CN105047730A - 一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极 - Google Patents
一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105047730A CN105047730A CN201510368999.XA CN201510368999A CN105047730A CN 105047730 A CN105047730 A CN 105047730A CN 201510368999 A CN201510368999 A CN 201510368999A CN 105047730 A CN105047730 A CN 105047730A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- polyimide substrate
- layer
- solar cell
- back electrode
- galliun
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 46
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 title claims abstract description 45
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims abstract description 45
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title abstract description 13
- HVMJUDPAXRRVQO-UHFFFAOYSA-N copper indium Chemical compound [Cu].[In] HVMJUDPAXRRVQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract 3
- QNWMNMIVDYETIG-UHFFFAOYSA-N gallium(ii) selenide Chemical compound [Se]=[Ga] QNWMNMIVDYETIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 33
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 23
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 20
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 19
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims description 24
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 10
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 6
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 5
- 229910015153 MoAg Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000002788 crimping Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 50
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0224—Electrodes
- H01L31/022408—Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/022425—Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Sustainable Energy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
本发明公开了一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,包括聚酰亚胺衬底、应力缓冲复合层、双层厚Mo薄膜阻挡层,所述应力缓冲复合层形成在聚酰亚胺衬底上,所述双层厚Mo薄膜阻挡层形成在应力缓冲复合层上,所述应力缓冲复合层由Mo超薄层和Ag超薄层重复沉积形成,所述Mo超薄层和Ag超薄层的厚度范围均为1~5nm,所述重复沉积次数范围为20至50次,双层厚Mo薄膜阻挡层包括第一Mo薄膜和第二Mo薄膜,厚度分别为100~200nm和600~700nm。本发明的背电极通过Mo超薄层和Ag超薄层的重复沉积形成的应力缓冲复合层,有效地降低铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极与聚酰亚胺衬底之间应力,从而防止太阳能电池异常卷曲或者薄膜脱落。
Description
技术领域
本发明涉及铜铟镓硒薄膜太阳能电池领域,尤其涉及一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极。
背景技术
柔性衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池因为其可折叠性、机械性能、质功比高以及适用卷对卷工艺而具有广大的市场前景,传统的背电极结构中使用Mo背电极,能够提高背电极与衬底之间的附着力,同时具有良好的电学性能从而与CIGS吸收层形成良好的欧姆接触。而对于聚酰亚胺衬底的CIGS薄膜太阳能电池,由于聚酰亚胺与Mo热膨胀吸收的不匹配,薄膜应力比较大,会导致太阳能电池异常卷曲,严重时致使薄膜脱落,目前的退火或者优化工艺并不能减少这种由热膨胀系数不匹配造成应力过大的问题。因此需要选择一种方便制作且能够有效减少应力过大的背电极。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于如何克服铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极与聚酰亚胺衬底之间应力大的缺陷。
为了解决上述技术问题,本发明提供了一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,包括聚酰亚胺衬底、应力缓冲复合层、双层厚Mo薄膜阻挡层,所述应力缓冲复合层形成在聚酰亚胺衬底上,所述双层厚Mo薄膜阻挡层形成在应力缓冲复合层上,所述应力缓冲复合层由Mo超薄层和Ag超薄层重复沉积形成,所述Mo超薄层和Ag超薄层的厚度范围均为1~5nm,所述重复沉积次数范围为20至50次,双层厚Mo薄膜阻挡层包括第一Mo薄膜和第二Mo薄膜,厚度分别为100~200nm和600~700nm。
进一步地,所述双层厚Mo薄膜阻挡层为低阻残余压应力Mo薄膜。
进一步地,所述聚酰亚胺衬底上还形成金属Cr或Al2O3过渡层。
进一步地,所述金属Cr或Al2O3过渡层的厚度为100至500nm。
进一步地,所述应力缓冲复合层在重复沉积后在300℃的温度下退火30分钟。
进一步地,所述Mo超薄层和Ag超薄层由磁控溅射形成。
进一步地,所述第二Mo薄膜溅射条件为:工作气体压强0.4-1.0Pa,溅射密度为2~2.5W/mm2。
进一步地,所述Ag超薄层换成Al超薄层。
进一步地,所述Ag超薄层换成MoAg合金超薄层。
进一步地,所述Ag超薄层换成MoAl合金超薄层。
本发明的用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,具有如下有益效果:本发明的背电极通过Mo超薄层和Ag超薄层的重复沉积形成的应力缓冲复合层,有效地降低铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极与聚酰亚胺衬底之间应力,从而防止太阳能电池异常卷曲或者薄膜脱落。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它附图。
图1是本发明的用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极的结构示意图。
图中:1-聚酰亚胺衬底,2-过渡层,3-应力缓冲复合层,4-第一Mo薄膜,5-第二Mo薄膜。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例一:
本发明提供了一种用于聚酰亚胺衬底1铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,包括聚酰亚胺衬底1、应力缓冲复合层3、双层厚Mo薄膜阻挡层,所述应力缓冲复合层3形成在聚酰亚胺衬底1上,所述双层厚Mo薄膜阻挡层形成在应力缓冲复合层3上,所述应力缓冲复合层3由Mo超薄层和Ag超薄层重复沉积形成,所述Mo超薄层和Ag超薄层的厚度均为1nm,所述重复沉积次数范围为20次,双层厚Mo薄膜阻挡层包括第一Mo薄膜4和第二Mo薄膜5,厚度分别为100nm和600nm。
其中,所述双层厚Mo薄膜阻挡层为低阻残余压应力Mo薄膜。所述聚酰亚胺衬底1上还形成金属Cr过渡层2,所述金属Cr过渡层2的厚度为100nm。
所述应力缓冲复合层3在重复沉积后在300℃的温度下退火30分钟;所述Mo超薄层和Ag超薄层由磁控溅射形成。
其中,所述第二Mo薄膜5溅射条件为:工作气体压强0.4Pa,溅射密度为2W/mm2;其中,所述Ag超薄层可换成Al超薄层。
实施例二:
本发明提供了一种用于聚酰亚胺衬底1铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,包括聚酰亚胺衬底1、应力缓冲复合层3、双层厚Mo薄膜阻挡层,所述应力缓冲复合层3形成在聚酰亚胺衬底1上,所述双层厚Mo薄膜阻挡层形成在应力缓冲复合层3上,所述应力缓冲复合层3由Mo超薄层和Ag超薄层重复沉积形成,所述Mo超薄层和Ag超薄层的厚度均为3nm,所述重复沉积次数范围为35次,双层厚Mo薄膜阻挡层包括第一Mo薄膜4和第二Mo薄膜5,厚度分别为150nm和650nm。
其中,所述双层厚Mo薄膜阻挡层为低阻残余压应力Mo薄膜。所述聚酰亚胺衬底1上还形成Al2O3过渡层2,所述Al2O3过渡层2的厚度为300nm。
所述应力缓冲复合层3在重复沉积后在300℃的温度下退火30分钟;所述Mo超薄层和Ag超薄层由磁控溅射形成。
其中,所述第二Mo薄膜5溅射条件为:工作气体压强0.7Pa,溅射密度为2.3W/mm2;其中,所述Ag超薄层可换成MoAg合金超薄层。
实施例三:
本发明提供了一种用于聚酰亚胺衬底1铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,包括聚酰亚胺衬底1、应力缓冲复合层3、双层厚Mo薄膜阻挡层,所述应力缓冲复合层3形成在聚酰亚胺衬底1上,所述双层厚Mo薄膜阻挡层形成在应力缓冲复合层3上,所述应力缓冲复合层3由Mo超薄层和Ag超薄层重复沉积形成,所述Mo超薄层和Ag超薄层的厚度均为5nm,所述重复沉积次数范围为50次,双层厚Mo薄膜阻挡层包括第一Mo薄膜4和第二Mo薄膜5,厚度分别为200nm和700nm。
其中,所述双层厚Mo薄膜阻挡层为低阻残余压应力Mo薄膜。所述聚酰亚胺衬底1上还形成Al2O3过渡层2,所述Al2O3过渡层2的厚度为500nm。
所述应力缓冲复合层3在重复沉积后在300℃的温度下退火30分钟;所述Mo超薄层和Ag超薄层由磁控溅射形成。
其中,所述第二Mo薄膜5溅射条件为:工作气体压强1Pa,溅射密度为2.5W/mm2;其中,所述Ag超薄层可换成MoAg合金超薄层。
本发明的用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,具有如下有益效果:本发明的背电极通过Mo超薄层和Ag超薄层的重复沉积形成的应力缓冲复合层,有效地降低铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极与聚酰亚胺衬底之间应力,从而防止太阳能电池异常卷曲或者薄膜脱落。
以上所述是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,包括聚酰亚胺衬底(1)、应力缓冲复合层(3)、双层厚Mo薄膜阻挡层,其特征在于,所述应力缓冲复合层(3)形成在聚酰亚胺衬底(1)上,所述双层厚Mo薄膜阻挡层形成在应力缓冲复合层(3)上,所述应力缓冲复合层(3)由Mo超薄层和Ag超薄层重复沉积形成,所述Mo超薄层和Ag超薄层的厚度范围均为1~5nm,所述重复沉积次数范围为20至50次,双层厚Mo薄膜阻挡层包括第一Mo薄膜(4)和第二Mo薄膜(5),厚度分别为100~200nm和600~700nm。
2.根据权利要求1所述的用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,其特征在于,所述双层厚Mo薄膜阻挡层为低阻残余压应力Mo薄膜。
3.根据权利要求2所述的用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,其特征在于,所述聚酰亚胺衬底(1)上还形成金属Cr或Al2O3过渡层(2)。
4.根据权利要求3所述的用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,其特征在于,所述金属Cr或Al2O3过渡层(2)的厚度为100至500nm。
5.根据权利要求1-4任意一项所述的用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,其特征在于,所述应力缓冲复合层(3)在重复沉积后在300℃的温度下退火30分钟。
6.根据权利要求5所述的用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,其特征在于,所述Mo超薄层和Ag超薄层由磁控溅射形成。
7.根据权利要求6所述的用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,其特征在于,所述第二Mo薄膜(5)溅射条件为:工作气体压强0.4-1.0Pa,溅射密度为2~2.5W/mm2。
8.根据权利要求6或7所述的用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,其特征在于,所述Ag超薄层换成Al超薄层。
9.根据权利要求6或7所述的用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,其特征在于,所述Ag超薄层换成MoAg合金超薄层。
10.根据权利要求6或7所述的用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极,其特征在于,所述Ag超薄层换成MoAl合金超薄层。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510368999.XA CN105047730A (zh) | 2015-06-29 | 2015-06-29 | 一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510368999.XA CN105047730A (zh) | 2015-06-29 | 2015-06-29 | 一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105047730A true CN105047730A (zh) | 2015-11-11 |
Family
ID=54454118
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201510368999.XA Pending CN105047730A (zh) | 2015-06-29 | 2015-06-29 | 一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN105047730A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112786723A (zh) * | 2021-01-27 | 2021-05-11 | 重庆神华薄膜太阳能科技有限公司 | 柔性薄膜太阳能电池组件及其制备方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102201457A (zh) * | 2011-03-30 | 2011-09-28 | 湘潭大学 | 太阳能电池的柔性金属衬底与背电极之间的金属扩散阻挡层及其制备方法 |
KR101215624B1 (ko) * | 2011-03-08 | 2012-12-26 | 한국생산기술연구원 | Cigs 화합물계 박막 태양전지 및 그 제조방법 |
CN102881733A (zh) * | 2012-10-19 | 2013-01-16 | 上海太阳能电池研究与发展中心 | 以聚合物为衬底的薄膜太阳能电池复合背电极及制备方法 |
US20130074915A1 (en) * | 2011-09-26 | 2013-03-28 | International Business Machines Corporation | Method of fabricating a flexible photovoltaic film cell with an iron diffusion barrier layer |
WO2013039349A3 (en) * | 2011-09-16 | 2013-05-10 | Lg Innotek Co., Ltd. | Solar cell and method of fabricating the same |
CN103456802A (zh) * | 2013-09-04 | 2013-12-18 | 南开大学 | 一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极 |
CN105118872A (zh) * | 2015-07-21 | 2015-12-02 | 中国电子科技集团公司第十八研究所 | 一种低温制备高效柔性铜铟镓硒薄膜太阳电池的方法 |
-
2015
- 2015-06-29 CN CN201510368999.XA patent/CN105047730A/zh active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101215624B1 (ko) * | 2011-03-08 | 2012-12-26 | 한국생산기술연구원 | Cigs 화합물계 박막 태양전지 및 그 제조방법 |
CN102201457A (zh) * | 2011-03-30 | 2011-09-28 | 湘潭大学 | 太阳能电池的柔性金属衬底与背电极之间的金属扩散阻挡层及其制备方法 |
WO2013039349A3 (en) * | 2011-09-16 | 2013-05-10 | Lg Innotek Co., Ltd. | Solar cell and method of fabricating the same |
US20130074915A1 (en) * | 2011-09-26 | 2013-03-28 | International Business Machines Corporation | Method of fabricating a flexible photovoltaic film cell with an iron diffusion barrier layer |
CN102881733A (zh) * | 2012-10-19 | 2013-01-16 | 上海太阳能电池研究与发展中心 | 以聚合物为衬底的薄膜太阳能电池复合背电极及制备方法 |
CN103456802A (zh) * | 2013-09-04 | 2013-12-18 | 南开大学 | 一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极 |
CN105118872A (zh) * | 2015-07-21 | 2015-12-02 | 中国电子科技集团公司第十八研究所 | 一种低温制备高效柔性铜铟镓硒薄膜太阳电池的方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
DUNG-CHING PERNG,MING-CHEN HUNG,KUO-YU WANG: "Reliability studies of mo layer deposited on polyimide substrate for CIGS solar cell applications", 《PHOTOVOLTAIC SPECIALISTS CONFERENCE (PVSC), 2012 38TH IEEE》 * |
范清喜: "柔性金属基底CIGS太阳能电池扩散阻挡层和吸收层的制备及表征", 《湘潭大学硕士学位论文》 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112786723A (zh) * | 2021-01-27 | 2021-05-11 | 重庆神华薄膜太阳能科技有限公司 | 柔性薄膜太阳能电池组件及其制备方法 |
CN112786723B (zh) * | 2021-01-27 | 2022-11-15 | 重庆神华薄膜太阳能科技有限公司 | 柔性薄膜太阳能电池组件及其制备方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103456802B (zh) | 一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极 | |
CN102881733B (zh) | 以聚合物为衬底的薄膜太阳能电池复合背电极及制备方法 | |
Tanaka et al. | Effect of AZO film deposition conditions on the photovoltaic properties of AZO–Cu2O heterojunctions | |
WO2014206240A1 (zh) | 一种背接触太阳能电池及其制作方法 | |
CN102779944A (zh) | 一种透明导电薄膜及其制备方法 | |
CN105355676A (zh) | 一种柔性cigs薄膜太阳电池的背电极结构 | |
TWI548127B (zh) | 電阻式隨機存取記憶體 | |
CN103354246A (zh) | 铜铟镓硒太阳电池背电极Mo薄膜及其制备工艺 | |
WO2012013155A1 (en) | Cdte solar battery and method of preparing the same | |
CN105742390B (zh) | 一种叠层薄膜太阳能电池及其制备方法 | |
CN106601911B (zh) | Ge-Se-Al OTS材料、OTS选通器单元及其制备方法 | |
CN105047730A (zh) | 一种用于聚酰亚胺衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背电极 | |
TWI596785B (zh) | 太陽能電池結構與其形成方法 | |
CN106653894B (zh) | 一种用于柔性衬底铜铟镓硒薄膜太阳能电池的背接触层 | |
CN103762250A (zh) | 碲化镉薄膜太阳电池的背接触结构、太阳电池、电池组件及制备方法 | |
JP5381562B2 (ja) | 薄膜太陽電池及びその製造方法 | |
WO2020119126A1 (zh) | 氧化物半导体材料、薄膜晶体管及制备方法和显示面板 | |
CN113782645B (zh) | 异质结电池的制作方法、异质结电池以及太阳能电池组件 | |
KR101474487B1 (ko) | 박막형 태양전지 및 그 제조방법 | |
US9773929B2 (en) | Solar cell and method of fabricating the same | |
KR101154785B1 (ko) | 태양전지 및 이의 제조방법 | |
KR101517784B1 (ko) | 열전 성능이 우수한 산화물 반도체 열전 소자 및 그 제조 방법 | |
CN104681653A (zh) | 多结层状薄膜太阳能电池 | |
CN106024962A (zh) | 一种多结层状薄膜太阳能电池 | |
JP4198079B2 (ja) | 光起電力装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20151111 |
|
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |