CN104984873A - 涂布方法和涂布装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种涂布方法，用于在基板上涂布胶液以形成膜层，所述涂布方法包括以下步骤：S1、根据在预定时间段内形成的膜层的厚度与至少一个涂布参数之间的至少一种函数关系获取与目标膜层厚度相对应的涂布参数的初始值；S2、按照S1中获得的涂布参数的初始值开始进行涂布，以使获得的膜层的厚度达到初始的目标膜层厚度。相应地，本发明还提供一种涂布装置。本发明能够快速地确定涂布参数的值，从而提高涂布效率。

Description

涂布方法和涂布装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种涂布方法和一种涂布装置。

背景技术

有机电致发光显示器件(OLED)是新兴的一种平板显示器，因它有主动发光，对比度高，能薄型化，响应速度快等诸多优点，得到广泛应用。

在有机电致发光显示器件的封装处理中，需要将封装胶涂布至有机电致发光器件的基板。然而，在封装胶涂布处理中，必须考虑各种因数，即涂布参数，才能控制膜层的厚度。与膜层厚度控制有关的涂布参数包括涂布滚轮的旋转速度、胶液的种类、胶液的滴注速度、胶液的温度以及环境湿度等。当开始涂布胶液时，必须加以确认才能找出涂布参数的最佳值。然而，涂布设备需要极长的时间进行确认，故造成涂布设备在操作上之损失。

发明内容

本发明的目的在于提供一种涂布方法和一种涂布装置，以提高胶液涂布效率。

为了实现上述目的，本发明提供一种涂布方法，用于在基板上涂布胶液以形成膜层，所述涂布方法包括以下步骤：

S1、根据在预定时间段内形成的膜层的厚度与至少一个涂布参数之间的至少一种函数关系获取与目标膜层厚度相对应的涂布参数的初始值；

S2、按照S1中获得的涂布参数的初始值开始进行涂布，以使获得的膜层的厚度达到初始的目标膜层厚度。

优选地，所述涂布参数为多个，预定时间段内形成的膜层的厚度与每个涂布参数之间均对应一种函数关系。

优选地，执行所述涂布方法的涂布装置包括胶液存储罐、转印滚轮和涂布滚轮，所述胶液存储罐用于向所述转印滚轮输出胶液，所述转印滚轮用于将胶液转印在所述涂布滚轮上，所述涂布滚轮用于将胶液涂布在基板上，所述涂布参数包括：涂布滚轮的转速、向所述转印滚轮滴注胶液的速度、涂布滚轮的转轴与基板之间的距离、胶液的浓度、胶液的温度、环境温度、环境湿度中的至少一个。

优选地，所述涂布方法还包括在步骤S1之前进行的以下步骤：

对于每一个涂布参数：

设置该涂布参数的多个测试值；

测量在预定时间段内、该涂布参数的多个测试值下涂布形成的膜层的多个测试厚度；

根据该涂布参数的多个测试值与相应的多个测试厚度获得所述膜层的厚度与涂布参数之间的函数关系。

优选地，所述涂布方法还包括在步骤S1之前进行的：

将基板划分为依次排列的多个区域；

在多个所述区域中的第一个区域中执行所述步骤S1和所述步骤S2；

所述涂布方法还包括从多个所述区域中的第二个区域开始执行的以下步骤：

S3、测量前一个区域的膜层的实际厚度；

S4、根据每种函数关系获取与所述实际厚度相对应的每个涂布参数的参考值；

S5、根据每个涂布参数的参考值与初始值之间的差值所述涂布参数进行初次修正，得到每个涂布参数的初修正值；

S6、按照S5中获得的所述涂布参数的初修正值在基板的本区域继续涂布胶液。

优选地，每种所述函数关系能够形成一条函数曲线，步骤S5包括：

根据公式(1)和公式(2)计算每个涂布参数的初修正值：

a′_i＝a0_i+m_i(a0_i-a1_i)  (1)

$m_i=\frac{\left|k_i\right|}{{\mathrm{\Σ}}_{j=1}^N\left|k_j\right|}---\left(2\right)$

其中，a′_i为第i个涂布参数的初修正值；

a0_i为第i个涂布参数的对应于目标膜层厚度的初始值；

a1_i为第i个涂布参数的对应于实际厚度的参考值；

k_i为膜层的厚度与第i个涂布参数的函数曲线上对应于实际厚度的点的切线斜率；

k_j为膜层的厚度与第j个涂布参数的函数曲线上对应于实际厚度的点的切线斜率；

N为涂布参数的个数；

1≤i≤N，1≤j≤N，且i，j均为整数。

优选地，所述涂布方法还包括当整个基板上的多个区域均完成涂布形成膜层后执行的以下步骤：

S7、测量膜层的多个检测位置的实际厚度；

S8、对于每个检测位置，根据每种函数关系获取与该检测位置的实际厚度对应的每个涂布参数的参考值；

S9、对于每个检测位置，根据每个涂布函数的参考值与涂布该检测位置时的每个涂布函数的值之间的差值对每个涂布函数进行再次修正，得到该检测位置对应的多个涂布参数的再修正值；

S10、将S9中获得的涂布参数的再修正值作为下一张基板上的涂布参数的初始值，以开始在下一张基板上涂布胶液。

优选地，步骤S9包括：

根据公式(3)和公式(4)计算任意一个检测位置对应的每个涂布参数的再修正值：

b′_p,x＝b0_p,x+n_p,x(b0_p,x-b1_p,x)  (3)

$n_{p,x}=\frac{\left|c_{p,x}\right|}{{\mathrm{\Σ}}_{y=1}^N\left|c_{p,y}\right|}---\left(4\right)$

其中，b′_p,x为第p个检测位置对应的第x个涂布参数的再修正值；

b0_p,x为涂布第p个检测位置时第x个涂布参数的值；

b1_p,x为第为第p个检测位置对应的第x个涂布参数的参考值；

N为涂布参数的个数；

c_p,x为膜层的厚度与第x个涂布参数的函数曲线上对应于第p个检测位置的实际厚度的点的切线斜率；

c_p,y为膜层的厚度与第y个涂布参数的函数曲线上对应于第p个检测位置的实际厚度的点的切线斜率；

N为涂布参数的个数；

1≤x≤N，1≤y≤N，且x，y均为整数。

相应地，本发明还提供一种涂布装置，包括：涂布参数获取模块、控制模块和涂布模块，

所述涂布参数获取模块用于根据预定时间段内形成的膜层的厚度与至少一个涂布参数之间的至少一种函数关系获取与目标膜层厚度相对应的涂布参数的初始值；所述控制模块用于控制所述涂布模块按照所述涂布参数的初始值开始进行涂布，以使得获得的膜层的厚度达到初始的目标膜层厚度。

优选地，所述涂布参数为多个，预定时间段内形成的膜层的厚度与每个涂布参数之间均对应一种函数关系。

优选地，所述涂布模块包括胶液存储罐、转印滚轮和涂布滚轮，所述胶液存储罐用于向所述转印滚轮输出胶液，所述转印滚轮用于将胶液转印在所述涂布滚轮上，所述涂布滚轮用于将所述胶液涂布在基板上，所述涂布参数包括：涂布滚轮的转速、向所述转印滚轮滴注胶液的速度、涂布滚轮上的转轴与基板之间的距离、胶液的浓度、胶液的温度、环境温度、环境湿度中的至少一个。

优选地，所述涂布装置还包括：

测试值设置模块，用于设置每一个涂布参数的多个测试值；

厚度测量模块，用于测量在预定时间段内、每一个涂布参数的多个测试值下形成的膜层的多个测试厚度；

函数关系获取模块，用于根据每一个涂布参数的多个测试值与多个测试厚度获得膜层的厚度与每一个涂布参数之间的函数关系。

优选地，所述基板被划分为依次排列的多个区域，所述涂布模块能够在多个所述区域中的第一个区域内涂布胶液，并且从多个所述区域中的第二个区域开始，所述厚度测量模块能够测量前一个区域形成的膜层的实际厚度，所述涂布装置还包括：

参考值获取模块，用于根据每种函数关系获取与所述实际厚度相对应的每个涂布参数的参考值；

涂布参数初修正模块，用于根据每个涂布参数的参考值与初始值之间的差值对所述涂布参数进行初次修正，得到涂布参数的初修正值；

所述控制模块能够控制所述涂布模块根据所述涂布参数的初修正值在本区域继续涂布胶液。

优选地，每种所述函数关系能够形成一条函数曲线，所述涂布参数初修正模块能够根据公式(1)和公式(2)计算每个涂布参数的初修正值：

a′_i＝a0₊+m_i(a0_i-a1_i)  (1)

$m_i=\frac{\left|k_i\right|}{{\mathrm{\Σ}}_{j=1}^N\left|k_j\right|}---\left(2\right)$

其中，a′_i为第i个涂布参数的初修正值；

a0_i为第i个涂布参数的对应于目标膜层厚度的初始值；

a1_i为第i个涂布参数的对应于实际厚度的参考值；

k_i为膜层的厚度与第i个涂布参数的函数曲线上对应于实际厚度的点的切线斜率；

k_j为膜层的厚度与第j个涂布参数的函数曲线上对应于实际厚度的点的切线斜率；

N为涂布参数的个数；

1≤i≤N，1≤j≤N，且i，j均为整数。

优选地，所述厚度测量模块还能够在整个基板上的多个区域均完成涂布形成膜层后，测量膜层的多个检测位置的实际厚度，

对于每个检测位置，所述参考值获取模块均能够根据每种函数关系获取与该检测位置的实际厚度对应的每个涂布参数的参考值；

所述涂布装置还包括涂布参数再修正模块，对于每个检测位置，所述涂布参数再修正模块能够根据每个涂布函数的参考值与涂布该检测位置时的每个涂布函数的值之间的差值对每个涂布函数进行再次修正，得到该检测位置对应的多个涂布参数的再修正值；

所述控制模块能够将所述涂布参数的再修正值作为下一张基板的涂布参数的初始值，以控制所述涂布模块开始在下一张基板上涂布胶液。

优选地，所述涂布参数再修正模块能够根据公式(3)和公式(4)获取任意一个检测位置对应的每个涂布参数的再修正值：

b′_p,x＝b0_p,x+n_p,x(b0_p,x-b1_p,x)  (3)

$n_{p,x}=\frac{\left|c_{p,x}\right|}{{\mathrm{\Σ}}_{y=1}^N\left|c_{p,y}\right|}---\left(4\right)$

其中，b′_p,x为第p个检测位置对应的第x个涂布参数的再修正值；

b0_p,x为涂布第p个检测位置时第x个涂布参数的值；

b1_p,x为第为第p个检测位置对应的第x个涂布参数的参考值；

N为涂布参数的个数；

c_p,x为膜层的厚度与第x个涂布参数的函数曲线上对应于第p个检测位置的实际厚度的点的切线斜率；

c_p,y为膜层的厚度与第y个涂布参数的函数曲线上对应于第p个检测位置的实际厚度的点的切线斜率；

N为涂布参数的个数；

1≤x≤N，1≤y≤N，且x，y均为整数。

在本发明中，所述膜层的厚度与涂布参数之间的函数关系可以在量产之前预先获得，因此在量产时，根据预设的膜层的厚度与涂布参数之间的关系就可以确定如何设置涂布参数，以使得涂布形成的膜层的厚度达到初始的目标膜层厚度，从而使得涂布设备可以更快地确认涂布参数的值，提高了涂布效率。

附图说明

附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：

图1是本发明的实施例中提供的涂布方法的流程图；

图2是膜层的厚度与涂布滚轮的转速之间的函数曲线；

图3是本发明的实施例中涂布装置的模块示意图；

图4是涂布模块的结构示意图。

其中，附图标记为：10、涂布参数获取模块；20、控制模块；30、涂布模块；31、支撑台；32、胶液存储罐；33、导出管；34、转印滚轮；35、涂布滚轮；36、涂布层；40、测试值设置模块；50、厚度测量模块；60、函数关系获取模块；70、参考值获取模块；80、涂布参数初修正模块；90、涂布参数再修正模块。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。

作为本发明的一方面，提供一种涂布方法，用于涂布胶液以形成膜层，如图1所示，所述涂布方法包括以下步骤：

S1、根据在预定时间段内形成的膜层的厚度与至少一个涂布参数之间的至少一种函数关系获取与目标膜层厚度相对应的涂布参数的初始值；

S2、按照S1中获得的涂布参数的初始值开始进行涂布，以使获得的膜层的厚度达到初始的目标膜层厚度。

所述涂布参数是指在涂布胶液时对膜层的厚度产生影响的涂布因素，如胶液的滴注速度，胶液的类型等。膜层的厚度与每个涂布参数之间均有一种函数关系。当涂布参数的值一定时，在预定时间段进行涂布可以形成相应厚度的膜层。

在本发明中，根据膜层的厚度与涂布参数之间的函数关系，涂布参数的初始值和所述目标膜层厚度是对应的，因此，在涂布参数的初始值下获得的“初始的目标膜层厚度”和所述“目标膜层厚度”理论上是相同的。

所述膜层的厚度与涂布参数之间的函数关系可以在量产之前预先获得，因此在量产时，根据预设的膜层的厚度与涂布参数之间的关系就可以确定如何设置涂布参数，以使得涂布形成的膜层的厚度达到初始的目标膜层厚度，从而使得涂布设备可以更快地确认涂布参数的值，提高了涂布效率。

在本发明中，所述涂布参数为多个，相应地，预定时间段内形成的膜层的厚度与每个涂布参数之间均对应一种函数关系。步骤S1具体为根据每种函数关系获取该涂布参数的对应于目标膜层厚度的初始值。

具体地，执行所述涂布方法的涂布装置可以包括胶液存储罐、转印滚轮和涂布滚轮，所述胶液存储罐用于向所述转印滚轮输出胶液，所述转印滚轮用于将胶液转印在所述涂布滚轮上，所述涂布滚轮用于将胶液涂布在基板上，所述涂布参数包括：涂布滚轮的转速、向所述转印滚轮滴注胶液的速度、涂布滚轮的转轴与基板之间的距离、胶液的浓度、胶液的温度、环境温度、环境湿度中的至少一个。

如上文中所述，膜层的厚度与涂布参数之间的函数关系可以在量产涂布前预先获取。作为本发明的一种具体实施方式，所述涂布方法还包括在步骤S1之前进行的：对于每一个涂布参数：

设置该涂布参数的多个测试值；

测量在预定时间段内、该涂布参数的多个测试值下涂布形成的膜层的多个测试厚度；

根据该涂布参数的多个测试值与相应的多个测试厚度获得所述膜层的厚度与涂布参数之间的函数关系。

例如，当涂布参数包括涂布滚轮的转速这一种涂布测试时，可以设置多个不同的转速值，在每个转速值下进行胶液的涂布，并检测出形成的膜层的测试厚度，根据多个转速值和相应的测试厚度值绘制出膜层的厚度与涂布滚轮的转速之间的函数曲线。

可以理解的是，每个涂布参数的测试值具有一定的设置范围，在涂布参数为多个的情况下，当设置其中一种涂布参数的多个测试值时，其他几种涂布参数的值是固定的，并且可以将所述其他几种涂布参数的值固定为相应的设置范围内的平均值。

例如，所述涂布参数包括三个：涂布滚轮的转速、向转印滚轮滴注胶液的速度、涂布滚轮的转轴与基板之间的距离，并且在涂布装置中，涂布滚轮的转速在v1～v2之间，向转印滚轮滴注胶液的速度在v3～v4之间，涂布滚轮的转轴与基板之间的距离在d1～d2之间。那么在获取膜层的厚度与涂布滚轮的转速之间的函数关系时，可以将涂布滚轮的转速设置为v1～v2之间的多个测试转速，将胶液的滴注速度设置为(v3+v4)/2，将涂布滚轮的转轴与基板之间的距离设置为(d1+d2)/2，每设置一次涂布滚轮的测试转速，均进行一次胶液的涂布，从而测量出与多个涂布滚轮的测试转速一一对应的多个测试厚度，进而获得膜层的厚度与涂布滚轮的转速之间的函数关系。同理，可以绘制出膜层的厚度与胶液的滴注速度之间的函数关系、膜层的厚度与涂布滚轮的转轴和基板之间的距离之间的函数关系。

如上文中所述，在涂布参数的初始值下获得的膜层的厚度(即初始的目标膜层厚度)理论上与所述目标膜层厚度是相同的。但是正式量产涂布时，由于设备涂布时难免会出现一些误差，使得涂布形成的膜层的实际厚度与目标膜层厚度之间存在一定的差异，即所述初始的目标膜层厚度与目标膜层厚度并不一致。

在基板上涂布胶液时可以分区域分别涂布，所述涂布方法还包括在步骤S1之间进行的：

将基板划分为依次排列的多个区域；

在多个所述区域中的第一个区域中执行所述步骤S1和所述步骤S2。

所述涂布方法可以根据已经涂布完的区域内的膜层的厚度对涂布参数进行初次修正，以使得在后续区域内形成的膜层的厚度可以达到所述目标膜层厚度。具体地，如图1所示，所述涂布方法还包括从多个所述区域中的第二个区域开始执行的以下步骤：

S3、测量前一个区域的膜层的实际厚度；

S4、根据每种函数关系获取与所述实际厚度相对应的每个涂布参数的参考值；

S5、根据每个涂布参数的参考值与初始值之间的差值对所述涂布参数进行初次修正，得到每个涂布参数的初修正值；

S6、按照S5中获得的所述涂布参数的初修正值在基板的本区域继续涂布胶液。

在量产涂布时，在涂布参数的初始值下涂布胶液形成的膜层的实际厚度与所述目标膜层厚度不一定相同。当第S个区域已经形成的膜层的实际厚度与所述目标膜层厚度不一致时，通过对涂布参数的修正，以使得第S+1个区域形成的膜层的实际厚度达到目标膜层厚度。

本发明中，膜层的厚度与每个涂布参数之间的每种函数关系均能够形成一条函数曲线，具体地，步骤S5包括：

根据公式(1)和公式(2)计算每个涂布参数的初修正值：

a′_i＝a0_i+m_i(a0_i-a1_i)  (1)

$m_i=\frac{\left|k_i\right|}{{\mathrm{\Σ}}_{j=1}^N\left|k_j\right|}---\left(2\right)$

其中，a′_i为第i个涂布参数的初修正值；

a0_i为第i个涂布参数的对应于目标膜层厚度的初始值；

a1_i为第i个涂布参数的对应于实际厚度的参考值；

k_i为膜层的厚度与第i个涂布参数的函数曲线上对应于实际厚度的点的切线斜率；

k_j为膜层的厚度与第j个涂布参数的函数曲线上对应于实际厚度的点的切线斜率；

N为涂布参数的个数；

1≤i≤N，1≤j≤N，且i，j均为整数。

当涂布参数的个数为一种时，公式(1)即为：a′_i＝a0_i+(a0_i-a1_i)。例如，涂布参数仅包括涂布滚轮的转速，膜层的厚度与涂布滚轮的转速之间的函数曲线如图2所示，横轴表示涂布滚轮的转速，这里以基板的移动速度(单位：米/分钟)表示，纵轴表示膜层的厚度(单位：埃)。在获取的膜层的厚度与涂布滚轮的转速之间的函数关系中，速度为a0时形成的膜层的厚度为目标膜层厚度d0，而在实际量产时，当速度为a0时，形成膜层的实际厚度为d1。这时，可以根据图2的函数曲线获取实际厚度d1对应的参考速度a1，并将涂布滚轮转速调节为a’＝a0+a0-a1，以继续涂布。

当涂布参数的个数为多个时，步骤S5需要对每个涂布参数分别修正，由于每个涂布参数对膜层的厚度的影响程度不同，因此，对每个涂布参数的修正程度也不同。在公式(1)中，m_i表示第i个涂布参数对膜层的厚度的影响程度，由公式(2)可以看出，统计出膜层的厚度与每一个涂布参数的函数曲线上对应于实际厚度的点的切线斜率的绝对值，当第i个涂布参数所对应的斜率绝对值在多个斜率绝对值的总和中所占比重较大时，则表明第i个涂布参数对膜层的厚度的影响较大，因此对第i个涂布参数修正的程度也较大。

在S3中测量前一个区域形成的膜层部分的厚度时，可以只测量一个检测点处的膜层的厚度，也可以测量多个检测点处的膜层的厚度，并将多个检测点处的膜层厚度的平均值作为已形成膜层部分的实际厚度。

当完成在整个基板上涂布形成膜层后，不同位置的膜层厚度可能会不一致，为了减小不同位置的膜层厚度的差异，进一步地，如图1所示，所述涂布方法还包括当整个基板上的多个区域均完成涂布形成膜层后执行的以下步骤：

S7、测量膜层的多个检测位置的实际厚度；

S8、对于每个检测位置，根据每种函数关系获取与该检测位置的实际厚度对应的每个涂布参数的参考值；

S9、对于每个检测位置，根据每个涂布函数的参考值与涂布该检测位置时的每个涂布函数的值之间的差值对每个涂布函数进行再次修正，得到该检测位置对应的多个涂布参数的再修正值；

S10、按照S9中获得的涂布参数的再修正值在下一张基板上涂布胶液。

如上文中所述，在同一张基板上涂布时，是分别向多个区域依次涂布胶液的，因此，对于第一个区域的检测位置而言，步骤S9中所述“涂布该检测位置时的每个涂布函数的值”是指步骤S1中获取的每个涂布参数的初始值；对于第一个区域之后的检测位置而言，位置S9中所述“涂布该检测位置时的每个涂布函数的值”是指步骤S5中获取的每个涂布函数的初修正值。通过步骤S9对每个检测位置的涂布参数进行再次修正后，可以使得在下一张基板的涂布时，多个检测位置处的膜层的实际厚度均可以达到目标膜层厚度，进而提高膜层的厚度均匀性。

具体地，步骤S9包括：根据公式(3)和公式(4)计算任意一个检测位置对应的每个涂布参数的再修正值：

b′_p,x＝b0_p,x+n_p,x(b0_p,x-b1_p,x)  (3)

$n_{p,x}=\frac{\left|c_{p,x}\right|}{{\mathrm{\Σ}}_{y=1}^N\left|c_{p,y}\right|}---\left(4\right)$

其中，b′_p,x为第p个检测位置对应的第x个涂布参数的再修正值；

b0_p,x为涂布第p个检测位置时第x个涂布参数的值；

b1_p,x为第为第p个检测位置对应的第x个涂布参数的参考值；

N为涂布参数的个数；

c_p,x为膜层的厚度与第x个涂布参数的函数曲线上对应于第p个检测位置的实际厚度的点的切线斜率；

c_p,y为膜层的厚度与第y个涂布参数的函数曲线上对应于第p个检测位置的实际厚度的点的切线斜率；

N为涂布参数的个数；

1≤x≤N，1≤y≤N，且x，y均为整数。

膜层的厚度与每个涂布参数之间均形成一条函数曲线，在公式(4)中，为N条函数曲线上对应于第p个检测位置的实际厚度的点的切线斜率绝对值的总和。

例如，膜层上检测位置的个数为M，确定第p个检测位置对应的涂布参数的再修正值时，当只有一个涂布参数时，根据公式(3)可以得到第p个位置的涂布参数的再修正值为：b′_p,x＝b0_p,x+(b0_p,x-b1_p,x)，依次类推，计算M个位置的涂布参数的再修正值，之后，按照涂布参数的再修正值对下一张基板进行胶液涂布。当包括涂布滚轮的转速和胶液的滴注速度两个涂布参数时，根据公式(3)和公式(4)计算第p个检测位置的涂布滚轮的转速的再修正值和胶液的滴注速度的再修正值，以此类推，计算每个检测位置的涂布滚轮的转速的再修正值和胶液的滴注速度的再修正值，进行下一张基板的涂布，从而使得下一张基板涂布完成后，多个检测位置的膜层的厚度均达到目标厚度，提高膜层均匀性。

作为本发明的第二个方面，提供一种涂布装置，如图3所示，包括：涂布参数获取模块10、控制模块20和涂布模块30，涂布参数获取模块10用于根据预定时间段内形成的膜层的厚度与至少一个涂布参数之间的至少一种函数关系获取与目标膜层厚度相对应的涂布参数的初始值；控制模块20用于控制涂布模块30按照所述涂布参数的初始值开始进行涂布，以使得获得的膜层的厚度达到初始的目标膜层厚度。

具体地，所述涂布参数可以为多个，预定时间段内形成的膜层的厚度与每个涂布参数之间均对应一种函数关系。

如图4所示，涂布模块30可以包括胶液存储罐32、转印滚轮34和涂布滚轮35，胶液存储罐32用于向转印滚轮34输出胶液，转印滚轮34用于将胶液转印在涂布滚轮35上，涂布滚轮35用于将所述胶液涂布在基板上，涂布模块30还可以包括支撑台31、与胶液存储罐32相连的导出管33等结构。支撑台31用于支撑基板，导出管33用于将胶液存储罐32中的胶液滴注至转印滚轮34，涂布滚轮35上包裹有由压电材料制成的涂布层36，从而将胶液均匀地涂布在基板上。

具体地，所述涂布参数包括：涂布滚轮的转速、向转印滚轮滴注胶液的速度、涂布滚轮上的转轴与基板之间的距离、胶液的浓度、胶液的温度、环境温度、环境湿度中的至少一个。

因此，涂布滚轮35的马达、导出管33的电磁阀、涂布滚轮35的转轴、支撑台的马达、用于加热胶液的加热件等可以与控制模块20相连，以使得控制模块20对涂布滚轮的转速、胶液的滴注速度、涂布滚轮的转轴与基板之间的距离、胶液的温度进行控制。

进一步地，如图3所示，所述涂布装置还包括：

测试值设置模块40，用于设置每一个涂布参数的多个测试值；

厚度测量模块50，用于测量在预定时间段内、每一个涂布参数的多个测试值下形成的膜层的多个测试厚度；

函数关系获取模块60，用于根据每一个涂布参数的多个测试值与多个测试厚度获得膜层的厚度与每一个涂布参数之间的函数关系。

膜层的厚度与每个涂布参数之间均对应一个函数关系，涂布参数获取模块10可以根据每个函数关系获取与所述目标膜层厚度相对应的每个涂布参数的初始值。

在本发明中，所述基板被划分为依次排列的多个区域，涂布模块30能够在多个区域中的第一个区域内涂布胶液，并且从多个区域中的第二个区域开始，厚度测量模块50能够测量前一个区域形成的膜层的实际厚度，进一步地，如图3所示，所述涂布装置还包括：

参考值获取模块70，用于根据每种函数关系获取与所述实际厚度相对应的每个涂布参数的参考值；

涂布参数初修正模块80，用于根据每个涂布参数的参考值与初始值之间的差值对所述涂布参数进行初次修正，得到涂布参数的初修正值；

控制模块20能够控制涂布模块30根据所述涂布参数的初修正值向下一个区域继续涂布胶液。

因此，当已经形成一部分膜层时，且形成的膜层的实际厚度与目标膜层厚度之间存在差异时，通过检测已形成的膜层部分的实际厚度，并对涂布参数进行初次修正，可以减小后续涂布形成的膜层的实际厚度与目标膜层厚度的差距。

如上文中所述，每种所述函数关系能够形成一条函数曲线，具体在对涂布参数进行初次修正时，涂布参数初修正模块80能够根据公式(1)和公式(2)计算每个涂布参数的初修正值：

a′_i＝a0_i+m_i(a0_i-a1_i)  (1)

$m_i=\frac{\left|k_i\right|}{{\mathrm{\Σ}}_{j=1}^N\left|k_j\right|}---\left(2\right)$

其中，a′_i为第i个涂布参数的初修正值；

a0_i为第i个涂布参数的对应于目标膜层厚度的初始值；

a1_i为第i个涂布参数的对应于实际厚度的参考值；

k_i为膜层的厚度与第i个涂布参数的函数曲线上对应于实际厚度的点的切线斜率；

k_j为膜层的厚度与第j个涂布参数的函数曲线上对应于实际厚度的点的切线斜率；

N为涂布参数的个数；

1≤i≤N，1≤j≤N，且i，j均为整数。

进一步地，厚度测量模块50还能够在向整个张基板上的多个区域均完成涂布形成膜层后，测量膜层的多个检测位置的实际厚度，并且，对于每个检测位置，参考值获取模块70均能够根据每种函数关系获取与该检测位置的实际厚度对应的每个涂布参数的参考值；

所述涂布装置还可以包括涂布参数再修正模块90，对于每个检测位置，涂布参数再修正模块90能够根据每个涂布函数的参考值与涂布该检测位置时的每个涂布函数的值之间的差值对每个涂布函数进行再次修正，得到该检测位置对应的多个涂布参数的再修正值；

控制模块20能够将所述涂布参数的再修正值作为下一张基板的涂布参数的初始值，以控制涂布模块30开始在下一张基板上涂布胶液。

也就是说，当在整张基板上完成涂布形成膜层时，厚度测量模块50可以对不同位置的膜层的厚度进行检测，并对每个位置的涂布参数进行再次修正，修正完成后，以当前涂布参数的值向下一张基板涂布胶液，以使得在下一张基板上涂布胶液时，每个检测位置处的膜层的实际厚度均可以达到目标厚度，从而提高膜层的厚度均一性。

具体地，涂布参数再修正模块90能够根据公式(3)和公式(4)获取任意一个检测位置对应的每个涂布参数的再修正值：

b′_p,x＝b0_p,x+n_p,x(b0_p,x-b1_p,x)  (3)

$n_{p,x}=\frac{\left|c_{p,x}\right|}{{\mathrm{\Σ}}_{y=1}^N\left|c_{p,y}\right|}---\left(4\right)$

其中，b′_p,x为第p个检测位置对应的第x个涂布参数的再修正值；

b0_p,x为涂布第p个检测位置时第x个涂布参数的值；

b1_p,x为第为第p个检测位置对应的第x个涂布参数的参考值；

N为涂布参数的个数；

c_p,x为膜层的厚度与第x个涂布参数的函数曲线上对应于第p个检测位置的实际厚度的点的切线斜率；

c_p,y为膜层的厚度与第y个涂布参数的函数曲线上对应于第p个检测位置的实际厚度的点的切线斜率；

N为涂布参数的个数；

1≤x≤N，1≤y≤N，且x，y均为整数。

可以看出，在本发明中，在量产之前，预先获取膜层的厚度与涂布参数的函数关系，在量产涂布时，根据该函数关系就可以快速地确定与目标膜层厚度一致的涂布参数的初始值，从而提高了涂布效率；并且，当涂布形成的膜层的实际厚度与目标膜层厚度不一致时，可以通过实际厚度所对应的参考值和目标膜层厚度所对应的初始值对涂布参数进行初次修正，以使得在后续区域中形成的膜层的实际厚度达到目标膜层厚度；另外，当在整个基板上的所有区域均涂布形成膜层时，可以对不同检测位置的涂布参数进行再次修正，将涂布参数修正完后的值作为下一张基板的初始值，开始向下一张基板涂布，以使得在下一张基板涂布进行的膜层的厚度更均匀。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (16)

1.一种涂布方法，用于在基板上涂布胶液以形成膜层，其特征在于，所述涂布方法包括以下步骤：

S1、根据在预定时间段内形成的膜层的厚度与至少一个涂布参数之间的至少一种函数关系获取与目标膜层厚度相对应的涂布参数的初始值；

S2、按照S1中获得的涂布参数的初始值开始进行涂布，以使获得的膜层的厚度达到初始的目标膜层厚度。

2.根据权利要求1所述的涂布方法，其特征在于，所述涂布参数为多个，预定时间段内形成的膜层的厚度与每个涂布参数之间均对应一种函数关系。

3.根据权利要求1所述的涂布方法，其特征在于，执行所述涂布方法的涂布装置包括胶液存储罐、转印滚轮和涂布滚轮，所述胶液存储罐用于向所述转印滚轮输出胶液，所述转印滚轮用于将胶液转印在所述涂布滚轮上，所述涂布滚轮用于将胶液涂布在基板上，所述涂布参数包括：涂布滚轮的转速、向所述转印滚轮滴注胶液的速度、涂布滚轮的转轴与基板之间的距离、胶液的浓度、胶液的温度、环境温度、环境湿度中的至少一个。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的涂布方法，其特征在于，所述涂布方法还包括在步骤S1之前进行的以下步骤：

对于每一个涂布参数：

设置该涂布参数的多个测试值；

测量在预定时间段内、该涂布参数的多个测试值下涂布形成的膜层的多个测试厚度；

根据该涂布参数的多个测试值与相应的多个测试厚度获得所述膜层的厚度与涂布参数之间的函数关系。

5.根据权利要求1至3中任意一项所述的涂布方法，其特征在于，所述涂布方法还包括在步骤S1之前进行的：

将基板划分为依次排列的多个区域；

在多个所述区域中的第一个区域中执行所述步骤S1和所述步骤S2；

所述涂布方法还包括从多个所述区域中的第二个区域开始执行的以下步骤：

S3、测量前一个区域的膜层的实际厚度；

S4、根据每种函数关系获取与所述实际厚度相对应的每个涂布参数的参考值；

S5、根据每个涂布参数的参考值与初始值之间的差值所述涂布参数进行初次修正，得到每个涂布参数的初修正值；

S6、按照S5中获得的所述涂布参数的初修正值在基板的本区域继续涂布胶液。

6.根据权利要求5所述的涂布方法，其特征在于，每种所述函数关系能够形成一条函数曲线，步骤S5包括：

根据公式(1)和公式(2)计算每个涂布参数的初修正值：

a′_i＝a0_i+m_i(a0_i-a1_i)        (1)

$m_i=\frac{\left|k_i\right|}{{\mathrm{\Σ}}_{j=1}^N\left|k_j\right|}---\left(2\right)$

其中，a′_i为第i个涂布参数的初修正值；

a0_i为第i个涂布参数的对应于目标膜层厚度的初始值；

a1_i为第i个涂布参数的对应于实际厚度的参考值；

k_i为膜层的厚度与第i个涂布参数的函数曲线上对应于实际厚度的点的切线斜率；

k_j为膜层的厚度与第j个涂布参数的函数曲线上对应于实际厚度的点的切线斜率；

N为涂布参数的个数；

1≤i≤N，1≤j≤N，且i，j均为整数。

7.根据权利要求6所述的涂布方法，其特征在于，所述涂布方法还包括当整个基板上的多个区域均完成涂布形成膜层后执行的以下步骤：

S7、测量膜层的多个检测位置的实际厚度；

S8、对于每个检测位置，根据每种函数关系获取与该检测位置的实际厚度对应的每个涂布参数的参考值；

S9、对于每个检测位置，根据每个涂布函数的参考值与涂布该检测位置时的每个涂布函数的值之间的差值对每个涂布函数进行再次修正，得到该检测位置对应的多个涂布参数的再修正值；

S10、将S9中获得的涂布参数的再修正值作为下一张基板的涂布参数的初始值，以开始在下一张基板上涂布胶液。

8.根据权利要求7所述的涂布方法，其特征在于，步骤S9包括：

根据公式(3)和公式(4)计算任意一个检测位置对应的每个涂布参数的再修正值：

b′_p，x＝b0_p，x+n_p，x(b0_p，x-b1_p，x)     (3)

$n_{p,x}=\frac{\left|c_{p,x}\right|}{{\mathrm{\Σ}}_{y=1}^N\left|c_{p,y}\right|}---\left(4\right)$

其中，b′_p,x为第p个检测位置对应的第x个涂布参数的再修正值；

b0_p,x为涂布第p个检测位置时第x个涂布参数的值；

b1_p,x为第为第p个检测位置对应的第x个涂布参数的参考值；

N为涂布参数的个数；

c_p,x为膜层的厚度与第x个涂布参数的函数曲线上对应于第p个检测位置的实际厚度的点的切线斜率；

c_p,y为膜层的厚度与第y个涂布参数的函数曲线上对应于第p个检测位置的实际厚度的点的切线斜率；

N为涂布参数的个数；

1≤x≤N，1≤y≤N，且x，y均为整数。

9.一种涂布装置，其特征在于，包括：涂布参数获取模块、控制模块和涂布模块，

所述涂布参数获取模块用于根据预定时间段内形成的膜层的厚度与至少一个涂布参数之间的至少一种函数关系获取与目标膜层厚度相对应的涂布参数的初始值；所述控制模块用于控制所述涂布模块按照所述涂布参数的初始值开始进行涂布，以使得获得的膜层的厚度达到初始的目标膜层厚度。

10.根据权利要求9所述的涂布装置，其特征在于，所述涂布参数为多个，预定时间段内形成的膜层的厚度与每个涂布参数之间均对应一种函数关系。

11.根据权利要求10所述的涂布装置，其特征在于，所述涂布模块包括胶液存储罐、转印滚轮和涂布滚轮，所述胶液存储罐用于向所述转印滚轮输出胶液，所述转印滚轮用于将胶液转印在所述涂布滚轮上，所述涂布滚轮用于将所述胶液涂布在基板上，所述涂布参数包括：涂布滚轮的转速、向所述转印滚轮滴注胶液的速度、涂布滚轮上的转轴与基板之间的距离、胶液的浓度、胶液的温度、环境温度、环境湿度中的至少一个。

12.根据权利要求9至11中任意一项所述的涂布装置，其特征在于，所述涂布装置还包括：

测试值设置模块，用于设置每一个涂布参数的多个测试值；

厚度测量模块，用于测量在预定时间段内、每一个涂布参数的多个测试值下形成的膜层的多个测试厚度；

函数关系获取模块，用于根据每一个涂布参数的多个测试值与多个测试厚度获得膜层的厚度与每一个涂布参数之间的函数关系。

13.根据权利要求9至11中任意一项所述的涂布装置，其特征在于，所述基板被划分为依次排列的多个区域，所述涂布模块能够在多个所述区域中的第一个区域内涂布胶液，并且从多个所述区域中的第二个区域开始，所述厚度测量模块能够测量前一个区域形成的膜层的实际厚度，所述涂布装置还包括：

参考值获取模块，用于根据每种函数关系获取与所述实际厚度相对应的每个涂布参数的参考值；

涂布参数初修正模块，用于根据每个涂布参数的参考值与初始值之间的差值对所述涂布参数进行初次修正，得到涂布参数的初修正值；

所述控制模块能够控制所述涂布模块根据所述涂布参数的初修正值在本区域继续涂布胶液。

14.根据权利要求13所述的涂布装置，其特征在于，每种所述函数关系能够形成一条函数曲线，所述涂布参数初修正模块能够根据公式(1)和公式(2)计算每个涂布参数的初修正值：

a′_i＝a0_i+m_i(a0_i-a1_i)         (1)

$m_i=\frac{\left|k_i\right|}{{\mathrm{\Σ}}_{j=1}^N\left|k_j\right|}---\left(2\right)$

其中，a′_i为第i个涂布参数的初修正值；

a0_i为第i个涂布参数的对应于目标膜层厚度的初始值；

a1_i为第i个涂布参数的对应于实际厚度的参考值；

k_i为膜层的厚度与第i个涂布参数的函数曲线上对应于实际厚度的点的切线斜率；

k_j为膜层的厚度与第j个涂布参数的函数曲线上对应于实际厚度的点的切线斜率；

N为涂布参数的个数；

1≤i≤N，1≤j≤N，且i，j均为整数。

15.根据权利要求13所述的涂布装置，其特征在于，所述厚度测量模块还能够在整个基板上的多个区域均完成涂布形成膜层后，测量膜层的多个检测位置的实际厚度，

对于每个检测位置，所述参考值获取模块均能够根据每种函数关系获取与该检测位置的实际厚度对应的每个涂布参数的参考值；

所述涂布装置还包括涂布参数再修正模块，对于每个检测位置，所述涂布参数再修正模块能够根据每个涂布函数的参考值与涂布该检测位置时的每个涂布函数的值之间的差值对每个涂布函数进行再次修正，得到该检测位置对应的多个涂布参数的再修正值；

所述控制模块能够将所述涂布参数的再修正值作为下一张基板的涂布参数的初始值，以控制所述涂布模块开始在下一张基板上涂布胶液。

16.根据权利要求15所述的涂布装置，其特征在于，所述涂布参数再修正模块能够根据公式(3)和公式(4)获取任意一个检测位置对应的每个涂布参数的再修正值：

b′_p,x＝b0_p,x+n_p,x(b0_p,x-b1_p,x)      (3)

$n_{p,x}=\frac{\left|c_{p,x}\right|}{{\mathrm{\Σ}}_{y=1}^N\left|c_{p,y}\right|}---\left(4\right)$

其中，b′_p,x为第p个检测位置对应的第x个涂布参数的再修正值；

b0_p,x为涂布第p个检测位置时第x个涂布参数的值；

b1_p,x为第为第p个检测位置对应的第x个涂布参数的参考值；

N为涂布参数的个数；

c_p,x为膜层的厚度与第x个涂布参数的函数曲线上对应于第p个检测位置的实际厚度的点的切线斜率；

c_p,y为膜层的厚度与第y个涂布参数的函数曲线上对应于第p个检测位置的实际厚度的点的切线斜率；

N为涂布参数的个数；

1≤x≤N，1≤y≤N，且x，y均为整数。