CN105051581A - 光波导以及电子设备 - Google Patents

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CN105051581A CN201480017773.9A CN201480017773A CN105051581A CN 105051581 A CN105051581 A CN 105051581A CN 201480017773 A CN201480017773 A CN 201480017773A CN 105051581 A CN105051581 A CN 105051581A
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Abstract

本发明提供一种光波导，其具有形成有芯部的芯层、层叠于上述芯层的一面的第一被覆层、层叠于上述芯层的另一面的第二被覆层以及分别贯通上述第二被覆层以及上述芯层直至上述第一被覆层的空洞部，上述光波导的特征在于，上述空洞部的内壁面的一部分由相对于包含上述芯层与上述第一被覆层的界面的平面倾斜且交叉的倾斜面构成，在上述平面中，上述倾斜面与上述内壁面的、同上述倾斜面连续的其他部分的连接部的最小曲率半径为1～500μm。

Description

光波导以及电子设备
技术领域
本发明涉及光波导以及电子设备。
本申请主张于基于2013年3月29日在日本申请的特愿2013-075387号以及于2013年11月26日在日本申请的特愿2013-243997号的优先权，并在此引用其内容。
背景技术
近年来，作为用于将光信号从一个地点导向其它地点的手段，光波导逐渐普及。该光波导具有线状的芯部以及设置为覆盖芯部的周围的被覆部。芯部由相对于光实质上透明的材料构成，被覆部由折射率比芯部低的材料构成。
在光波导中，从芯部的一端导入的光在芯部与被覆部的边界边进行反射边被向另一端输送。在光波导中，在光的入射侧配置有半导体激光器等发光元件，在光的出射侧配置有光电二极管等受光元件。从发光元件射出的光向光波导入射并在光波导中传播，而后被受光元件接收。基于接收的光的闪烁图案或光的强弱图案进行通信。
例如，若将信号处理基板内的电气配线置换成光波导，则能够期待消除高频噪声的产生、电信号的劣化之类的电信号所特有的课题，从而能够使信号处理基板的进一步的高处理能力化。
为了将电气配线置换成光波导，需要进行电信号与光信号的相互转换。因此，开发了具备发光元件以及受光元件、将发光元件与受光元件之间以光学方式连接的光波导的光波导模块。
例如，在专利文献1中公开了具有印刷电路基板、搭载于印刷电路基板上的发光元件以及设置于印刷电路基板的下表面侧的光波导的光接口。而且，光波导与发光元件之间经由形成于印刷电路基板的用于传送光信号的贯通孔亦即通孔以光学方式被连接。
在上述的光接口中，为了使从发光元件的发光部射出的信号光向光波导的芯部入射，需要利用形成于光波导的反射镜转换光路。
上述的反射镜例如可以由形成为仅横截光波导中的芯部的倾斜面构成，但也可以由专利文献2所记载的、遍布芯与层叠于该芯的被覆层连续地形成的倾斜面构成。在专利文献2公开了在层叠下包层、芯以及上包层后，在它们的一端形成相对于芯的轴向，即长度方向倾斜45°的倾斜面，从而将该倾斜面使用为光波导的光反射面。
专利文献1：日本特开2005-294407号公报
专利文献2：日本特开2012-208306号公报
然而，当在层叠体设置倾斜面的情况下，担心在芯与被覆层之间产生剥离，而使光波导的传送特性降低、反射镜的反射特性降低的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种能够抑制传送特性的降低而进行高品质的光通信的光波导以及具备上述的光波导的电子设备。
上述的目的通过下述(1)～(11)的本发明能够实现。
(1)一种光波导，其具有形成有芯部的芯层、层叠于上述芯层的一面的第一被覆层、层叠于上述芯层的另一面的第二被覆层以及分别贯通上述第二被覆层以及上述芯层直至上述第一被覆层的空洞部，
上述光波导的特征在于，
上述空洞部的内壁面的一部分由相对于包含上述芯层与上述第一被覆层的界面的平面倾斜且交叉的倾斜面构成，
在上述平面中，上述倾斜面与上述内壁面的、同上述倾斜面连续的其他部分的连接部的最小曲率半径为1～500μm。
(2)根据上述(1)所记载的光波导，其特征在于，构成为：
上述空洞部设置于上述芯部或者上述芯部的长度方向的延长线上，
上述倾斜面横截上述芯部的光轴或者其延长线。
(3)根据上述(1)或(2)所记载的光波导，其特征在于，
在上述第二被覆层中的与上述芯层相反的一侧的面的上述空洞部中，上述倾斜面与上述内壁面的、同上述倾斜面连续的其他部分的连接部的最小曲率半径为1～500μm。
(4)根据上述(1)～(3)中任一项所记载的光波导，其特征在于，
在上述第二被覆层与上述芯层的界面的上述空洞部中，上述倾斜面与上述内壁面的、同上述倾斜面连续的其他部分的连接部的最小曲率半径为1～500μm。
(5)根据上述(1)～(4)中任一项所记载的光波导，其特征在于，
具有层叠于上述第二被覆层的与上述芯层相反的一侧的面的覆盖层。
(6)根据上述(1)～(5)中任一项所记载的光波导，其特征在于，
上述空洞部的内壁面包含相对于上述平面以锐角侧的角度为60～90°的角度交叉的直立面。
(7)根据上述(1)～(6)中任一项所记载的光波导，其特征在于，
上述倾斜面相对于上述平面以20～90°的角度交叉。
(8)根据上述(6)或(7)所记载的光波导，其特征在于，构成为：
上述空洞部的内壁面包含两个上述倾斜面以及两个上述直立面，
上述空洞部在其内壁面被上述平面剖切后的剖面中，上述倾斜面彼此以及上述直立面彼此分别对置。
(9)根据上述(6)～(8)中任一项所记载的光波导，其特征在于，
上述直立面沿光波导的长度方向弯曲。
(10)根据上述(1)～(5)中任一项所记载的光波导，其特征在于，构成为：
上述空洞部的内壁面与上述平面之间的角度亦即与上述空洞部侧相反的一侧的角度成为锐角。
(11)一种电子设备，其特征在于，
具备上述(1)～(10)中任一项所记载的光波导。
根据本发明，能够获得能够抑制传送特性的降低而进行高品质的光通信的光波导。
另外，根据本发明，能够获得具备上述的光波导的可靠性较高的电子设备。
附图说明
图1是透过光波导的一部分表示本发明的光波导的第一实施方式的立体图。
图2是图1所示的光波导的俯视图。
图3是示意性地表示图2所示的光波导的凹部(空洞部)被包含芯层与第一被覆层的界面的平面剖切后的开口的俯视图。
图4是示意性地表示图2所示的光波导的凹部(空洞部)的开口的俯视图。
图5是第二实施方式所涉及的光波导的俯视图。
图6是第三实施方式所涉及的光波导的俯视图。
图7是第四实施方式所涉及的光波导的剖视图。
图8是示意性地表示本发明的光波导的制造所使用的激光加工装置的一个例子的立体图。
图9是图示了使激光加工用掩模相对移动而形成凹部的情况的俯视图。
图10是示意性地表示图4所示的凹部的开口的其他构成例的俯视图。
具体实施方式
以下，基于附图所示的优选实施方式对本发明的光波导以及电子设备详细地进行说明。
<光波导>
《第一实施方式》
首先，对本发明的光波导的第一实施方式进行说明。
图1是透过一部分表示本发明的光波导的第一实施方式的立体图，图2是图1所示的光波导的俯视图，图3是示意性地表示图2所示的光波导的凹部(也称为空洞部、槽)被包含芯层与第一被覆层的界面的平面剖切后的开口的俯视图，图4是示意性地表示图2所示的光波导的凹部(空洞部)的开口的俯视图。
图1所示的光波导1呈带状，在光入射部与光出射部之间传送光信号，进行光通信。
图1所示的光波导1具备从下侧层叠被覆层11、芯层13以及被覆层12而成的层叠体10。在芯层13中，形成有长条状的芯部14以及与芯部14的侧面邻接地设置的侧面被覆部15。此外，在图1、图2中，利用虚线等也对能够从被覆层12透视到的芯层13中的芯部14、侧面被覆部15进行图示。
芯部14的宽度以及芯部14的高度(芯层13的厚度)不被特别地限定，但优选为1～200μm左右，更加优选为5～100μm左右。由此，能够实现芯层13的芯部14的高密度化，从而能够提高光波导的光的传送效率。即，能够增多在每个单位面积能够铺设的芯部14的个数，因此即使光波导为小面积，也能够进行大容量的光通信。
此外，形成于芯层13的芯部14的个数不被特别地限定，但例如能够形成1～100条。
另外，光波导1的宽度方向的折射率分布以及厚度方向的折射率分布可以分别为折射率不连续地变化的所谓的阶跃折射率(SI)型的分布，也可以为折射率连续地变化的所谓的缓变折射率(GI)型的分布。
在光波导1设置有将其一部分除去而形成的凹部(空洞部)170。即，光波导1具备层叠体10以及形成于层叠体10的凹部170。图1所示的凹部170位于芯部14的长度方向的中途。凹部170的内侧面的一部分成为相对于芯部14的光轴，即芯部14的长度方向倾斜的倾斜面171。换言之，倾斜面171相对于包含芯层13与被覆层11的界面的平面倾斜且交叉。上述的倾斜面171作为转换芯部14的光路的反射镜(光路转换部)发挥功能。即，由倾斜面171构成的反射镜使在芯部14内从图2的上侧朝向下侧传播的光朝向图2的纸面里侧反射，从而转换传播方向。
凹部170构成为在被与被覆层12的上表面正交且与芯部14的长度方向平行的平面剖切后，其剖面形状呈底部的宽度较窄且开口的宽度较宽的梯形。另外，凹部170也可以构成为在被与被覆层12的上表面正交且与芯部14的长度方向平行的平面剖切时，其剖面形状呈以底部为顶点的三角形。
另外，如图1、图2所示，倾斜面171为在从被覆层12经由芯层13直至被覆层11的中途之间连续形成的平坦面。另外，在凹部170的内侧面中的与倾斜面171对置的位置设置有另一倾斜面172。该倾斜面172也与倾斜面171相同地，为在从被覆层12经由芯层13直至被覆层11的中途之间连续形成的平坦面。
另一方面，凹部170的内侧面中的与芯部14的光轴，即长度方向大致平行的两个面分别为具有与被覆层11的下表面垂直的关系的直立面173、174。该直立面173、174构成为在俯视包含芯层13与被覆层11的界面的平面时，如图2所示，能够观察到稍微弯曲。
由上述的两个倾斜面171、172与两个直立面173、174构成凹部170的内侧面。
若在光波导形成凹部，则往往产生与传送特性、反射特性有关的不希望的不良情况。上述的不良情况在对光波导进行温度循环试验那样的加速试验的情况下以较高的频率产生，因此考虑为伴随着加速试验而带来的负荷，而在光波导产生某些化学方面或者构造方面的问题。
本发明的发明人对在具备上述的凹部的光波导产生不良情况的原因进行专心调查、研究。然后，发现了不良情况的原因在于在凹部附近产生的层间剥离，具体而言在上述的倾斜面附近的芯层与被覆层的界面产生的层间剥离。然后，发现了在凹部的开口部的形状满足规定的条件时，上述的层间剥离的产生被抑制，其结果，能够消除在光波导产生的不良情况，而完成了本发明。
即，在将利用包含光波导1中的芯层13与被覆层11的界面的平面剖切凹部170的内壁面后的凹部170的开口部设为“开口部177”时，开口部177的俯视形状呈由与上述的两个倾斜面171、172对应的直线线段171b、172b以及与直线线段171b、172b邻接(连续)且与上述的两个直立面173、174对应的弧173b、174b构成的椭圆形。而且，各直线线段171b、172b与各弧173b、174b的连接部178的最小曲率半径成为1～500μm(参照图3的曲率半径r2)。
根据具有上述的剖面形状的凹部170，应力在其附近局部的集中被缓和。其结果，能够抑制以应力集中的部位为起点产生龟裂、在凹部170附近的层间产生剥离。其结果，能够获得能够抑制光波导1的传送效率的降低、倾斜面171的反射效率的降低而进行高品质的光通信的光波导1。
此外，最小曲率半径r2优选形成3～400μm左右，更加优选形成5～350μm左右，进一步更加优选形成10～100μm左右，最优选形成20～40μm左右。
若连接部178的最小曲率半径小于上述下限值，则应力容易集中于连接部178，从而产生以此为起点的龟裂、产生层间的剥离的概率增高。另一方面，若连接部178的最小曲率半径大于上述上限值，则导致无法期待进一步的效果，另外，开口部177必然过大，因此产生无法形成较小的凹部170的问题。
此外，所谓连接部178是在图3所示的开口部177中，例如位于与倾斜面171对应的直线线段171b和与直立面173对应的弧173b(其他部分)之间的部分。另外，连接部178更具体而言是指在图3中，在将开口部177的X方向的最大长度设为L1，将直线线段171b的长度设为L2时，开口部177中的从直线线段171b的左侧的终端171b’向左侧具有(L1-L2)/4的宽度，并且包含于与Y方向平行的带状的范围的部分。
与此相同，将图3所示的开口部177的从直线线段172b的左侧的终端172b’向左侧具有(L1-L2)/4的宽度，并且包含于与Y方向平行的带状的范围的部分称为连接部178。
另一方面，图3所示的开口部177的从直线线段171b的右侧的终端171b”向右侧具有(L1-L2)/4的宽度，并且包含于与Y方向平行的带状的范围的部分也为连接部178。
另外，图3所示的开口部177的从直线线段172b的右侧的终端172b”向右侧具有(L1-L2)/4的宽度，并且包含于与Y方向平行的带状的范围的部分也为连接部178。
上述的范围为与倾斜面171、倾斜面172邻接，因此为容易导致倾斜面所特有的应力集中的区域。在本发明中，发现了通过使上述的范围即连接部178特定，并且至少在连接部178规定最小曲率半径，能够更加可靠地抑制层间的剥离。
另外，凹部170呈横截面积逐渐变化的四棱锥那样的形状，因此作为凹部170的开放端的开口部175处于面积比开口部177大，且与开口部177大致相似的关系或者压缩或伸长开口部177的一部分的类似关系。因此，图2所示的凹部170的开口部175的俯视形状呈由倾斜面上端171a、172a与直立面上端173a、174a构成的椭圆形，其中倾斜面上端171a、172a由与上述的两个倾斜面171、172对应的直线线段构成，直立面上端173a、174a由与上述的两个直立面173、174对应的弧构成。因此，即使在该开口部175中，各倾斜面上端171a、172a与各直立面上端173a、174a的连接部176也优选成为曲线。由此，上述的效果更加显著。即，在凹部170附近，在产生伴随着构造的变化、热变化等的应力时，该应力也难以集中于连接部176。其结果，能够抑制伴随着应力集中而产生以连接部176为起点的龟裂、在连接部176附近的层间产生剥离。其结果，能够获得能够更加抑制光波导1的传送效率的降低、倾斜面171的反射效率的降低而进行高品质的光通信的光波导1。
在该情况下，连接部176的最小曲率半径r1(参照图4)不被特别地限定，但优选为1～500μm左右，更加优选为3～400μm左右，进一步优选为5～350μm左右，进一步更加优选为10～100μm左右，最优选为20～40μm左右。将连接部176的最小曲率半径r1设定于上述范围内，从而能够特别地缓和连接部176的应力集中，进而能够抑制伴随着应力集中的不良情况的产生。
此外，所谓连接部176是在图4所示的开口部175中，例如位于与倾斜面171对应的倾斜面上端171a和与直立面173对应的直立面上端173a之间的部分。另外，连接部176更具体而言是指在图4中，在将开口部175的X方向的最大长度设为L3，将倾斜面上端171a的长度设为L4时，开口部175的从倾斜面上端171a的左侧的终端171a’向左侧具有(L3-L4)/4的宽度，并且包含于与Y方向平行的带状的范围的部分。
与此相同，将图4所示的开口部175的从倾斜面上端172a的左侧的终端172a’向左侧具有(L3-L4)/4的宽度，并且包含于与Y方向平行的带状的范围的部分称为连接部176。
另一方面，图4所示的开口部175中的从倾斜面上端171a的右侧的终端171a”向右侧具有(L3-L4)/4的宽度，并且包含于与Y方向平行的带状的范围的部分也为连接部176。
另外，图4所示的开口部175中的从倾斜面上端172a的右侧的终端172a”向右侧具有(L3-L4)/4的宽度，并且包含于与Y方向平行的带状的范围的部分也为连接部176。
另外，不仅上述的开口部175、开口部177，例如在被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部、凹部170的底部，与倾斜面171对应的直线线段和与直立面173对应的弧的连接部的最小曲率半径也分别优选为1～500μm左右，更加优选为3～400μm左右，进一步优选为5～350μm左右，进一步更加优选为10～100μm左右，最优选为20～40μm左右。由此，在光波导1中，能够更加可靠地抑制伴随着应力集中的不良情况的产生。
此外，开口部177的连接部178以外的部分的最小曲率半径也可以不必在上述范围内，但若在上述范围内，则不仅各连接部，即使在也包含与倾斜面对应的线段、与直立面对应的弧的开口部整体(底部整体)，优选最小曲率半径也在上述范围内。由此，在光波导1中，能够更加可靠地抑制伴随着应力集中的不良情况的产生。
此外，凹部170的形状优选呈大致四棱锥状，但未必限定于上述的形状，在该情况下，开口部177与开口部175的形状也可以相互不同。
另外，将开口部177、开口部175的整体形状形成上述的椭圆形，从而上述效果更加显著。即，将开口部177、开口部175的形状形成椭圆形，从而即便在假设对光波导1施加沿长度方向伸缩的外力的情况下，也能够通过开口部177、开口部175的形状作用，特别地缓和应力向连接部176的集中。因此，将连接部178、连接部176形成上述那样的曲线，并且将开口部177、开口部175的形状形成椭圆形，从而能够特别地抑制伴随着应力集中的不良情况的产生。此外，所谓本说明书的“椭圆形”是指在圆周的一部分包含直线部分的圆。
另外，开口部175的整体形状不限定于椭圆形，倾斜面上端171a以外的部分也可以呈任意的形状，例如能够列举四边形、五边形、六边形那样的多边形。该情况在开口部177中也相同。
另外，倾斜面171作为反射镜发挥功能，因此能够与转换芯部14的光路的方向对应地适当设定其倾斜角度，但在以芯层13的下表面为基准面时，基准面与倾斜面171所成的角度(锐角侧)优选为30～60°左右，更加优选为40～50°左右。将倾斜角度设定于上述范围内，从而能够在倾斜面171中高效地转换芯部14的光路，进而能够抑制伴随着光路转换的损失。
另外，基准面与倾斜面172所成的角度(锐角侧)不被特别地限定，但优选为20～90°左右，更加优选为30～60°左右，进一步优选为40～50°左右，最优选形成与倾斜面171的倾斜角度相同。由此，当在凹部170附近产生应力时，应力分布均匀，从而还能够特别地抑制伴随着应力集中的不良情况的产生。此外，所谓基准面与倾斜面171、172所成的角度(锐角侧)是指基准面与倾斜面171、172所成的角度中的与凹部170侧相反的一侧的角度。
在第一实施方式中，直立面173、174与包含芯层13与被覆层11的界面的平面正交。然而，基准面与直立面173、174所成的角度(锐角侧)不限定于此，分别优选形成60～90°左右，更加优选形成70～90°左右，进一步优选形成80～90°左右。将基准面与直立面173、174所成的角度设定于上述范围内，从而能够特别地抑制施加于被覆层11与芯层13的界面的应力。此外，在各图中，基准面与直立面173、174所成的角度图示为大致90°。另外，所谓基准面与直立面173、174所成的角度(锐角侧)是指基准面与直立面173、174所成的角度的与凹部170侧相反的一侧的角度。
将上述的凹部170占据的宽度抑制为最小限度，因此在邻接地形成多个凹部170时，能够使其间隔最小化。因此，将基准面与直立面173、174所成的角度限制于上述范围内在相对于以较窄的间距并列设置的芯部14也能够高密度地配置凹部170这点有用。另外，将基准面与直立面173、174所成的角度限制于上述范围内，从而能够特别地抑制在直立面173、174附近因构成各层的材料的物理性能差而引起的应力集中，进而特别地难以产生层间剥离，因此能够特别地提高光波导1的可靠性。
另外，开口部177、开口部175的直立面173、174的形状，即上述的弧173b、174b、直立面上端173a、174a的形状整体成为弯曲形状。形成上述的形状的直立面173、174能够特别地缓和应力的集中。其结果，与开口部177的连接部178、开口部175的连接部176成为上述那样的曲线相互作用，能够更加可靠地抑制凹部170附近的不良情况的产生。
此外，凹部170的最大深度根据层叠体10的厚度而被适当地设定，不被特别地限定，但从光波导1的机械强度、可挠性之类的观点来看，优选形成1～500μm左右，更加优选形成5～400μm左右。
另外，凹部170的最大长度，即图2的凹部170的Y方向的最大长度不被特别地限定，但从与被覆层11、12、芯层13的厚度、倾斜面171的倾斜角度的关系来看，优选形成2～1200μm左右，更加优选形成10～1000μm左右。
并且，凹部170的最大宽度，即图2的凹部170的X方向的最大长度不被特别地限定，与芯部14的宽度等对应地被适当设定，但优选形成1～600μm左右，更加优选形成5～500μm左右。
此外，凹部170也可以相对于一条芯部14设置一个，但也可以相对于多条芯部14以横跨这些芯部的方式设置一个凹部170。
另外，在形成多个凹部170的情况下，这些凹部的形成位置可以为在Y方向相互相同的位置，也可以相互错开。
上述那样的芯层13以及被覆层11、12的构成材料(主材料)，例如可以使用丙烯酸系树脂、甲基丙烯酸系树脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、环氧类树脂、氧杂环丁烷系树脂这样的环状醚系树脂、聚酰胺、聚酰亚胺、聚苯并噁唑、多晶硅烷、聚硅氮烷、硅酮系树脂、氟类树脂、聚氨酯、聚烯烃系树脂、聚丁二烯、聚异丁烯、聚氯丁二烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)这样的聚酯、聚乙二醇、聚砜、聚醚、苯并环丁烯系树脂、降冰片烯系树脂等环状烯烃系树脂这样的各种树脂材料等。此外，树脂材料也可以为组合不同组成的材料的复合材料。这些材料由于加工比较容易，所以优选作为形成有凹部170的芯层13、被覆层11、12的构成材料。
《第二实施方式》
接下来，对本发明的光波导的第二实施方式进行说明。
图5是第二实施方式所涉及的光波导的俯视图。
以下，对第二实施方式进行说明，但在以下的说明中，对与第一实施方式的不同点进行说明，省略对相同的事项的说明。
图5所示的第二实施方式所涉及的光波导1除了凹部170的形成位置不同以外，与第一实施方式所涉及的光波导1相同。
即，图5所示的凹部170形成于芯部14的延长线上的侧面被覆部15。在形成上述的凹部170时，加工被覆层12、侧面被覆部15以及被覆层11，但这些加工处均为由被覆材料构成的部位。因此，在加工各部位时，加工速度等加工条件大致相等。其结果，能够以较高的加工精度实施加工，从而能够特别地提高所形成的凹部170的尺寸精度。因此，根据本实施方式，能够获得具备尺寸精度高的凹部170，从而倾斜面171的反射效率高，并能够进行高品质的光通信的光波导1。
即使在上述的第二实施方式中，也能够获得与第一实施方式相同的作用、效果。
《第三实施方式》
接下来，对本发明的光波导的第三实施方式进行说明。
图6是第三实施方式所涉及的光波导的俯视图。
以下，对第三实施方式进行说明，但在以下的说明中，对与第一实施方式的不同点进行说明，省略对相同的事项的说明。
在上述的第一实施方式所涉及的光波导1中，直立面173、174相对于包含芯层13与被覆层11的界面的平面正交，与此相对，在本实施方式所涉及的光波导1中，这些直立面173、174成为以相对于上述平面倾斜的方式交叉的倾斜面173’、174’。本实施方式所涉及的光波导1除了在该点不同以外，与第一实施方式所涉及的光波导1相同。
上述的凹部170的内侧面由四个倾斜面构成。即，凹部170的内侧面整体构成为与基准面的角度(与凹部170侧相反的一侧的角度)成为锐角。上述的凹部170呈所谓的研钵状，因此比较容易形成。因此，能够容易地形成尺寸精度(倾斜角的精度以及面精度)高的倾斜面171。
即使在上述的第三实施方式中，也能够获得与第一实施方式相同的作用、效果。
《第四实施方式》
接下来，对本发明的光波导的第四实施方式进行说明。
图7是第四实施方式所涉及的光波导的剖视图。
以下，对第四实施方式进行说明，但在以下的说明中，对与第一实施方式的不同点进行说明，省略对相同的事项的说明。
图7所示的第四实施方式所涉及的光波导1除了进一步具备层叠于被覆层11的下表面的支承膜片2以及层叠于被覆层12的上表面的覆盖膜片3以外，与第一实施方式所涉及的光波导1相同。
另外，凹部170构成为贯通覆盖膜片3。因此，倾斜面171成为形成为在从覆盖膜片3分别经由被覆层12以及芯层13直至被覆层11的中途之间连续的平坦面。
即使在上述的第四实施方式中，也能够获得与第一实施方式相同的作用、效果。
另外，根据第四实施方式，倾斜面171也包含覆盖膜片3的剖面，因此具有更宽的面积。因此，容易以更高的精度形成倾斜面171。即，欲加工的面越宽，越能够容易地提高芯部14的剖面的加工精度，因此根据第四实施方式，能够特别地提高反射镜的反射效率。
此外，不仅上述的开口部175、开口部177、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部以及凹部170的底部，即使在覆盖膜片3与被覆层12的界面的凹部170的开口部、被覆层11与支承膜片2的界面的凹部170的开口部，与倾斜面171对应的直线线段和与直立面173对应的弧的连接部的最小曲率半径也分别优选为1～500μm左右，更加优选为3～400μm左右，进一步优选为5～350μm左右，进一步更加优选为10～100μm左右，最优选为20～40μm左右。由此，在光波导1中，能够更加可靠地抑制伴随着应力集中的不良情况的产生。
<光波导的制造方法>
接下来，对本发明的光波导的制造方法进行说明。
图1所示的光波导1能够通过具有以下工序的方法而制造，即依次层叠被覆层11、芯层13以及被覆层12而获得层叠体10的工序以及施加除去层叠体10的一部分的加工从而形成凹部170的工序。
以下，依次对各工序进行说明。
[1]首先，通过(a)依次成膜而制造用于形成被覆层11的组成物、用于形成芯层13的组成物以及用于形成被覆层12的组成物的方法，(b)在使用各组成物分别形成被覆层11、芯层13以及被覆层12后，层叠的方法，(c)同时挤压成形三种组成物而制造层叠体的方法等，获得芯层形成层或者包含芯层形成层的多层构造。
此时，作为用于形成芯层13的组成物，使用具有折射率因曝光而变化的折射率调制能力的材料，仅对该芯层形成层实施曝光处理，能够获得包含以所希望的图案铺设的芯部14的芯层13。
此外，芯层13的制造方法不限定于上述的方法，例如反复进行成膜工序与组合光刻技术与蚀刻技术的刻画图案工序，从而能够获得包含以所希望的图案铺设的芯部14的芯层13。
[2]接下来，实施除去层叠体10的一部分的加工。由此，形成有凹部170，从而能够获得光波导1。在凹部170的形成方法中，能够列举各种方法。例如，除了切削加工、磨削加工之类的机械加工法之外，还能够列举激光加工法、电子束加工法、压印法等。其中，根据激光加工法，能够比较容易地形成尺寸精度较高的凹部170。以下，以此为代表，对通过激光加工法形成凹部170的方法进行说明。
图8是示意性地表示本发明的光波导的制造所使用的激光加工装置的一个例子的立体图，图9是图示了使激光加工用掩模相对地移动而形成凹部的样子的俯视图。
图8所示的激光加工机(激光加工装置)900具备未图示的激光光源、配置于激光的光轴上的激光加工用掩模910以及隔着激光加工用掩模910配置于与激光光源相反的一侧并使层叠体10相对于激光加工用掩模910相对地移动的未图示的驱动工作台。以下，对激光加工机900的各部的结构进行详述。
激光光源与振荡的激光的波长对应地适当选择，但例如能够列举YAG激光器、YVO4激光器、Yb激光器、半导体激光器那样的各种固体激光器、CO2激光器、He-Ne激光器、受激准分子激光器那样的各种气体激光器等。
另外，激光的波长与层叠体10的构成材料对应地被适当设定，例如能够形成150～950nm左右。
作为驱动工作台，例如能够使用X-Y工作台、线性促动器等。使载置于驱动工作台上的层叠体10相对于激光加工用掩模910相对地移动，从而能够使激光的照射区域相对于层叠体10以任意的图案扫描。由此，能够对层叠体10的任意的位置实施任意时间的激光照射。
若照射激光，则在照射区域产生气化反应，从而产生凹部。因此，扫描照射区域，从而沿着扫描轨迹连续地形成凹部，最终形成具有与扫描轨迹对应的开口的凹部。
此外，可以不使层叠体10相对于固定的激光加工用掩模910移动，而在固定层叠体10的状态下使激光加工用掩模910移动，也可以使双方均移动。
本制造方法所涉及的激光加工用掩模910为板状体，并具备遮挡激光的遮挡部911以及供激光透过的透过部912。若经由该激光加工用掩模910照射激光，则在透过部912成形有激光的照射区域，从而能够向与透过部912的俯视形状对应的层叠体10上的区域选择性地照射激光。
接下来，对使用上述的激光加工用掩模910，在层叠体10形成凹部170的方法进行说明。
使用图8所示的激光加工用掩模910，使得透过部912沿着芯部14的长度方向，即Y方向相对地移动并且照射有激光。图9间歇地示出了上述移动时的透过部912的位置。
若透过部912(激光的照射区域)以图9所示那样的轨迹移动，则与该照射区域的轨迹对应地形成有图4所示那样的开口部175的凹部170。即，能够容易地形成具有在俯视时呈椭圆形的开口部175的凹部170。
另外，若透过部912(激光的照射区域)以图9所示那样的轨迹移动，则与此相伴在Y方向的端部，即移动开始端与移动结束端，形成有累计光量伴随着朝向缘部而逐渐减少的累计光量分布。因此，在图9所示的轨迹的上端部与下端部形成有图1所示那样的倾斜面171与倾斜面172。此外，适当地变更此时的透过部912的移动速度，从而能够调整倾斜面171、172的倾斜角度。
另外，针对透过部912中的与开口部177的连接部178对应的部位，如上所述，形成最小曲率半径1～500μm的曲线，从而也能够使连接部178满足上述的条件。即，使用激光加工用掩模910，从而能够高效地形成上述的凹部170。
<电子设备>
上述的本发明所涉及的光波导的传送效率较高，并且与其他的光学部件的光耦合效率优越。因此，能够获得具备本发明的光波导，从而能够进行高品质的光通信的可靠性高的电子设备(本发明的电子设备)。
作为具备本发明的光波导的电子设备，例如能够列举手机、游戏机、路由装置、WDM装置、个人计算机、电视、家庭服务器等电子设备类。在这些电子设备中，均需要例如在LSI等运算装置与RAM等存储装置之间高速地传送大容量的数据。因此，上述的电子设备具备本发明的光波导，从而能够消除电气配线所特有的噪声、信号劣化等不良情况，从而能够期待其性能的显著的提高，因此能够有助于电子设备的低成本化。
另外，在光波导部分中，发热量与电气配线相比大幅度地减少。因此，能够减少冷却所需的电力，从而能够减少电子设备整体的消耗电力。
以上，对本发明的光波导以及电子设备进行了说明，但本发明不限定于此，例如也可以在光波导附加有任意的构成物。
另外，在将倾斜面使用为光入射侧反射镜的情况下，光出射侧可以使光从芯部14的端面沿着芯部14的光轴出射，此时，也可以在出射端安装有连接器。另一方面，在将倾斜面使用为光出射侧反射镜的情况下，光入射侧可以使光从芯部14的端面沿着芯部14的光轴入射，此时，也可以在入射端安装有连接器。
另外，也可以在光波导形成有多个凹部。例如在形成有两个凹部的情况下，能够将一方的倾斜面使用为光入射侧反射镜，将另一方的倾斜面使用为光出射侧反射镜。
另外，凹部的开口部的俯视形状也可以呈图10所示那样的形状。图10是示意性地表示图4所示的凹部的开口的其他构成例的俯视图。
图10(a)所示的凹部170的开口部175呈大致矩形。另外，图10(b)所示的凹部170的开口部175呈大致梯形。另外，图10(c)所示的凹部170的开口部175呈大致六边形。连接上述的凹部170的倾斜面171的上端(倾斜面上端171a)与直立面173的上端(直立面上端173a)的连接部176成为上述那样的曲线。即使在具备上述的形状的凹部的光波导中，也能够获得与上述的各实施方式所涉及的光波导相同的作用、效果。
本实施方式以及本制造方法包含以下的技术思想。
(1)一种光波导，其具有形成有芯部的芯层、层叠于上述芯层的一面的第一被覆层、层叠于上述芯层的另一面的第二被覆层以及分别贯通上述第二被覆层以及上述芯层直至上述第一被覆层的空洞部，
上述光波导的特征在于，
上述空洞部的内壁面的一部分由相对于包含上述芯层与上述第一被覆层的界面的平面倾斜且交叉的倾斜面构成，
在上述空洞部的内壁面被上述平面剖切后的剖面中，上述倾斜面与同其连续的上述内壁面其他部分的连接部的最小曲率半径为1～500μm。
(2)根据上述(1)所记载的光波导，其特征在于，构成为：
上述空洞部设置于上述芯部的中途或者延长线上，
上述倾斜面横截上述芯部的光轴或者其延长线。
(3)根据上述(1)或(2)所记载的光波导，其特征在于，
在上述第二被覆层的与上述芯层相反的一侧的面的上述空洞部中以及上述第二被覆层与上述芯层的界面的上述空洞部中，上述倾斜面与同其连续的上述内壁面的其他部分的连接部的最小曲率半径分别为1～500μm。
(4)根据上述(1)～(3)中任一项所记载的光波导，其特征在于，构成为：
该光波导进一步具有层叠于上述第二被覆层的与上述芯层相反的一侧的面的覆盖层，
上述空洞部仍贯通上述覆盖层。
(5)根据上述(1)～(4)中任一项所记载的光波导，其特征在于，
上述空洞部的内壁面包含上述倾斜面以及与上述平面大致垂直地交叉的直立面。
(6)根据上述(5)所记载的光波导，其特征在于，构成为：
上述空洞部的内壁面包含两个上述倾斜面以及两个上述直立面，
上述空洞部构成为在其内壁面被上述平面剖切后的剖面中，上述倾斜面彼此以及上述直立面彼此分别对置。
(7)根据上述(5)或(6)所记载的光波导，其特征在于，
上述空洞部的上述剖面的上述直立面整体弯曲。
(8)根据上述(1)～(4)中任一项所记载的光波导，其特征在于，构成为：
上述空洞部的内壁面整体与上述平面之间的角度亦即与上述空洞部侧相反的一侧的角度成为锐角。
(9)一种电子设备，其特征在于，
具备上述(1)～(8)中任一项所记载的光波导。
【实施例】
接下来，对本发明的具体的实施例进行说明。
1.附带凹部的光波导的制造
(实施例1-1)
(1)被覆层形成用树脂组成物的制造
对大赛璐化学工业(株)制的脂环式环氧树脂、CELLOXIDE208120g、(株)ADEKA制的阳离子聚合引发剂、ADEKAOptomerSP-1700.6g以及甲基异丁基甲酮80g进行搅拌混合而调制了溶液。
接下来，利用0.2μm孔径的PTFE过滤器对所获得的溶液进行过滤，获得清洁且无色透明的被覆层形成用树脂组成物。
(2)感光性树脂组成物的制造
将作为环氧类聚合物的新日铁化学(株)制的苯氧基树脂、YP-50S20g、作为光聚合性单体的大赛璐化学工业(株)制的CELLOXIDE2021P5g以及作为聚合引发剂的(株)ADEKA制的ADEKAOptomerSP-1700.2g投入甲基异丁基甲酮80g中，搅拌溶解而调制了溶液。
接下来，利用0.2μm孔径的PTFE过滤器对所获得的溶液进行过滤，获得清洁且无色透明的感光性树脂组成物。
(3)下侧被覆层的制作
在通过刮刀将被覆层形成用树脂组成物均匀地涂覆于厚度25μm的聚酰亚胺薄膜上后，投入50℃的干燥机10分钟。在完全除去溶剂后，通过UV曝光机向整个面照射紫外线，使涂覆的树脂组成物固化。由此，获得厚度10μm的无色透明的下侧被覆层。此外，紫外线的累计光量形成500mJ/cm2。
(4)芯层的制作
当在制作的下侧被覆层上通过刮刀均匀地涂覆感光性树脂组成物后，投入40℃的干燥机5分钟。在完全地除去溶剂而形成被膜后，向所获得的被膜上以描绘反复交替直线、空白的直线图案的方式通过无掩模曝光装置照射紫外线。芯部的宽度W形成50μm，芯部之间的距离P形成250μm。此外，所谓芯部之间的距离P是指芯部的中心线之间的距离。所谓芯部的中心线是指通过芯部的中心且与芯部的长度方向平行的直线。此外，紫外线的累计光量形成1000mJ/cm2。
接下来，将曝光后的被膜投入150℃的烘箱内30分钟。能够确认若从烘箱取出，则在被膜呈现鲜明的波导路图案。此外，所获得的芯层的厚度为50μm。
(5)上侧被覆层的制作
在制作的芯层上与(3)相同地涂覆被覆层形成用树脂组成物，获得厚度10μm的无色透明的上侧被覆层。
(6)凹部的形成
接下来，通过激光加工在芯部隔开10cm的间隔形成两个凹部，将这些凹部分别设为光入射侧反射镜、光出射侧反射镜。凹部相对于所有的芯部相同地制作。形成的凹部的形状如下述所示。另外，凹部构成为作为其开放端的开口部175的形状与被包含芯层13与被覆层11的界面的平面剖切后的开口部177的形状成为类似关系。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图4
·连接部178的最小曲率半径r2：5μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径125μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：210μm
·凹部170的X方向的最大长度：105μm
·凹部170的最大深度：65μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径为5μm。
此外，所谓连接部是位于与倾斜面171对应的直线线段和与直立面173对应的弧之间的部分。
(实施例1-2)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图4
·连接部178的最小曲率半径r2：20μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径66.25μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：210μm
·凹部170的X方向的最大长度：115μm
·凹部170的最大深度：65μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径为20μm。
(实施例1-3)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图4
·连接部178的最小曲率半径r2：40μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径48.33μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：210μm
·凹部170的X方向的最大长度：125μm
·凹部170的最大深度：65μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径为40μm。
(实施例1-4)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图4
·连接部178的最小曲率半径r2：1μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径6.33μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：210μm
·凹部170的X方向的最大长度：105μm
·凹部170的最大深度：65μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径为1μm。
(实施例1-5)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图4
·连接部178的最小曲率半径r2：100μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径120μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：210μm
·凹部170的X方向的最大长度：200μm
·凹部170的最大深度：65μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径为100μm。
(实施例1-6)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以及将芯部之间的距离P设为500μm以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图4
·连接部178的最小曲率半径r2：300μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径340μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：210μm
·凹部170的X方向的最大长度：640μm
·凹部170的最大深度：65μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径为300μm。
(实施例1-7)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以及将芯部之间的距离P设为500μm以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图4
·连接部178的最小曲率半径r2：450μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径580μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：210μm
·凹部170的X方向的最大长度：900μm
·凹部170的最大深度：65μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径为450μm。
(实施例1-8)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图4
·连接部178的最小曲率半径r2：100μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径120μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：900μm
·凹部170的X方向的最大长度：200μm
·凹部170的最大深度：65μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径为100μm。
(实施例2-1)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图10(a)
·连接部178的最小曲率半径r2：5μm
·凹部170的Y方向的最大长度：210μm
·凹部170的X方向的最大长度：125μm
·凹部170的最大深度：65μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径为5μm。
(实施例2-2)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图10(a)
·连接部178的最小曲率半径r2：20μm
·凹部170的Y方向的最大长度：210μm
·凹部170的X方向的最大长度：125μm
·凹部170的最大深度：65μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径为20μm。
(实施例2-3)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图10(a)
·连接部178的最小曲率半径r2：40μm
·凹部170的Y方向的最大长度：210μm
·凹部170的X方向的最大长度：125μm
·凹部170的最大深度：65μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径为40μm。
(实施例2-4)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图10(a)
·连接部178的最小曲率半径r2：100μm
·凹部170的Y方向的最大长度：900μm
·凹部170的X方向的最大长度：200μm
·凹部170的最大深度：65μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径为100μm。
(实施例3-1)
在形成凹部的工序中，除了通过切削加工以及磨削加工形成以下的形状的凹部以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图4
·连接部178的最小曲率半径r2：40μm
·连接部176的最小曲率半径r1：80μm
·被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部的最小曲率半径：80μm
·凹部170的底部的连接部最小曲率半径：40μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径45μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：210μm
·凹部170的X方向的最大长度：160μm
·凹部170的最大深度：65μm
(实施例3-2)
在形成凹部的工序中，除了通过切削加工以及磨削加工形成以下的形状的凹部以及将芯部之间的距离P设为500μm以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图4
·连接部178的最小曲率半径r2：300μm
·连接部176的最小曲率半径r1：475μm
·被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部的最小曲率半径：475μm
·凹部170的底部的连接部最小曲率半径：300μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径300μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：210μm
·凹部170的X方向的最大长度：950μm
·凹部170的最大深度：65μm
(实施例4)
在本实施例中，除了在芯部的延长线上的侧面被覆部形成凹部以及变更激光加工用掩模的形状，将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图4
·连接部178的最小曲率半径r2：20μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径20μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：210μm
·凹部170的X方向的最大长度：115μm
·凹部170的最大深度：65μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径为20μm。
(实施例5-1)
在本实施例中，除了在被与被覆层12的上表面正交且与芯部14的长度方向平行的平面剖切后，凹部的剖面形状成为以底部为顶点的三角形的形状以及变更激光加工用掩模的形状，将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图4
·连接部178的最小曲率半径r2：20μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径40μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：210μm
·凹部170的X方向的最大长度：115μm
·凹部170的最大深度：65μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径为20μm。
(实施例5-2)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例5-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图4
·连接部178的最小曲率半径r2：100μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径150μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：210μm
·凹部170的X方向的最大长度：200μm
·凹部170的最大深度：65μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径为100μm。
(实施例6-1)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图10(b)
·形成锐角的连接部178的最小曲率半径r2’：0.5μm
·形成钝角的连接部178的最小曲率半径r2”：15.4μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径14.2μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：80μm
·凹部170的X方向的最大长度：105μm
·凹部170的最大深度：60μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径与对应的连接部178一致。
(实施例6-2)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图10(b)
·形成锐角的连接部178的最小曲率半径r2’：1.5μm
·形成钝角的连接部178的最小曲率半径r2”：45.3μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径50.46μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：80μm
·凹部170的X方向的最大长度：135μm
·凹部170的最大深度：60μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径与对应的连接部178一致。
(实施例6-3)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图10(b)
·形成锐角的连接部178的最小曲率半径r2’：3.3μm
·形成钝角的连接部178的最小曲率半径r2”：8.5μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径4.3μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：140μm
·凹部170的X方向的最大长度：160μm
·凹部170的最大深度：60μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径均与对应的连接部178一致。
(实施例6-4)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图10(b)
·形成锐角的连接部178的最小曲率半径r2’：4.2μm
·形成钝角的连接部178的最小曲率半径r2”：10.3μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径4.3μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：140μm
·凹部170的X方向的最大长度：160μm
·凹部170的最大深度：60μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径与对应的连接部178一致。
(实施例6-5)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图10(b)
·形成锐角的连接部178的最小曲率半径r2’：6.2μm
·形成钝角的连接部178的最小曲率半径r2”：19.1μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径4.3μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：140μm
·凹部170的X方向的最大长度：160μm
·凹部170的最大深度：60μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径均与对应的连接部178一致。
(实施例6-6)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图10(b)
·形成锐角的连接部178的最小曲率半径r2’：16.0μm
·形成钝角的连接部178的最小曲率半径r2”：35.0μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径4.3μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：140μm
·凹部170的X方向的最大长度：160μm
·凹部170的最大深度：60μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径均与对应的连接部178一致。
(实施例6-7)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图10(b)
·形成锐角的连接部178的最小曲率半径r2’：18.9μm
·形成钝角的连接部178的最小曲率半径r2”：40.6μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径4.3μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：140μm
·凹部170的X方向的最大长度：160μm
·凹部170的最大深度：60μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径与对应的连接部178一致。
(实施例6-8)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的示意图：图10(b)
·形成锐角的连接部178的最小曲率半径r2’：43.0μm
·形成钝角的连接部178的最小曲率半径r2”：147.0μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径4.3μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：140μm
·凹部170的X方向的最大长度：160μm
·凹部170的最大深度：60μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径均与对应的连接部178一致。
(比较例1)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的简要形状：图4
·连接部178的最小曲率半径r2：0.5μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径3.13μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：210μm
·凹部170的X方向的最大长度：510μm
·凹部170的最大深度：65μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径均为0.5μm。
(比较例2)
除了将芯部之间的距离P设为500μm以外，与比较例1相同地获得光波导。
(比较例3)
除了变更激光加工用掩模的形状，而将形成的凹部的形状变更成以下的形状以外，与实施例1-1相同地获得光波导。
<凹部的形状>
·开口部175的简要形状：图4
·连接部178的最小曲率半径r2：510μm
·开口部175的缘部的轮廓形状：弧状(弧的曲率半径510μm)
·凹部170的Y方向的最大长度：210μm
·凹部170的X方向的最大长度：520μm
·凹部170的最大深度：65μm
此外，针对开口部175的连接部176、被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部以及凹部170的底部的连接部，它们的最小曲率半径为510μm。
(比较例4)
除了将芯部之间的距离P设为500μm以外，与比较例3相同地获得光波导。
2.光波导的评价
针对在各实施例以及各比较例中获得的光波导，用于温度循环试验，比较试验前与试验后的传送特性，从而评价了耐久性。此外，温度循环试验的试验条件如下所示。
<温度循环试验的试验条件>
·温度：-40～125℃
·循环数：500循环(高温、低温各30分钟)
·评价特性：插入损失
评价的结果示于表1、表2、表3。此外，在表1、表2、表3中，所谓示意图表示开口部175的示意图，所谓r2表示连接部178的最小曲率半径，所谓r1表示连接部176的最小曲率半径，所谓r3表示被覆层12与芯层13的界面的凹部170的开口部的连接部的最小曲率半径，所谓r4表示凹部170的底部的连接部最小曲率半径，所谓缘轮廓表示开口部175的缘部的轮廓形状，所谓弧的曲率半径表示开口部175的缘部的弧的曲率半径，所谓Y表示凹部170的Y方向的最大长度，所谓X表示凹部170的X方向的最大长度，所谓深度表示凹部170的最大深度，所谓P表示芯部之间的距离P。另外，所谓r2’表示在大致梯形中形成锐角的连接部178的最小曲率半径，r2”表示在大致梯形中形成钝角的连接部178的最小曲率半径。
【表1】
【表2】
【表3】
此外，也以与实施例1-1、1-2、1-3以及2-4相同的条件，对如图7所示那样具备支承膜片2以及覆盖膜片3的光波导1-1’、1-2’、1-3’以及2-4进行了相同的评价。此时，贯通覆盖膜片3的凹部的开口部的连接部的最小曲率半径与各连接部178的最小曲率半径r2相同。其结果示于表4。
【表4】
评价的结果，在各实施例中获得的光波导中，在温度循环试验的试验前后，在插入损失的值不存在变化。
与此相对，在比较例1～4中获得的光波导中，在温度循环试验后，插入损失增加较大。在计算变化量后，达到试验前的测定值的20～100％。针对试验后的光波导沿厚度方向剖切凹部，在观察剖面后，认为在被覆层与芯层的界面产生剥离。
据此，认为根据本发明的光波导，即使用于温度循环试验也能够抑制传送特性、反射特性的降低，从而能够进行高品质的光通信。
【工业上的利用可能性】
根据本发明，能够获得传送特性的降低被抑制从而进行高品质的光通信的光波导。另外，根据本发明，能够获得具备上述的光波导的可靠性较高的电子设备。
因此，本发明能够优选利用于光波导以及电子设备，从而在工业上极其重要。
【符号说明】
1…光波导；2…支承膜片；3…覆盖膜片；10…层叠体；11…被覆层；12…被覆层；13…芯层；14…芯部；15…侧面被覆部；170…凹部；171…倾斜面；171a…倾斜面上端；171a’…左侧的终端；171a”…右侧的终端；171b…直线线段；171b’…左侧的终端；171b”…右侧的终端；172…倾斜面；172a…倾斜面上端；172a’…左侧的终端；172a”…右侧的终端；172b…直线线段；172b’…左侧的终端；172b”…右侧的终端；173…直立面；173’…倾斜面；173a…直立面上端；173b…弧；174…直立面；174’…倾斜面；174a…直立面上端；174b…弧；175…开口部；176…连接部；177…开口部；178…连接部；900…激光加工机；910…激光加工用掩模；911…遮挡部；912…透过部；L…激光器；r1、r2…曲率半径。

Claims (11)

1.一种光波导，其具有形成有芯部的芯层、层叠于所述芯层的一面的第一被覆层、层叠于所述芯层的另一面的第二被覆层以及分别贯通所述第二被覆层以及所述芯层直至所述第一被覆层的空洞部，
所述光波导的特征在于，
所述空洞部的内壁面的一部分由相对于包含所述芯层与所述第一被覆层的界面的平面倾斜且交叉的倾斜面构成，
在所述平面中，所述倾斜面与所述内壁面的、同所述倾斜面连续的其他部分的连接部的最小曲率半径为1～500μm。
2.根据权利要求1所述的光波导，其特征在于，构成为：
所述空洞部设置于所述芯部或者所述芯部的长度方向的延长线上，
所述倾斜面横截所述芯部的光轴或者其延长线。
3.根据权利要求1或2所述的光波导，其特征在于，
在所述第二被覆层中的与所述芯层相反的一侧的面的所述空洞部中，所述倾斜面与所述内壁面的、同所述倾斜面连续的其他部分的连接部的最小曲率半径为1～500μm。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的光波导，其特征在于，
在所述第二被覆层与所述芯层的界面的所述空洞部中，所述倾斜面与所述内壁面的、同所述倾斜面连续的其他部分的连接部的最小曲率半径为1～500μm。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的光波导，其特征在于，
具有层叠于所述第二被覆层的与所述芯层相反的一侧的面的覆盖层。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的光波导，其特征在于，
所述空洞部的内壁面包含相对于所述平面以锐角侧的角度为60～90°的角度交叉的直立面。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的光波导，其特征在于，
所述倾斜面相对于所述平面以20～90°的角度交叉。
8.根据权利要求6或7所述的光波导，其特征在于，构成为：
所述空洞部的内壁面包含两个所述倾斜面以及两个所述直立面，
所述空洞部在其内壁面被所述平面剖切后的剖面中，所述倾斜面彼此以及所述直立面彼此分别对置。
9.根据权利要求6～8中任一项所述的光波导，其特征在于，
所述直立面沿光波导的长度方向弯曲。
10.根据权利要求1～5中任一项所述的光波导，其特征在于，构成为：
所述空洞部的内壁面与所述平面之间的角度亦即与所述空洞部侧相反的一侧的角度成为锐角。
11.一种电子设备，其特征在于，
具备权利要求1～10中任一项所述的光波导。
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