选地将所有辐射反射到预制件的底部。像被集成在握持设备70中的激光器那样的光源和在预制件20的底下的反射设备的组合也可以被用来使得加热廓线最佳化。反射设备的形状在这种情形中可以适配于预制件20内的激光器位置。所呈现的想法的其他组合同样是可行的。

虽然在附图和前述描述中详细地图示和描述了本发明，但这样的图示和描述应当被看作为说明的或示例性的，而不是限制。

通过对本公开内容进行阅读，其他修改对于本领域技术人员将是显而易见的。这样的修改可以涉及在技术上已知的和可被用来代替这里已描述的特征或除了这里已描述的特征以外的其他特征。

通过学习附图、公开内容和所附权利要求，本领域技术人员可以理解和实现对于所公开的实施例的变例。在权利要求中，单词“包括”不排除其他元件或步骤，而不定冠词“一”或“一个”不排除多个元件或步骤。某些措施在互相不同的从属权利要求中被阐述的单纯事实并不指示着这些措施的组合不能被加以利用。

在权利要求中的任何参考标号不应当被解读为限制本发明的范围。

标号列表

10加热系统

20预制件

22预制件的瓶颈

24预制件的侧壁

26预制件的底部

30激光辐射生成单元

40卤素灯

45非激光

50激光器阵列

55激光

61镜子

62漫反射区域

63抛物面镜

64漫反射镜

65镜面反射区域

70握持设备

150集成在加热系统侧面中的激光器阵列

Claims (13)

1.一种用于加热具有瓶颈（22）、至少一个侧壁（24）和底部（26）的预制件（20）的加热系统（10），所述加热系统（10）包括：

-输送系统，其包括用于持住至少一个预制件（20）的握持设备（70），所述输送系统适配于输送加热系统（10）内的预制件（20），以及

-光提供安排，所述光提供安排包括：

　　-至少一个激光辐射生成单元（30），其用于加热预制件的侧壁（24），以及

　　-照明装置，其用于直接加热预制件的底部（26），其中所述照明装置适配于与激光辐射生成单元（30）无关地加热预制件（20）的底部。

2.按照权利要求1的加热系统（10），其中所述照明装置包括至少一个反射设备（61,62,63,64,65），其适配于重新引导由激光辐射生成单元（30）和/或所述照明装置发射的激光（55）。

3.按照权利要求2的加热系统（10），其中所述反射设备（61,63,64）被安排在握持设备（70）的下方，这样，预制件（20）可在反射设备上方输送。

4.按照权利要求2的加热系统（10），其中所述反射设备（62,65）是所述握持设备（70）的一部分。

5.按照权利要求2的加热系统（10），其中所述反射设备包括至少一个镜面反射区域（61,63,65）和/或至少一个漫反射区域（62,64）。

6.按照权利要求2的加热系统（10），其中所述反射设备（63）适配成从预制件（20）产生的容器的所打算的形状。

7.按照权利要求1的加热系统（10），其中所述照明装置包括至少一个光源（40,50），其被安排在握持设备（70）的下方，所述光源（40,50）被安排成直接加热预制件的底部（26）。

8.按照权利要求7的加热系统（10），其中所述光源包括底部激光辐射生成单元（50），其至少包括第一和第二激光器，其中第一激光器被安排成加热预制件的底部（26）的第一部分，以及第二激光器被安排成加热预制件的底部（26）的第二部分。

9.按照权利要求8的加热系统（10），其中所述加热系统（10）被安排成与由第二激光器发射的激光（55）无关地控制由第一激光器发射的激光（55）的强度。

10.按照权利要求1的加热系统（10），其中所述照明装置包括耦合到握持设备（70）的至少一个光源，所述光源被安排成直接加热预制件的底部（26）。

11.按照权利要求10的加热系统（10），其包括从握持设备（70）延伸的柱子，所述柱子适配成向预制件（26）提供由光源发射的光的局部光分布。

12.一种加热具有瓶颈（22）、至少一个侧壁（24）和底部（26）的预制件（20）的方法，所述方法包括以下步骤：

-借助于作为输送系统的一部分的握持设备（70），持住至少一个预制件（20），

-借助于加热系统（10）内的输送系统，输送预制件（20），以及

-借助于光提供安排，加热预制件(20)，其中所述光提供安排包括：

　　-至少一个激光辐射生成单元（30），其用于加热预制件的侧壁（24），

　　-照明装置，其用于加热预制件的底部（26），以及

　　-与所述照明装置无关地控制激光辐射生成单元（30）。

13.按照权利要求12的方法，其包括以下步骤：

-以如下这样的方式控制照明装置，即：预制件的底部（26）的至少第一部分和第二部分被无关地加热。