CN104969154A - 用于在触摸屏设备中降低可见度的网格传感器设计 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了具有多个低可见度传感器电极的输入设备以及制造所述输入设备的方法。在一个实施例中，输入设备包括被安置在显示设备之上的多个传感器电极。多个传感器电极的第一传感器电极包括具有由形成网格的导电迹线的交叉所定义的第一周期的导电网格。终结于第一传感器电极的边缘的其中一个导电迹线的接线端部分具有与定义了第一周期的网格的相应部分的方向不同的方向。覆盖在子像素上的接近边缘的线端部分的末端具有与显示设备的子像素相同的色彩，如果末端具有与定义了第一周期性的网格的相应部分相同的方向，那么末端将覆盖在所述子像素上。

Description

用于在触摸屏设备中降低可见度的网格传感器设计
技术领域
本发明的实施例一般涉及具有多个低可见度传感器电极的输入设备，以及使用所述输入设备感测输入对象的方法。
背景技术
包括接近传感器设备的输入设备（通常也称为触摸板或触摸传感器设备）在各种电子系统中被广泛使用。接近传感器设备通常包括感测区域，所述感测区域常常由表面所区分，在所述感测区域中接近传感器设备确定了一个或更多的输入对象的存在、定位和/或运动。接近传感器设备可以被用来为电子系统提供界面。例如，接近传感器设备常常被使用作为更大的计算系统的输入设备（诸如集成在笔记本或台式计算机中的、或者笔记本或台式计算机外围的不透明的触摸板）。接近传感器设备也常常被用在更小的计算系统中（诸如集成在蜂窝电话中的触摸屏）。
一些接近传感器设备接近传感器设备使用由不透明的导电材料制成的微观接线图案以形成导电传感器元件。当被用在触摸屏的显示件之上时，这些导电迹线或导线可以阻断显示件中的一部分像素或子像素。某些图案比其他的图案更干扰显示件。例如，如果传感器周期接近于显示件周期，那么当显示件被照亮时摩尔图案可以是可见的。因为眼睛对于一些图案尺寸比其他的图案尺寸更敏感,所以摩尔图案根据其尺寸具有不同的外形。在典型显示件的尺寸范围里，小的特点更不可见。正因为如此，制造商照惯例试图通过减小每一个导电迹线的尺寸和宽度来最小化摩尔图案。成本效益处理排除了将导电迹线制作的如此小以至于它们在任何情况下都不能被看见，将简单的尺寸减小表现为无效的解决方案。
因此，存在对于改进的具有多个低可见度传感器电极的输入设备的需求，其中，所述低可见度传感器电极用于感测与输入设备的感测区域有关的输入对象。
发明内容
提出了具有多个低可见度传感器电极的输入设备以及使用所述输入设备的方法。在一个实施例中，输入设备包括被安置在具有像素阵列的显示设备之上的多个传感器电极。每个像素至少包括具有第一色彩的第一子像素、具有与第一色彩不同的第二色彩的第二子像素。多个传感器电极被配置以感测在输入设备的感测区域中的对象。多个传感器电极的至少第一传感器电极还包括多个间隔开的导电迹线，所述导电迹线形成了具有第一周期的导电网格，所述第一周期由形成网格的导电迹线交叉所定义。终结于第一传感器电极的边缘的其中一个导电迹线的接线端部分具有与定义第一周期的网格的相应部分的方向不同的方向。覆盖在子像素上方的接近第一传感器电极的边缘的导电迹线的接线端部分的末端具有与如果末端具有与定义了第一周期性的网格的对应部分相同的方向，那么末端将覆盖在其之上的子像素相同的色彩。
在另一个实施例中，提供了输入设备，所述输入设备包括具有像素阵列的显示设备和被安置在显示设备之上的多个传感器电极。传感器电极被配置以感测输入设备的感测区域中的对象。多个传感器电极还包括第一传感器电极、第二传感器电极、第一单元面积和第二单元面积，所述第一传感器电极包括形成导电网格的多个间隔开的导电迹线，所述第二传感器电极包括形成导电网格的多个间隔开的导电迹线，所述第一单元面积具有在第一传感器电极内定义的视觉上可分辨的平面面积，所述第二单元面积具有部分地在第一传感器电极内并且部分地在第二传感器内定义的视觉上可分辨的平面面积。在第一单元面积内定义的第一阻断面积基本上等于在第二单元面积内定义的第二阻断面积。
在另外一个实施例中，提供了用于制作传感器设备的方法，所述方法包括接收显示信息并且生成用于为多个传感器电极创建迹线图案的网格传感器制造指令，迹线图案具有降低的可见度。例如在一个实施例中，迹线图案可以包括具有在多个传感器电极中的第一传感器电极内定义的视觉上可分辨的平面面积的第一单元面积、以及具有部分地在多个传感器电极中的第一传感器电极内并且部分地在多个传感器电极中的第二传感器电极内定义的视觉上可分辨的平面面积的第二单元面积，其中在第一单元面积内定义的第一阻断面积基本上等于在第二单元面积内定义的第二阻断面积。
在另一个实施例中，迹线图案可以包括：具有由形成网格的迹线的交叉所定义的第一周期的导电网格，终结于多个传感器电极的传感器电极边缘的其中一个导电迹线的接线端部分，具有与导电网格的相应部分的方向不同的方向的传感器电极，以及其中接近所述传感器电极的边缘的所述导电迹线的接线端部分的末端，其覆盖在具有与如果所述末端具有与在所述传感器电极的内部的所述导电网格的相应部分相同的方向的话则所述末端将覆盖在其之上的子像素相同色彩的子像素之上。
附图说明
因此，以文所描述的特征可以被详细地理解的方式，上文所简要概述的、更具体的描述可能已参考其中一些被示意在所附的附图中的具体实施方式。然而，应该注意的是，附图只示意了本发明的实施例，并且并不因此认为是对其范围的限制，因为本发明可以承认其他同等有效的实施例。
图1是根据本发明的实施例的具有传感器设备的示例性输入设备的示意性框图。
图2是被安置在显示设备之上的图1的传感器设备的一个实施例的分解的示意图，所述示意图包括传感器的一部分的放大图，所述放大图示意了包括传感器的迹线。
图3是传感器的一部分的示意图，所述示意图示意了包括传感器的迹线相对于虚网格的方向。
图4是图1的传感器设备的一部分的一个实施例，所述实施例示意了传感器的一部分的示意图，所述示意图相对于虚网格示意了包括涉及多个像素的传感器的迹线，所述多个像素由子像素R（红色子像素）、G（绿色子像素）和B（蓝色子像素）所指示。
图4A是图5的放大部分，所述图4A示意了相邻的传感器电极的邻接边缘。
图4B是图5的放大部分，所述图4B示意了耦接于传感器电极的邻接迹线。
图5A-5B相对于虚网格和像素示意了替代的迹线布局。
图6-9是沿着相邻的传感器电极的邻接边缘的迹线的替代实施例的局部平面图。
图10是传感器设备的一部分的平面图，所述平面图指示了传感器设备内的不同的单元面积。
图11-14是根据不同的实施例的在两个迹线的交叉处的传感器电极的一部分的平面图。
图15是具有如图14所描绘地交叉的两个迹线的传感设备的一个实施例的分解图。
图16-18是根据不同的实施例的包括传感器电极的迹线的接线端末端的平面图。
图19是在不同的基片上具有传感器电极的感测设备的一个实施例的分解图。
图20是图18的感测设备的一部分的平面图，所述平面图示意了两个传感器电极的交叉。
图21是用于制作网格传感器电极的方法的一个实施例的示意图。
为了促进理解，在可能的情况下，相同的附图标记被用来指定图中共有的相同的元件。可预期的是，一个实施例中所公开的元件可以在其他实施例中被有效使用而无需特别说明。
具体实施方式
仅通过示例而非限制的方式提出以下具体实施方式。此外，并不意在受任何所表达的或所暗示的存在于前述技术领域、背景技术、发明内容或附图说明中的理论的约束。本发明不同的实施例提供了输入设备和促进触摸屏设备的可用性提升的方法。
在不同的实施例中，输入设备由导电迹线（即，微迹线）形成，所述导电迹线以一定角度和周期布置使得迹线基本上不可见，从而允许小迹线的较大组件形成基本上不会降低通过输入设备的光透射的品质的传感器元件。有利地是，低可见度迹线可用来形成实际上任何任意形状、尺寸或方向的传感器元件，从而允许传感器元件的设计专注在设备性能上而不是专注在尝试最小化光透射的中断或其他不需要的视觉效果上。
图1是根据本发明的实施例的示例性输入设备100的示意性框图。输入设备100可以被配置以向电子系统（未示出）提供输入。如本文档中所使用的，术语“电子系统”（或“电子设备”）广泛地指的是任何能够电子化处理信息的系统。电子系统的一些非限制性示例包括所有尺寸和形状的个人计算机，诸如台式计算机、膝上型计算机、笔记本计算机、平板、网页浏览器、电子书阅读器和个人数字助理（PDA）。额外的示例性电子系统包括复合的输入设备，诸如包括输入设备100和分离的摇杆或按键开关在内的物理键盘。进一步的示例性电子系统包括外设，诸如数据输入设备（包括远程控制和鼠标）和数据输出设备（包括显示屏和打印机）。其他示例包括远程终端、自助服务机（kiosk）、和视频游戏机（例如视频游戏控制台、便携式游戏设备等）。其他示例包括通信设备（包括诸如智能电话的蜂窝电话）和媒介设备（包括录音机、编辑器和播放器，所述播放器诸如电视、机顶盒、音乐播放器、数码相框和数码照相机）。另外，电子系统可以是用于输入设备的主设备或从设备。
输入设备100可以实施为电子系统的物理部件，或可物理上从电子系统分离。视情况而定，输入设备100可以使用任何一个或更多的以下部件与电子系统的部件通信：总线、网络、以及其他有线的或无线的相互连接。示例包括I2C、SPI、PS/2、通用串行总线（USB）、蓝牙、RF和IRDA。
在图1中，输入设备100被示出为接近传感器设备（也常常被称为“触摸板”或“触摸传感器设备”）并且包括具有感测元件的输入设备150，所述感测元件被配置以感测由感测区域120中的一个或多个输入对象140所提供的输入。如图1中所示，示例输入对象包括手指和触控笔。
感测区域120包含任何在输入设备100上方、周围、内和/或附近的空间，在所述空间中输入设备100能够检测用户输入（例如由一个或更多的输入对象140所提供的用户输入）。具体的感测区域的尺寸、形状和位置可以因实施例而大不相同。在一些实施例中，感测区域120在一个或更多的方向上从输入设备100的表面向空间中延伸，直到信噪比妨碍了足够精确的对象检测为止。在不同的实施例中，该感测区域120在特定方向上延伸的距离可以是少于一个毫米量级、多个毫米量级、厘米量级或更多的中的一个，并且可以随着所使用的感测技术类型和所需要的精度而显著变化。因此，一些实施例感测输入，所述输入包括与输入设备100的任何表面都没有接触、与输入设备100的输入表面（例如触摸表面）有接触、与耦合有一定量的施加的力或压力的输入设备100的输入表面有接触、和/或其组合。在不同的实施例中，输入表面可以由传感器电极驻留在其中的外壳的表面、由应用在传感器电极之上的面板或任何外壳等所提供。在一些实施例中，感测区域120在被投影到输入设备100的输入表面上时，具有矩形的形状。
输入设备100可以使用任何传感器组件和感测技术的组合以检测感测区域120中的用户输入。输入设备100包括用于检测用户输入的一个或更多感测元件（即传感器设备150的传感器电极）。如几个非限制性示例，输入设备100可以使用超声的、电容的、倒电容的（elastive）、电阻的、电感的、表面声波的、和/或光学的技术以提供一个或更多的包括正极性和负极性的合成信号，一个或多个合成信号包括指示相对于感测区域的输入对象的效果。
一些实现被配置以提供跨一维、二维、三维或更高维的空间的图像。一些实现被配置以提供输入沿着特定轴线或平面的投影。
在输入设备100的一些电阻性实现中，柔性且导电的第一层通过一个或更多的间隔元件与导电的第二层分离。在操作期间，一个或更多电压梯度被横跨多层而创建。按压柔性的第一层可以使它足够弯曲以创建层之间的电性接触，从而导致反映层之间的接触点（一个或多个）的电压输出。这些电压输出可以被用来确定位置信息。
在输入设备100的一些电感性实现中，一个或更多的感测元件拾取由谐振线圈或线圈对所感生的环电流。电流的幅度、相位和频率的一些组合可以进而被用来确定位置信息。
在输入设备100的一些电容性实现中，施加电压或电流以创建电场。附近的输入对象引起电场的变化，并且在电容性耦合中产生可检测的变化，所述变化可以被检测为电压、电流或诸如此类的变化。
一些电容性实现使用电容性感测元件的阵列或者其他常规的或非常规的图案来创建电场。在一些电容性实现中，分离的感测元件可以被以欧姆测定地共同缩短从而形成更大的传感器电极。一些电容性实现使用可以是电阻均匀的电阻片。
一些电容性实现使用根据传感器电极与输入对象之间的电容性耦合的变化的“自电容”（或“绝对电容”）感测方法。在不同的实施例中，传感器电极附近的输入对象改变传感器电极附近的电场，从而改变所测量的电容性耦合。在一个实现中，绝对电容感测方法通过相对于参考电压（例如系统接地）调制传感器电极、并且通过检测传感器电极与输入对象之间的电容性耦合来操作。
一些电容性实现使用根据传感器电极之间的电容性耦合的变化的“互电容”（或“跨电容”）感测方法。在不同的实施例中，传感器电极附近的输入对象改变传感器电极之间的电场，从而改变所测量的电容性耦合。在一个实现中，跨电容感测方法通过检测一个或更多的发送器传感器电极（也叫“发送器电极”或“发送器”）与一个或更多的接收器传感器电极（也叫“接收器电极”或“接收器”）之间的电容性耦合来操作。发送器传感器电极可以相对于参考电压（例如系统接地）被调制以发送发送器信号。接收器传感器电极可以相对于参考电压基本上保持常量以促进对合成信号的接收。合成信号可以包括与一个或更多的发送器信号对应的、和/或与一个或更多的环境干扰源（例如其它电磁信号）对应的效果（一种或多种）。传感器电极可以是专用的发送器或接收器，或者可以被配置为既发送又接收。
在图1中，处理系统（或“处理器”）110被示出为输入设备100的一部分或子系统。处理系统110被配置成操作输入设备100的硬件以使用从传感器设备150向处理系统110提供的合成信号检测感测区域120中的输入。处理系统110包括一个或更多的集成电路（IC）的多个部分或全部和/或其他电路组件；在一些实施例中，处理系统110还包括电子化可读的指令，诸如固件代码、软件代码、和/或诸如此类的。在一些实施例中，组成处理系统110的组件被设置在一起，诸如靠近输入设备100的感测元件（一个或多个）。在其他实施例中，处理系统110的组件与靠近输入设备100的感测元件（一个或多个）的一个或更多的组件、以及其他地方的一个或更多的组件物理上分离。例如，输入设备100可以是耦接于台式计算机的外设，并且处理系统110可以包括被配置以在台式计算机的中央处理单元上运行的软件、和与中央处理单元分离的一个或更多的IC（可能具有相关联的固件）。如另一个示例，输入设备100可以是物理上集成在电话中的，并且处理系统110可以包括电路和固件，所述电路和固件是电话的主处理器的一部分。在一些实施例中，处理系统110专用于实施输入设备100。在其他的实施例中，处理系统110还执行其他功能，诸如操作显示屏、驱动触觉促动器等。
处理系统110可以被实施为处理处理系统110的不同功能的一组模块。每一个模块都可以包括电路、固件、软件或它们的组合，所述电路是处理系统110的一部分。在不同的实施例中，可以使用模块的不同组合。示例模块包括用于操作诸如传感器电极和显示屏的硬件的硬件操作模块，用于处理诸如传感器信号和位置信息的数据的数据处理模块，以及用于报告信息的报告模块。进一步的示例性模块包括被配置以操作感测元件（一个或多个）来检测输入的传感器操作模块，被配置以识别诸如模式改变手势的识别模块，以及用于改变操作模式的模式改变模块。
在一些实施例中，处理系统110直接通过引起一个或更多的动作来响应于感测区域120中的用户输入（或用户输入的缺失）。示例动作包括改变操作模式、以及诸如指针移动、选择、菜单导航和其他功能的GUI动作。在一些实施例中，处理系统110向电子系统的某些部分（例如向与处理系统110分离的电子系统的中央处理器系统，如果这样的分离的中央处理系统存在的话）提供了关于输入（或输入缺失）的信息。在一些实施例中，电子系统的某些部分处理从处理系统110接收的信息以作用于用户输入，诸如以促进包括模式改变动作和GUI动作在内的完整范围的动作。
例如，在一些实施例中，处理系统110操作传感器设备150的感测元件（一个或多个）以产生指示感测区域120中的输入（或输入缺失）的电子信号。处理系统110在产生提供给电子系统的信息的过程中，可以对电子信号执行任何适当数量的处理。例如，处理系统110可以数字化从传感器设备150的传感器电极获得的模拟电子信号。如另一个示例，处理系统110可以执行滤波或其他信号调节。如另外一个示例，处理系统110可以减去或者另外叙述基线，以便信息反映出电子信号与基线之间的差异。如又进一步的示例，处理系统110可以确定位置信息、将输入识别为命令、识别笔迹等等。
在此所使用的“位置信息”广义地包含绝对位置、相对位置、速度、加速度、和其他类型的空间信息。示例性“零维”位置信息包括近/远或接触/未接触信息。示例性“一维”位置信息包括沿轴线的位置。示例性“二维”位置信息包括平面内的运动。示例性“三维”位置信息包括空间中的即时的或平均的速度。进一步的示例包括空间信息的其他代表。关于一个或更多的位置信息的历史数据还可以被确定和/或存储，包括例如随着时间追踪位置、运动或即时速度的历史数据。
在一些实施例中，以另外的输入组件实施输入设备100，所述另外的输入组件由处理系统110或由其他的一些处理系统操作。这些另外的输入组件可以为感测区域120中的输入提供冗余的功能性、或者其他的一些功能性。图1示出了感测区域120附近的按钮130，所述按钮130可以被用来使用输入设备100促进对项目的选择。其他类型的另外的输入组件包括滑块、滚珠、滚轮、开关、以及诸如此类的。这些输入组件可以是传感器设备150的一部分。相反地，在一些实施例中，可在没有其他输入组件的情况下实施输入设备100。
在一些实施例中，输入设备100包括触摸屏界面，并且感测区域120与至少一部分显示屏的有源区域重叠，所述显示屏是图2中所示出且在下文进一步描述的显示设备160的一部分。例如，输入设备100的传感器设备150可以包括与显示屏重叠的基本上透明的传感器电极，并且为相关联的电子系统提供触摸屏界面。显示屏可以是能够向用户显示视觉化界面的任何类型的动态显示件，并且可以包括任何类型的发光二极管（LED）、有机LED（OLED）、阴极射线管（CRT）、液晶显示器（LCD）、等离子、电致发光（EL）、或其他的显示技术。输入设备100和显示屏可以共享物理元件。例如，一些实施例可以使用相同的电子组件中的一些用于显示和感测。如另一个示例，显示屏可以部分地或整体地被处理系统110操作。
应该理解的是，虽然本发明的很多实施例是在功能完备的装置的上下文中被描述，但是本发明的机制能够被分发为各种形式的程序产品（例如软件）。例如，本发明的机制可以被实施并且分布为在可被电子处理器读取的信息承载存储媒介（例如可被处理系统110读取的、非暂时性的计算机可读的和/或可记录的/可写的信息承载媒介）上的软件程序。另外，本发明的实施例无论被用来进行分布的媒介的具体类型如何，都同等地应用。非暂时性的电子可读的存储媒介的示例包括不同的盘、记忆棒、记忆卡、记忆模块等。电子可读的存储媒介可以是基于闪存的、光学的、磁性的、全息的、或任何其他的存储技术。
图2是安置在显示设备160之上的传感器设备150的一个实施例的分解的示意图。如上面所讨论的，传感器设备150的一部分或全部可以任选地被包括在显示设备160中。合在一起，具有传感器设备150和显示设备160的输入设备100可以是电子系统250的一部分。
显示设备160可以具有每一个都形成自单个子像素的单色的像素、或每一个都形成自多个子像素的多色的像素。每个彩色像素有三个或四个子像素是常见的，同时彩色像素由红-绿-蓝子像素、红-绿-蓝-白子像素、红-绿-蓝-黄子像素、或者不同色彩的子像素的一些其他组合形成。在显示设备160每一像素包括多个子像素的实施例中，显示设备160通常具有沿着显示设备横跨的方向的像素间距。例如，方形的或矩形的显示屏通常具有“X”和“Y”像素间距。这些间距可以是相等的（产生方形像素）或者不相等的。在图2所描绘的实施例中，显示设备160包括由红（R）、绿（G）和蓝（B）子像素所组成的方形像素206的阵列，但是在其他实施例中，其他子像素和子像素集合可以被使用。
传感器设备150包括多个传感器元件，例如传感器电极图案，所述传感器电极图案被配置以感测邻接传感器设备150的感测区域120中的输入对象140的存在（或它的缺失）。为了示意和描述的清楚起见，图2示出了简单矩形的图案，并且没有示出不同的组件。在不同的实施例中，传感器电极图案包括多个第一传感器电极2021、2022，…....202n（总体被称为第一传感器电极202），以及被安置邻接多个第一传感器电极202的多个第二传感器2041、2042，…....204m（总体被称为第二传感器电极204），其中N和M是代表阵列中最后的电极的正整数，并且其中N可以或不可以等于M。在图2所描绘的实施例中，由相同的下标所指示的所有第二传感器电极204线性地对准以形成M个平行的行，所述M个平行的行中的3个被示出。同样地，第一传感器电极202是线性的并且平行于彼此，并且被垂直于第二传感器电极2041-M的行定向。同样可以预期的是，传感器电极202、204可以具有不同的方向。
在图1所描绘的实施例中，传感器电极202、204被示出安置在单个基片216上。可以预期的是，传感器电极202、204可以被安置在基片216的相同侧或相反侧上。同样可以预期的是，第一传感器电极202可以被安置第二传感器电极204不同的基片。
第一传感器电极202和第二传感器电极204通过导电路径线262、264耦接到处理系统110，其中导电路径线262、264中的至少一个的至少一部分被安置在基片216上，电极202、204在所述基片216上形成。连同适当的材料一起，可以由ITO、铝、银和铜形成导电路径线262、264。导电路径线262、264可以由透明的或不透明的材料制造。在图2所描绘的实施例中，导电路径线262的至少一部分260在基片216上被路由在电极202、204之间，并且导电路径线262的该部分260可以如下面参考电极202、204的构造所讨论的那样来配置。
在跨电容配置中，第一传感器电极202和第二传感器电极204可以被配置以通过将信号驱动到其中一个传感器电极（即发射器电极）上来感测邻接传感器设备150的感测区域120中的输入对象140的存在（或它的缺失），同时其他传感器电极中的至少一个配置为接收器电极。在发射器传感器电极与接收器传感器电极之间耦合的电容随着与第一和第二传感器电极202、204相关联的感测区域120中的输入对象（图1中示出为140）的接近和运动而改变。通过监测在发射器传感器电极和接收器传感器电极之间耦合的电容，输入对象140的位置和/或运动可以被确定。
替代地，在绝对感测配置中，第一传感器电极202和第二传感器电极204可以被配置成根据在传感器电极202、204与输入对象140之间耦合的电容的变化来感测邻接传感器设备150的感测区域120中的输入对象140的存在。例如，传感器电极202、204可以被相对于参考电压（例如系统接地）调制，以及通过检测在传感器电极202、204与输入对象之间耦合的电容，可以确定输入对象140的位置和/或运动。在其他实施例中，可使用其他感测方法，包括但不限于光学感测、电阻性感测、声波感测、超声感测等。
在一些触摸屏实施例中，第一传感器电极202包括在升级显示设备160的显示中所使用的一个或更多的公共电极（例如“V-com电极”）。这些公共电极可以被安置在显示设备160的适合的显示屏基片上。例如，在一些显示屏（例如平面转换（IPS）或面线转换（PLS））中，公共电极可以被安置在TFT玻璃上，公共电极可以被安置在一些显示屏（例如图案垂直配向（PVA）或多域垂直配向（MVA））的彩色滤波玻璃的底部上等。在这样的实施例中，公共电极也可以被称为“联合电极”，因为它执行多种功能。在不同的实施例中，每一个第一传感器电极202都包括一个或更多的公共电极。在其他实施例中，至少两个第一传感器电极202可以共享至少一个公共电极。
传感器电极202、204中的至少一个包括一个或更多的具有小于大约10μm的直径的导电迹线。在图2所描绘的实施例中，第二传感器电极2041的一部分被放大以便导电迹线210被示出。在不同的实施例中，导电迹线210可以由充分导电足以允许传感器电极202、204的充电和放电的材料制造。适合于制造导电迹线210的材料的示例包括除了别的以外的ITO、铝、银和铜。导电迹线210可以由透明的或不透明的材料制造，并且可以是金属网格和/或薄金属导线中的一个。适当导电的碳材料也可以被使用。有利的是，使用金属材料用于导电迹线210提供了与基本上透明的导体相比低得多的电阻，从而提高了设备性能。虽然迹线210被示出为线性的，但是迹线210也可以是波浪形的，例如沿着其长度是正弦形的。
在至少一些实施例中，迹线210可以被布置在基本上不可见和/或产生可接受的摩尔图案的方向上，迹线210的宽度可以增加，从而允许更简单的和更有效的处理。例如，导电迹线210可以被布置具有被选择以将迹线表现为基本上不可见的周期和角度中的至少一个。这允许大量小迹线210被本地化地集合以形成任何任意的形状、尺寸和方向的更大的传感器元件（诸如图2中所示意的第二传感器电极2041和其他电极）。以这种方式，第二传感器电极204（和/或相似地构建的第一传感器电极202）可以是线性的、曲线的、圆形的、多边形的、或其他需要的几何形状。
如上面所提到的，单独的迹线210相对于显示设备160的轴线的角度也将影响迹线210的可见度。只要迹线210的组合布置将不会不利地影响显示在显示设备160上的图像的可见度，则并非所有的被集合以形成单个传感器电极的迹线210都需要具有相同的角方向。因此，在很多实施例中，迹线210主要被以选择成降低可以产生的摩尔图案的可见度的角度来定向。
在图2所描绘的实施例中，包括显示设备160的像素206的轴线与X和Y坐标轴对准，所述X和Y坐标轴如传感器设备150的第二传感器电极204被安置在其上的透明基片216的侧边212、214。因此，单独的迹线210的主要角度218、220因此可以相对于的侧边中的一个来参考，例如边缘212，与像素206的轴线对准。单独的迹线210的通过其可以使迹线210表现为基本上不可见的主要角度218、220可以通过多种方法被确定。例如，使迹线210表现为基本上不可见的一种方法是旋转传感器图案的物理实现并且视觉上识别产生了可接受的或最佳的主观外形的角度（一个或多个）。如另一个示例，在显示件与不透明的迹线之间用于色彩混叠的空间频率可以被计算以确定降低了所计算的可见度的角度和/或迹线间距。如何计算空间频率的示例被基于人类视觉以文字的形式进行了描述，例如Peter G.J. Barten的《Contrast Sensitivity of the Human Eye and its Effects on Image Quality》。如另外一个示例，可以使用几何构造来为迹线选择路径，所述迹线按产生了可接受的或最佳的主观外形的顺序在红色、绿色和蓝色子像素之上经过。一般来说，提供了基本上不可见的外形的角度218、220对于给定的迹线210和像素206来说不需要处于空间频率的最大值。在例如大约500到大约1000mm的典型的触摸屏观看距离处，眼睛对大约每度1-10个周期的空间频率最敏感。大约百分之一的对比度调制在大多数可见的空间频率上可以是可见的。为了保持不可见，随着例如百分之十的对比度调制，摩尔图案的空间频率应该大于每度大约40个周期，或每-cm（cm-1）大约50个。产生具有大于大约50cm的空间频率的摩尔图案的角度218、220在典型的百分之十调制的情况下具有足够低的可见度。
在图2所描绘的实施例中，迹线210的角度218可以处于相对于边缘212（以及包括显示设备160的像素206的第一方向（例如与X轴对准））的、在提供了最大空间频率的方向的大约+/-5度内的方向处。在另一个实施例中，迹线210的角度218可以是但不限于相对于边缘212（以及包括显示设备160的像素206的第一方向（例如与X轴对准））大约30、36、56或71度中的任何一个+/-大约5度。虽然在图2所描绘的实施例中传感器设备150的第一传感器电极202被安置在垂直于X轴和传感器设备150的边缘212的角度222处，但是第一传感器电极202的角度222可以以不同于90度的角度来设置。
在图2所描绘的实施例中，迹线210的角度220可以在相对于边缘212（以及包括显示设备160的像素206的第一方向（例如与X轴对准））的、在提供了最大空间频率的方向的大约+/-5度内的方向处。在另一个实施例中，角度220相对于边缘212可以是但不限于大约109、124、144或150度中的任何一个+/-大约5度（以及包括显示设备160的像素206的第一方向（例如与X轴对准））。
具有相同的角方向（例如，或者是角218或者是角220）的邻接的迹线210可以具有被选择以使迹线表现为基本上不可见的间隔（即周期）224、226。在一个实施例中，并非所有邻接的迹线210都被类似地隔开。在不同的实施例中，第二传感器电极204可以使用与使用如上面参考第一传感器电极202所述的导电迹线相似的方法来制造。
应该注意的是，间隔224和角度220、222两者可以一起被选择以产生上面的效果。导电迹线210也可以使用间隔224和角度220、222中的任何一个或组合来相对于多个像素206定向，以和显示设备160一起形成摩尔图案，其中所述摩尔图案包括在平行于第一方向的方向上且小于像素206的3个周期的间距的间距。
包括传感器电极202、204的迹线210的其他属性同样影响传感器电极202、204对于人类眼睛来说如何视觉上可检测。例如，如果形成了不合需要的视觉图案，那么传感器电极202、204的边缘的改变、特定色彩的像素的遮断量的改变、以及横跨传感器设备150的迹线210的密度（如下面进一步所讨论的将其他光遮断材料的因素包括进去）全部都可以单独地起作用。图3-16描述了传感器设备150的实施例，所述传感器设备150提供了具有通过对包括传感器电极202、204的迹线210的不同属性的配置所实现的减小的视觉化图案的传感器电极202、204。
图3是叠加在虚网格330之上的其中一个第二传感器电极204的一个实施例。在以下关于虚网格330描述第二传感器电极204期间，相邻的传感器电极202、204从图3中被省略以增强理解的容易度。虚网格330横跨基片的感测区域越过第二传感器电极204的界线延伸，以便包括输入设备100的一个或更多的其他电极202、204可以参考相同的单一网格330被配置。虽然在图3中只有一个第二电极204被示出，但意图是一个或更多个的其他第二传感器电极204、以及可选地第一传感器电极202中的一个或更多个都可以被相似地构造。
第二传感器电极204包括由迹线210形成的主体302。主体302通过导电路径线264被连接到处理系统110，所述导电路径线264包括被安置在基片216上的部分260。
形成主体302的迹线210被布置成导电网格306，所述导电网格306包括由接线端部分310分界的内部部分308。内部部分308包括在内部交叉304和边界交叉312处交叉的迹线210。边界交叉312限定了内部交叉304并且将接线端部分310与内部交叉304分离。为了清楚起见，通过虚线340相互连接来示意出边界交叉312。
接线端部分310从内部部分308的边界交叉312延伸到接线端末端314。接线端末端314定义了主体302的外部周长（延伸）。被安置在接线端部分310中的迹线210的每一个部分都从其中一个边界交叉312延伸并且结束于接线端末端314。为了与被安置在接线端部分310中的相邻的邻接迹线210形成交叉，迹线210的接线端末端314可以是自由的并且不附着于其他迹线210。除了交叉于接线端末端314的迹线210以外，迹线210在边界交叉312和接线端末端314之间的接线端部分310内不交叉。
如上面所讨论的，主体302在尺寸上由接线端末端314定义，所述接线端末端314在一起形成了主体302的周长。图3中所描绘的主体302的周长包括被布置以形成矩形的边缘316、318、320、322。当然，主体302可以具有任何数量的边缘，并且以其他多边形的或其他的几何形状成形。例如，在相邻的传感器电极上的边缘316、318、320、322的邻接对可以是交错的、平行的、线性的、波浪形的或具有另一个几何界面。如图3的放大部分中所示出的，定义了边缘316、318的接线端末端314可以包括一个或更多的闭合终端324——即由相邻接线端314的耦合所形成的，和/或一个或更多的开放终端326——即由具有未连接的和自由的接线端末端314的终端部分310所形成的。在至少一些实施例中，邻接的迹线210的一个或更多的接线端末端314在主体302的边缘316、318、320、322处被连接是所需要的。在至少一些实施例中，邻接的迹线210的一个或更多的连接的接线端末端314与虚网格330对准同样是所期望的。通过在与虚网格330对准的连接的接线端末端314处结束主体302的邻接的迹线210，传感器电极的导体密度以及因此其性能都可以被提升。
如图3中所示意的，形成了主体302的迹线210的角度218、220的方向和间隔224、226定义了虚网格330。在图3中由未填充的线332所示意的网格330由形成导电网格306的内部部分308的迹线210的周期、角度和配置所定义，其中网格330的指示器334与在导电网格306的内部部分308内的迹线210的内部交叉304对准。主体302的接线端部分310、以及任选地导电路径线264的部分260可以不一定如下面进一步所讨论的遵照网格330，所述遵照例如重叠。在导电网格306的内部部分308内的迹线210的内部交叉304定义了与虚网格330对准的第一周期370和第二周期372。正因为如此，虚网格330具有相同的周期370、372。在至少一些实施例中，主体302的宽度（在X方向上）是由周期370所定义的距离的0.5倍及主体302的高度（在Y方向上）是由周期372所定义的距离的0.5倍中的一者或两者是所期望的，这提高了横跨主体302的、并且在相邻的传感器电极的邻接的主体302之间的迹线210的密度均匀性。在至少一些实施例中，周期370和周期372中的一个或两个是像素206的周期的0.5倍。
图4是所示出的被安置在显示设备160的一部分之上的传感器设备150的一部分平面图。虽然显示设备160被示出具有被分割为RGB子像素的像素206，但是其他子像素配置可以被使用。虚网格330同样在图4中被描绘。在图4中所示出的传感器设备150的部分中，两个第一传感器电极202的部分、三个导电路径线264的部分260、以及一个第二传感器电极204的部分和与像素206的阵列重叠的网格330一起被示出。
在传感器电极202、204内具有高的导体密度以提高性能是所需要的，但导体密度如此高以至于不合需要地使得传感器电极202、204可见或者以至于创建了摩尔图案是相反地不需要的。不幸的是，增加导体密度不合需要地使得传感器电极202、202阻挡了过多的光量。为了获得所需要的导体密度，传感器电极202、204和导电路径线264的部分260被紧密地封装。为了获得所需要的低可见度，传感器电极202、204和导电路径线264的部分260可以被配置以只阻止诸如少于大约百分之二十、或者甚至少于百分之十的些微的由显示设备160所发射的光。为了阻止摩尔图案产生，每个迹线210都横跨传感器电极202、204重复下方的像素206的覆盖图案是所期望的。在这样的紧密封装配置中，在相邻的主体302的邻接的边缘318、322处的迹线210一定不能如此接近以至于允许电弧作用或将降低输入设备100的性能的其他的电性通信。
 在本发明的一些实施例中，迹线210的接线端部分310相对于包括至少一个电极202、204的主体302的迹线210的内部部分是“移位的”。如在此参考迹线210的部分对比接线端末端314所使用的，术语“移位的”意指如果不是全部的话也至少一部分迹线210的接线端部分310从虚网格330偏离，即不与所述虚网格330对准或者是偏移的。如在此参考迹线210的部分对比接线端末端314所使用的，术语“非偏离的”意指如果迹线210未被移位，那么移位的接线端末端314将已经占用的理论位置，即理论位置与虚网格330对准。例如，在第二电极202N和204M的主体302的放大部分中所示出的接线端部分310的一个或更多的接线端末端314被移位，即从网格330偏移。
在至少一些实施例中，如果接线端末端314已经处于它的与虚网格330对准的“非偏离的”理论位置，那么移位的接线端末端314覆盖本该被覆盖的相同色彩的子像素是有利的。
参考被标记为图4A的图4的放大部分，在闭合终端324中终结的第一传感器电极2022的移位的接线端末端314被示意在移位的位置430中。也就是说，移位的位置430从与虚网格330一致的非偏离的位置432偏移。同样地，在开放终端326中终结的第一传感器电极2022的移位的接线端末端314在移位的位置434中被示意。也就是说，移位的位置434从与虚网格330一致的非偏离的位置436偏移。如详图4A中所示意的，移位的接线端末端的移位的位置430、434保持在与如果迹线210已经被放置在非偏离的位置432、436中那么迹线210就将覆盖的同一相应的子像素内（即之上）。以这种方式，光被迹线210阻断的量对于给定的子像素色彩基本上并不横跨第一传感器电极2022的主体302改变。迹线210的移位的数量和方向允许在传感器电极之间定义的缝隙460被裁制具有对光阻断或摩尔图案生成最小的作用。其他传感器电极和/或导电路径线可以被类似地配置。
现在参考被标记为图4B的图4的第二个放大部分，包括导电路径线264的邻接部分260的迹线210被示意。在图4B所描绘的实施例中，包括导电路径线264的至少一个部分260的迹线210基本上被从虚网格330移位。例如，在图4B中被指示为480的导电路径线264包括具有与第二传感器电极204M的主体302的内部部分308相同的周期370、372、且基本上与虚网格330对准的迹线210。例如，包括导电路径线480的迹线210的末端484与形成虚网格330的线332的指示器334对准。紧密邻接到导电路径线480的、被指示为482的导电路径线264基本上具有与导电路径线480相同的周期370、372，但是至少一些包括导电路径线482的迹线210相对于虚网格330被移位。例如，包括导电路径线482的迹线210的末端486按预定义的量被从虚网格330移位，所述预定义的量基本上在线480、482邻接的长度上是均匀的。换句话说，导电路径线480、482邻接的末端484、486之间的距离是基本上相等的。此外，因为移位的末端486保持在与如果处于非偏离的位置488中那么迹线210就将覆盖的子像素相同的子像素（在图4B中所示意的示例中的G）之上，导电路径线482的迹线210基本上从每个子像素阻挡了相同份额的光，这有助于降低导电路径线482的可见度。
图5A描绘了包括导电路径线264的邻接部分260的迹线210的另一个实施例，其中导电路径线264具有小于传感器电极的主体302的内部部分308的周期370的宽度，导电路径线264附接到在此被示为第二传感器电极204M的所述传感器电极。在图5A中所描绘的实施例中，现在被称为导电路径线502的导电路径线264的部分260具有小于主体302的内部部分308的周期370的宽度，导电路径线502附接到所述主体302，例如第二传感器电极204M。例如，导电路径线502的宽度可以是周期370的0.5（或其他分数）。在导电路径线502的长（Y方向）上周期可以基本上等于周期372。以这种方式，包括导电路径线502的迹线210基本上与虚网格330和包括主体302的迹线210对准。现在被称为导电路径线504的导电路径线264的紧密邻接的部分260具有与导电路径线502的宽度相似的宽度。导电路径线504同样具有与导电路径线502相同的周期，但是至少一些包括导电路径线504的迹线210相对于虚网格330被移位。换句话说，导电路径线504的周期与导电路径线502在X和Y两个方向上的周期都相同，但是只有导电路径线502而不是导电路径线504重叠虚网格330。
例如，包括导电路径线502的迹线210具有与包括导电路径线504的迹线210相同的几何配置和尺寸，但是只有导电路径线502、504中的一个被从虚网格330移位。因为导电路径线504的移位的迹线210保持在与如果处于虚网格330对准的非偏离的位置则迹线210就将覆盖的子像素相同的子像素（在图5A中所示意的示例中的G）之上，导电路径线504的迹线210基本上从每个子像素阻挡相同份额的光，这有助于降低导电路径线504的可见度。
在一些实施例中，包括导电路径线504的更长的迹线210被定向从而有利于路径线504的长方向。以这种方式，电阻被最小化以提高传感器响应时间。另外，通过配置导电路径线504具有与主体302相同的周期（370、372），导电路径线504和传感器电极202、204之间的视觉差异被降低。
图5B描绘了包括导电路径线264的邻接部分260的迹线210的另一个实施例，其中导电路径线264具有小于传感器电极的主体302的内部部分308的周期370的宽度，导电路径线264被附接到在此被示意为第二传感器电极204M的所述传感器电极。在图5B中所描绘的实施例中，现在被称为导电路径线512的导电路径线264的部分260具有小于主体302的内部部分308的周期370的宽度，导电路径线512被附接到所述主体302，例如第二传感器电极204M。例如，导电路径线512的宽度可以是周期370的0.5（或其他分数）。在导电路径线512的长（Y方向）上的周期可以基本上等于周期372。至少一些包括导电路径线512的迹线210相对于虚网格330被移位。然而，包括导电路径线512的迹线210的移位的末端516仍然在与如果处于与虚网格330对准的非偏离的位置那么迹线210就将覆盖的子像素相同的子像素（在图5A中所示意的示例中的G）之上。因此，导电路径线512的迹线210基本上从每个子像素阻挡相同部分（或份额）的光，这有助于降低导电路径线512的可见度。
现在被称为导电路径线514的导电路径线264的紧密邻接的部分260具有与导电路径线512相似的宽度。导电路径线514同样具有和导电路径线512相同的周期，并且至少一些包括导电路径线514的迹线210被相对于虚网格330移位。在图5B所描绘的实施例中，包括导电路径线514的迹线210的移位的末端518保持在与如果处于与虚网格330对准的非偏离的位置那么迹线210就将覆盖的子像素相同的子像素（在图5A中所示意的示例中的G）之上。因此，导电路径线514的迹线210基本上从每一个子像素阻挡相同部分（或份额）的光，这有助于降低导电路径线514的可见度。另外随着包括相邻的导电路径线512、514的迹线210的邻接末端516、518被移位到与线512、514之间的重叠界面的、形成虚网格330的线332的指示器334的相对侧，线512、514的导体密度可以横跨感测区域120而更好地平衡，同时确保了基本上相同部分（或份额）的光被从每一个子像素阻挡，这有助于降低导电路径线512、514的可见度。
第一传感器电极2021（或其他的传感器电极）的移位的接线端末端314可以具有许多可替代的配置。下面所讨论的图6-9通过示例的方式被提供，并且无意包括所有本发明可以被实践的变化也无意限制权利要求的范围。
图6是第二传感器电极204M和第一传感器电极2021的一个实施例的面对的边缘320、316的平面图。在图6中被示意为接线端部分602的第一传感器电极2021的移位的接线端部分310至少部分地从虚网格330被移位。邻接的接线端部分602接合于闭合终端606。在图6中被示意为接线端部分604的第二传感器电极204M的移位的接线端部分310至少部分地从虚网格330被移位。邻接的接线端部分604接合于闭合终端608。闭合终端606、608具有与传感器电极2021、204M的主体302相同的周期372。然而，闭合终端606与闭合终端608反相180度。也就是说，闭合终端606水平地（在X方向上）与第二传感器电极204M的边界交叉312对准，同时闭合终端608水平地与第一传感器电极2021的边界交叉312对准。闭合终端606、608之间的关系同样可以被描述为在x方向上镜像的，并且在y方向上移动1/2周期372。闭合终端606、608还保持在与如果处于与虚网格330对准的非偏离的位置那么迹线210就将覆盖的子像素相同的子像素（在图6中所示意的示例中分别示意为G和R）之上。因此，传感器电极2021、204M的接线端部分310中的迹线210基本上从每一个像素阻挡相同部分（或份额）的光，这有助于降低传感器电极2021、204M的可见度。
图7是第二传感器电极204M和第一传感器电极2021的另一个实施例的面对的边缘320、316的平面图。在图7中被示意为接线端部分702的第一传感器电极2021的移位的接线端部分310至少部分地从虚网格330被移位。邻接的接线端部分702接合于被不均匀地移位到形成虚网格330的线332的指示器334的第一侧的闭合终端706。在图7中被示意为接线端部分704的第二传感器电极204M的移位的接线端部分310至少部分地从虚网格330被移位。邻接的接线端部分704接合于被不均匀地移位到形成虚网格330的线332的指示器334的第二侧的闭合终端708，也就是说，（在Y方向上）被移位到闭合终端706的对面侧。闭合终端706、708具有与传感器电极2021、204M的主体302相同的周期372。闭合终端706、708基本上保持在与如果处于与虚网格330对准的非偏离的位置那么迹线210就将覆盖的子像素相同的子像素（在图7中所示意的示例中分别为G和R）之上。因此，传感器电极2021、204M的接线端部分310中的迹线210基本上从每一个像素阻挡相同部分（或份额）的光，这有助于降低传感器电极2021、204M的可见度。
图8是第二传感器电极204M和第一传感器电极2021的另一个实施例的面对的边缘320、316的平面图。在图8中被示意为接线端部分802的第一传感器电极2021的移位的接线端部分310具有与虚网格330对准的第一部分801，以及从第一部分803延伸并且终结于接线端末端314的第二部分805。接线端部分802的第二部分805从虚网格330被移位。接线端部分802的邻接的末端314接合于被不均匀地移位到形成虚网格330的线332的指示器334的第一侧的闭合终端806。在图8中被示意为接线端部分804的第二传感器电极204M的移位的接线端部分310具有与虚网格330对准的第一部分803，以及从第一部分803延伸并且终结于接线端末端314的第二部分807。接线端部分804的第二部分807从虚网格330被移位。接线端部分804的邻接的末端314接合于被不均匀地移位到形成虚网格330的线332的指示器334的第二侧的闭合终端808处，也就是说，（在Y方向上）被移位到闭合终端806的对面侧。闭合终端806、808具有与传感器电极2021、204M的主体302相同的周期372。闭合终端806、808基本上保持在与如果处于与虚网格330对准的非偏离的位置那么迹线210就将覆盖子像素的相同的子像素（在图8中所示意的示例中分别示意为G和R）之上。因此，传感器电极2021、204M的接线端部分310中的迹线210基本上从每个子像素阻挡相同部分（或份额）的光，这有助于降低传感器电极2021、204M的可见度。
图9是第二传感器电极204M和第一传感器电极2021的另一个实施例的面对的边缘320、316的平面图。第一传感器电极2021的接线端部分310在图9中被示意为移位的接线端部分902和对准的接线端部分903。移位的接线端部分902具有至少部分地从虚网格330移位的部分。对准的接线端部分903至少部分地与虚网格330对准。接线端部分902、903的邻接的末端314并不接合并且结束于开放终端906。移位的接线端部分902的移位的末端314被均匀地移位到形成虚网格330的线332的第一侧。
第二传感器电极204M的移位的接线端部分310在图9中被示意为移位的接线端部分904和对准的接线端部分905。移位的接线端部分904至少部分地从虚网格330移位。对准的接线端部分905至少部分地与虚网格330对准。接线端部分904、905的邻接的末端314并不接合并且结束于开放终端908。移位的接线端部分904的开放终端908被不均匀地移位到形成虚网格330的线332的第一侧，也就是说，（在Y方向上）移位到移位的接线端部分902的开放终端906的相同侧。开放终端906、908具有与传感器电极2021、204M的主体302相同的周期372。开放终端906、908基本上保持在与如果处于与虚网格330对准的非偏离的位置那么迹线210就将覆盖子像素的相同的子像素（在图9中所示意的示例中分别示意为G和R）之上。因此，传感器电极2021、204M的接线端部分310中的迹线210基本上从每一个子像素阻挡相同部分（或份额）的光，这有助于降低传感器电极2021、204M的可见度。
如上面所讨论的，诸如迹线210（和其他光遮断材料）横跨包括传感器电极202、204的传感器设备150的密度均匀性的迹线210的其他属性将影响对于人类眼睛来说传感器202、204如何在视觉上可检测。因此，在至少一些实施例中，维持横跨感测区域120每一单元面积的光遮断材料（即迹线210和其他光遮断元件）具有基本上均匀的密度是所期望的。单元面积可以是单个像素的面积，或可以被眼睛分辨的面积。例如，接近1分的弧度大约是人类视觉可以分辨的最小的有用面积。因此，对于被安置在手臂的长度（接近500mm）处的传感器设备150来说，单元面积可以具有0.14mm的平均直径或更大（大约0.0154mm2）。对于手持靠近眼睛的传感器设备150来说，合理的单元面积可以具有大约0.1mm的平均直径，或者更大（大约0.0073mm2）。当然，上面单元面积的示例并非意在限制权利要求的范围，而且可以使用更大的单元面积。
图10是具有传感器电极202、204的传感器设备150的一个实施例的局部平面示意图。传感器电极202、204可以如在此所述的那样被构造，或者如下面进一步描述的以提供了光遮断材料横跨传感设备150的密度均匀性的另一种方法被构造，所述光遮断材料即迹线210和其他光遮断元件。传感器设备150包括被安置在基片216上并且被连接到传感器电极2041、2042、和204M的导电路径线264的部分260。被连接到传感器电极2021的导电路径线262的部分260可以被类似地配置。
图10中所示意的传感器设备150包括在传感器设备150的不同区域中区别单元面积的5个虚方格，所述传感器设备150与所述显示设备160重叠。如上面所描述的，单元面积的尺寸通常是可以被眼睛分辩的面积。单元面积包括传感器电极和/或导电路径线的不同组合，并且某些单元面积也包含黑色矩阵的部分（例如像素间面积）或者是完全在主体内。在图10所描绘的实施例中，单元面积1002包含第一传感器电极2021和第二传感器电极2041的部分，其中只有传感器电极的两个边缘316、320（例如来自每个电极2021、204M中的每一个）通道是在单元面积1002的边界内。单元面积1004包含第一传感器电极2021、第二传感器电极2041以及第二传感器电极2042的部分，其中传感器电极通道的三个或更多的边缘（示出为四个边缘，第一传感器电极2021的边缘316，第二传感器电极2041的边缘320、322，第二传感器电极2042的边缘318、320）在单元面积1004的边界内。在图10中所示出的在第一传感器2021之上的单元面积1006只包括传感器电极202、204的中的一个的内部部分308的一部分。单元面积1008包含第二传感器电极204M的部分和被安置在基片216（图10中未示出）上的导电路径线264的部分260。单元面积1010包括被安置在基片216上的导电路径线264的相邻的部分260的部分。
在参考图10和其他在此所述的实施例所描述的示例中，在预定义的单元面积内的光遮断材料（即迹线210和光遮断元件）的平面面积，即指定的面密度，将被称为“阻挡面积”。阻挡面积意在包含所有光遮断材料，诸如单独的迹线210、迹线210和其他光遮断元件、以及单独的光遮断元件。迹线210的阻挡面积可以在给定的单元面积内使用迹线210的宽度、间隔和角方向来确定。光遮断元件的示例在下面参考图12-17被描述。在单元面积1002、1004、1006、1008、1010中的至少两个或更多的、包括任何组合的阻挡面积基本上相等，例如在小于大约5%内，并且其中小于大约2%的更小的可见度是希望的。在等于或小于大约1%时，迹线和光遮断元件将基本上不可见。例如，在单元面积1006内的阻挡面积可以基本上等于可属于迹线210和，在一个或更多的单元面积1002、1004、1008和1010内的其他光遮断元件（如果存在的话）的阻挡面积。通过使横跨单元面积1002、1004、1006、1008和1010中的至少两个或更多个的阻挡面积基本上相等，像素光被例如迹线210所阻挡的数量基本上横跨这些面积是均匀的，因此降低和/或消除了横跨传感器设备150的可察觉的视觉差异，并且因此提高了显示设备160的性能而无需减少输入设备100的触摸感测性能。
为了补偿横跨传感器电极202、204和/或导电路径线264之间所定义的缝隙460的迹线210的缺失，在传感器电极202、204的接线端部分310中的光遮断材料的平面面积可以不同，例如比在主体302的内部部分308内单独可属于迹线210的阻挡面积大。这可以通过在接线端部分310内相对于存在于主体302的内部部分308的迹线210增加一个或更多的宽度、降低间隔以及改变迹线210的角方向来完成。另外地或在替代方案中，传感器电极202、204的接线端部分310中的光遮断材料的平面面积可以增加，从而增加可属于传感器电极202、204的接线端部分310中的光遮断元件的平面面积。
图11是具有基本上均匀的迹线宽度的两个交叉迹线210的示意性平面图。交叉的迹线210可以在基片216上形成为单层材料、或形成在堆叠于输入设备100中的不同的层上。在迹线210的交叉处，交叉部分1102具有与单个迹线的被进行交叉的第二迹线所共享（例如重叠）的部分相等的平面面积。因此，交叉的迹线210的总平面面积小于长度相等的两个不交叉的迹线210的总平面面积，或者例如当迹线以90度交叉时，每一个迹线的宽度的乘积。因此，交叉部分1102的平面面积可以被修改以将两个交叉的迹线210的总平面面积基本上增加到在单元面积内长度相等的两个不交叉的迹线210的总平面面积。增加两个交叉的迹线210的总平面面积可以通过修改在交叉部分1102处或交叉部分1102附近的迹线210来实现，并且替代地或另外，通过在交叉部分1102处或在交叉部分1102附近添加光遮断来实现。
图12是被配置为相对于图11中所描绘的实施例具有更大的平面面积的两个交叉的迹线210的示意性平面图，所述图11中所描绘的实施例具有基本上均匀的迹线宽度。在图12中所描绘的实施例中，交叉的迹线210可以在基片216上形成为单层材料。迹线210在交叉部分1202处交叉，其中交叉部分1202包括与交叉的迹线210的宽度相关联的平面面积1102，并且还包括在迹线210的至少两个邻接部分之间所形成的一个或更多的附接的光遮断元件1204。光遮断元件1204可以具有任何方便的平面形式，并且在图12中所描绘的实施例中，光遮断元件1204是以在汇合于交叉部分1202的迹线210之间所定义的半径的形式。可归属于光遮断元件1204的平面面积可以大约等于交叉部分1102的平面面积。因此，交叉部分1202具有比单个迹线的被进行交叉的第二迹线所共享（例如重叠）的部分的平面面积更大的平面面积，从而提高了平面面积均匀度，并且因此降低了传感器电极202、204的视觉可察觉性。
图13是被配置成相对于图11中所描绘的实施例具有更大的平面面积的两个交叉的迹线210的示意性平面图，所述图11中所描绘的实施例具有基本上均匀的迹线宽度。在图13所描绘的实施例中，交叉的迹线210可以在基片216上形成为单层材料。迹线210在交叉部分1302处交叉，其中交叉部分1302包括与交叉的迹线210的宽度相关联的平面面积1102，并且还包括在迹线210的至少两个邻接部分之间所形成的一个或更多的附接的光遮断元件1304。光遮断元件1304可以具有任何方便的平面形式，并且在图13中所描绘的实施例中，光遮断元件1304是以连接定义交叉部分1302的迹线210的网的形式。光遮断元件1304可以具有任何合适的平面面积，并且在一个实施例中，可归属于光遮断元件1304的平面面积可以大约等于交叉部分1102的平面面积。因此，交叉部分1302具有比单个迹线的被进行交叉的第二迹线所共享（例如重叠）的部分的平面面积更大的平面面积，从而提高了平面面积均匀度，并且因此降低了传感器电极202、204的视觉可察觉性。
图14是被配置成以相对于图11中所描绘的实施例具有更大的平面面积的两个交叉的迹线210的示意性平面图，所述图11中所描绘的实施例具有基本上均匀的迹线宽度。在图14所描绘的实施例中，交叉的迹线210可以在基片216上形成为单层材料，或者形成在堆叠于输入设备100中的不同的层上。在迹线210的交叉处，交叉部分1402具有与单个迹线的被进行交叉的第二迹线所共享（例如重叠）的部分的平面面积相等的平面面积，所述共享的部分诸如交叉部分1102，或者小于大约两倍的交叉部分1102的平面面积。交叉部分1402可以在平面面积上类似于交叉部分1102、1202、1302。
一个或更多的分离的光遮断元件1410接近迹线210的交叉，并且有助于交叉部分1402的平面面积。一个或更多的分离的光遮断元件1410可以如图14中所示意的被安置在与包括交叉部分1402的一个或更多的迹线210相同的基片216上，或者如图15所示意的在输入设备100内的堆叠于基片216之上的第二基片1502上。分离的光遮断元件1410由不透明的、或者阻挡了由像素206生成的光的材料所制造，因此有助于在传感器设备150的给定的单元面积中的光遮断材料的总阻挡平面面积。分离的光遮断元件1410可以由导电材料制造，诸如适合于迹线210的制造的导电材料。替代地，分离的光遮断元件1410可以由适合的介电材料制造。从迹线210隔开的分离的光遮断元件1410并不与迹线210电性连接。
分离的光遮断元件1410可以具有任何适合的几何结构和尺寸。在实施例中，由分离的光遮断元件1410的数量和尺寸所确定的平面面积可以被选择以将交叉部分1402的总阻挡平面面积增加到高达大约两倍于交叉部分1102的平面面积。
在图14中所描绘的实施例中，迹线210和分离的光遮断元件1410被安置在相同的基片216上。迹线210和分离的光遮断元件1410可以在基片216的相同侧或相对侧上。分离的光遮断元件1410被示出在交叉部分1402的顶点之间被横向地从迹线210隔开放置。
在图15所描绘的实施例中，包括传感器电极202、204中至少一个的迹线210被安置在基片216上，同时分离的光遮断元件1410被安置在输入设备100内的堆叠于基片216之上的第二基片1502上。分离的光遮断元件1410被示出被横向地从迹线210隔开放置，但是一旦基片216、1502纵向堆叠的话所述光遮断元件1410就在交叉部分1402的顶点之间。
图16是被配置成相对于图11中所描绘的实施例具有更大的平面面积的两个交叉的迹线210的示意性平面图，所述图11中所描绘的实施例具有基本上均匀的迹线宽度。在图16所描绘的实施例中，交叉的迹线210可以在基片216上形成为单层材料。迹线210在交叉部分1602处交叉，其中交叉部分1602包括在迹线210的至少两个邻接部分之间所形成的一个或更多的附接的光遮断元件1604。光遮断元件1604可以具有任何形式，并且在图16中所描绘的实施例中，光遮断元件1604是以连接定义了交叉部分1602的迹线210的迹线的形式，以便包括交叉部分1602的光遮断元件1604并不与网330（在图16中未示出）对准。例如，开放面积1608可以被耦接邻接的迹线210的光遮断元件1604约束在交叉部分1602内。光遮断元件1604可以是任何适合的平面面积，并且在一个实施例中，可归属于光遮断元件1604的平面面积可以大约等于交叉部分1102的平面面积。因此，交叉部分1602具有比单个迹线的被进行交叉的第二迹线所共享（例如重叠）的部分的平面面积更大的平面面积，从而提高了平面面积均匀度，并且因此降低了传感器电极202、204的视觉可察觉性。
图17是具有接线端末端314的两个迹线210的示意性平面图，其中一个被配置具有附接的光遮断元件1710。第二接线端末端314被邻接分离的光遮断元件1712安置。虽然附加的和分离的光遮断元件1710、1720在图17中被示意，但是传感器电极202、204可以被配置具有单独附接的光遮断元件1710、单独分离的光遮断元件1712、或它们的组合。
附接的光遮断元件1710是与迹线210的一个短段之上的本地平面面积的偏差。在这里，附接的光遮断元件1710被示意为包括接线端末端314的迹线210的增加的宽度。附接的光遮断元件1710可以被用来补偿在具有开放终端326（如图4A中所示）的传感器电极的边缘处的迹线210的接线端末端314的平面面积的减少，所述开放终端326从网格330被移位，或者被用来补偿迹线210在相邻的传感器电极或导电路径线（如图18中所示）之间的缝隙460中的缺失。分离的光遮断元件1712可以被安置靠近于接线端末端314以提供相似的效果。
交叉部分1702可以被配置成类似于交叉部分1402。因此，附接的光遮断元件1710和/或分离的光遮断元件1712可能已选择具有任何适合的几何结构和尺寸，以便由光遮断元件1710、1712的数量和尺寸所确定的平面面积可以被选择以增加包括开放终端326的单元面积的总阻挡平面面积，以便总阻挡平面面积横跨不同的区域是均匀的（诸如由图10所示意的单元面积）以阻止不需要的视觉效果。
图18是横跨缝隙460对准的不同的传感器电极202、204的迹线210的示意性平面图。每一个迹线210的接线端末端314都包括附接的光遮断元件1710。光遮断元件1710的尺寸和几何结构和尺寸可以被选择以补偿迹线210横跨460的缺失，以便诸如图10中所示意的单元面积1002、1004、1006的单元面积中的总平面面积跨缝隙460，以便阻挡平面面积横跨不同的单元面积是均匀的从而阻止不需要的视觉效果。
图19是输入设备1900的一个实施例的分解的平面图。除了传感器元件202、204被安置在不同基片216、1902上之外，输入设备1900基本上类似于上面所述的输入设备100。具有传感器元件204的基片1902可以是显示设备160的一部分或者在显示设备160的顶部，并且在一个实施例中，传感器元件204包括显示设备160的VCOM电极。另外参考图20，重叠区域2002被定义在一个传感器元件202垂直地与另一个传感器元件204对准的地方。如果传感器元件202、204的重叠区域2002具有与传感器元件202、204的非重叠的区域2004相同的阻挡平面面积，那么横跨更大的单元面积（诸如图10中所示意的）的总阻挡平面面积将不会是均匀的。因此，迹线图案、迹线宽度和对光遮断元件的使用中的至少一个可以被采用，它增加了总阻挡平面面积以便被单独约束在单个传感器202内的单元面积可以基本上等于包括邻接的传感器元件202、204的一个或更多重叠区域2002的单元面积。
除了具有如上面所述的金属网格传感器电极的输入设备以外，本发明还包括用于为了在输入设备中使用而制作这样的传感器电极的方法。该方法可以被设计室和传感器制造商使用。图21是用于制作网格传感器电极的方法2100的一个实施例的示意性框图，所述网格传感器电极诸如上面所述的传感器电极202、204中的至少一个。
方法2100使用被配置以产生用于供制造设备2104使用的设计指令2110的设计引擎2102。制造设备2104可以是任何适合于形成如上面所述的传感器电极202、204一样被配置及布置的迹线210的设备。制造设备2104可以配置成沉积导电材料的薄片，进而选择性地移除导电材料的部分，将迹线210留在形成传感器电极202、204的图案中。例如，制造设备2104可以包括沉积和可移除设备，诸如打印设备、喷墨设备、物理气相沉积设备、电镀设备、化学气相沉积设备、和雾化沉积设备，连同其他适合的沉积设备一起，同时可移除设备可以包括平版印刷设备、湿式蚀刻设备、干式（等离子）蚀刻设备，和激光烧蚀设备、连同其他可移除的设备一起。可替代地，制造设备2104可以直接形成迹线210和传感器电极202、204。例如，制造设备2104可以是喷墨打印设备、冲压设备、电镀设备、连同其他制造设备一起。
由设计引擎2102所生成的指令2110是适合于提供和/或生成可被制造设备2104执行以生成迹线210和传感器电极202、204的机器指令的形式。例如，设计指令2110除了其它之外还可以是输出的CAD或CAM文件，诸如DXF、Gerber和GDSII。设计指令2110可以驻留在设计引擎2102中并且被制造设备2104访问。设计指令2110可以可替代地被加载到控制制造设备2104的功能的处理器的存储器中。设计指令2110也可以从设计引擎2102转移到制造设备2104的存储器或处理器，例如通过网络或者如安置在便携式数字存储设备上的计算机可读媒介。设计指令2110可以是用于完整的感测设备150，或者设计指令2110可以是指定感测设备150的任何部分的部分的。
设计引擎2102一般包括处理器2114、存储器2116和用于处理器2114的控制电路2118，并且如下面进一步详细讨论的那样，促进了对制造设备2104以及如此促进了的对传感器电极设计过程的控制。处理器2114可以是能被用于生成可被制造设备2104执行的机器指令的通用计算机处理器的任何形式之一。处理器2114的存储器2116可以是一个或更多的随时可用的存储器，诸如随机存取内存（RAM）、只读内存（ROM）、软盘、硬盘或其他任何形式的本地或远程的数字存储。支持电路2118被耦接到处理器2114用于以传统的方式支持处理器。这些电路2118可以包括缓存、电源、时钟电路、输入/输出电路和子系统、以及诸如此类的。程序2120被存储在内存2106或可被处理器2114访问的其他计算机可读媒介中，并且所述程序可执行为软件例程以生成制造指令2110。可适于实现本发明的示例性程序2120包括可从位于加州圣克拉拉的Synaptics公司获得的Design StudioTM 4（DS4）。
设计引擎2102允许诸如设计室、输入设备提供商、传感器制造商以及诸如此类的用户输入如显示件输入2130和传感器输入2132所示意的传感器电极和显示设备的属性，以获得具有降低的视觉效果的输入设备。显示件输入2130一般包括显示件尺寸、显示件类型、显示件方向（横向或纵向）、像素间距、像素布局等。
设计引擎2102可配置成为特定的网格配置提供优化的传感器电极布局（即一个传感器电极对于另一个的相对位置），或者为预先确定的传感器布局提供优化的网格配置。
例如，作为传感器202、204的预定义的布局几何结构是所需要的传感器输入2132中的一个时，用户可以指示设计引擎2102确定一个或更多的网格图案属性，即，间隔224、226，角度218、220，迹线210的宽度，迹线材料，迹线厚度，接线端末端314相对于网格330的位置等。作为对用户的反馈输出，设计引擎2102可以提供由设计引擎2102初始生成的传感器电极设计的传感器导体密度以及传感器反射率或透射率，所述反射率或透射率影响传感器电极的可见程度，所述传感器导体密度影响传感器电子性能。因此，如果用户并不希望使用由设计引擎2102所确定的反射率或透射率或者传感器导体初始密度，用户可以通过向设计引擎2102输入作为传感器输入2102的反射率或透射率以及/或者传感器导体密度的值来设置所需要的数量的反射率或折射率以及/或者传感器导体密度，设计引擎2102将针对所述传感器输入2102依次重计算网格图案属性以及/或者具有所需要的反射率或折射率和/或传感器导体密度的传感器电极布局。任何一个或更多的网格图案属性也可以由用户提供作为传感器输入2130，从而设计引擎2102提供具有所需要的视觉和性能特点。
例如，用户可以希望设计引擎2102连同传感器202、204的布局几何结构一起，确定网格图案属性中的一个或更多个。作为对用户的反馈输出，设计引擎2102可以再次提供由设计引擎2102初始生成的网格电极设计的传感器导体密度以及传感器反射率或透射率。因此，如果用户并不希望使用由设计引擎2102所确定的反射率或透射率或者传感器导体初始密度，用户可以通过向设计引擎2102输入作为传感器输入2102的反射率或透射率和/或传感器导体密度的值来设置所需数量的反射率或折射率和/或传感器导体密度，设计引擎2102将针对所述这些值依次重计算网格图案属性以及/或者具有所需的反射率或折射率和/或传感器导体密度的传感器电极布局。
在另一个示例中，用户可以允许设计引擎2102为具体的一组显示件输入2130确定至少一个或更多的传感器网格属性以及传感器202、204的布局几何结构。设计引擎2102可以确定传感器网格属性，以及具有所产生的传感器反射率或透射率以及传感器导体密度的传感器202、204的布局几何结构。可替代地，传感器反射率或透射率以及传感器导体密度中的一个或两个都可以提供给设计引擎2102作为传感器输入2130，从而设计引擎2102为输出的传感器网格属性提供了所需要的视觉和性能特点，以及传感器202、204的布局几何结构。
因此，提供了具有多个低可见度传感器电极的输入设备和制造所述输入设备的方法。迹线和/或传感器电极以最小的图案可察觉性的方式被布置。在一些实施例中，迹线可以电性连接到彼此以形成宏观的（例如单个更大的）传感器元件，凭借对迹线属性的配置和/或用来形成传感器元件的遮断材料，所述宏观的传感器元件可以被配置为实质上任何任意的形状、尺寸或方向，同时不对在邻接传感区域的显示设备上所显示的图像的可见度造成不利影响。

Claims (22)

1.一种输入设备，包括：
具有像素阵列的显示设备，每一个像素至少包括具有第一色彩的第一子像素和具有不同于所述第一色彩的第二色彩的第二子像素；以及
多个传感器电极，其被安置在所述显示设备之上并且被配置以感测所述输入设备的感测区域中的对象，其中至少所述多个传感器电极中的第一传感器电极还包括：
形成导电网格的多个间隔开的导电迹线，其中网格具有由形成所述网格的所述导电迹线的交叉所定义的第一周期；
终结于所述第一传感器电极的边缘处的其中一个所述导电迹线的接线端部分具有与定义所述第一周期的所述网格的相应部分的方向不同的方向；并且其中
接近所述第一传感器电极的所述边缘的所述导电迹线的所述接线端部分的末端，其覆盖在具有与如果所述末端具有与定义所述第一周期的所述网格的所述相应部分相同的方向的话则所述末端将覆盖在其之上的子像素相同色彩的子像素之上。
2.根据权利要求1所述的输入设备，其中所述接线端末端结束在与另一个迹线的交叉处。
3.根据权利要求1所述的输入设备，其中所述接线端末端覆盖在相同的子像素之上，如果所述末端具有与定义所述第一周期的所述网格的所述相应部分相同的方向，那么所述末端将覆盖在所述相同的子像素之上。
4.根据权利要求1所述的输入设备，其中所述接线端末端覆盖在不同的像素上，如果所述末端具有与定义所述第一周期的所述网格的所述相应部分相同的方向，那么所述末端将覆盖在所述不同的像素上。
5.根据权利要求1所述的输入设备，其中相对于包括所述网格中定义所述网格的所述周期的一部分的同等尺寸的单元格的网格密度，接线端末端的方向并不改变包括所述接线端末端的单元格的网格密度。
6.根据权利要求1所述的输入设备，所述设备还包括：
具有与所述第一传感器电极的网格相同周期的网格的第二传感器电极。
7.根据权利要求6所述的输入设备，其中包括所述第一和第二传感器电极的邻接部分的单元格的网格密度基本上等于包括第一和第二传感器电极中的一个的仅一部分的同等大小的单元格的网格密度。
8.根据权利要求6所述的输入设备，其中包括至少一个耦接于所述第一传感器电极的路径迹线的单元格的网格密度基本上等于包括所述第一和第二传感器电极中的一个的仅一部分的同等尺寸的单元格的网格密度。
9.根据权利要求6所述的输入设备，其中包括至少一个耦接于所述第一传感器电极的路径迹线的单元格的网格密度基本上等于包括所述第一和第二传感器电极的邻接部分的同等尺寸的单元格的密度。
10.根据权利要求1所述的输入设备，其中形成所述网格的所述导电迹线具有小于大约10μm的直径。
11.根据权利要求10所述的输入设备，其中形成所述网格的所述导电迹线与所述显示设备一起形成摩尔图案，其中所述摩尔图案包括大于大约每厘米10个周期的空间频率。
12.根据权利要求1所述的输入设备，还包括：
由形成所述导电迹线的相同的材料所制造的密度补偿部件，所述密度补偿部件被安置邻接两个导电迹线之间的交叉，所述密度补偿部件具有基本上等于由所述迹线的宽度所限制的交叉的面积的面积。
13.根据权利要求12所述的输入设备，其中所述密度补偿部件在与包括所述第一传感器电极的层不同的层上形成。
14.根据权利要求12所述的输入设备，其中所述密度补偿部件被与迹线中的至少一个隔离。
15.根据权利要求12所述的输入设备，其中所述密度补偿部件被电性耦接于所述迹线中的至少一个。
16. 根据权利要求15所述的输入设备，其中所述密度补偿部件填充了至少一个由所述迹线的交叉所形成的顶点。
17.根据权利要求1所述的输入设备，还包括：
具有与所述第一传感器电极的所述网格相同的周期的网格的第二传感器电极，所述第一和第二传感器电极驻留在所述设备的不同的层中。
18.根据权利要求17所述的输入设备，其中包括所述第一和第二传感器电极的邻接部分的单元格的网格密度基本上等于包括所述第一和第二传感器电极中的一个的仅一部分的同等尺寸的单元格的密度。
19.根据权利要求17所述的输入设备，其中包括至少一个耦接于所述第一传感器电极的路径迹线的单元格的网格密度基本上等于包括所述第一和第二传感器电极中的一个的仅一部分的同等尺寸的单元格的网格密度。
20.根据权利要求17所述的输入设备，其中包括至少一个耦接于所述第一传感器电极的路径迹线的单元格的网格密度基本上等于包括所述第一和第二传感器电极的邻接部分的同等尺寸的单元格的网格密度。
21.一种输入设备，包括：
具有像素阵列的显示设备；以及
被安置在所述显示设备之上并且被配置以感测所述输入设备的感测区域中的感测对象的多个传感器电极，其中，所述多个传感器电极还包括：
包括形成导电网格的多个间隔开的导电迹线的第一传感器电极；
包括形成导电网格的多个间隔开的导电迹线的第二传感器电极；
具有在所述第一传感器电极内所定义的大于大约0.0073mm2的平面面积的第一单元面积；以及
具有部分地在所述第一传感器电极内并且部分地在所述第二传感器电极内所定义的大于大约0.0073mm2的平面面积的第二单元面积，其中在所述第一单元面积内定义的第一阻断面积基本上等于在所述第二单元面积内定义的第二阻断面积。
22.一种用于制作传感器设备的方法，所述方法包括：
接收显示信息；
生成用于创建多个传感器电极的迹线图案的网格传感器制造指令，所述迹线图案具有以下中的至少一个：
（A）具有在所述多个传感器电极的第一传感器电极内所定义的大于大约0.0073mm2的平面面积的第一单元面积，以及具有部分地在所述多个传感器的所述第一传感器电极内并且部分地在所述多个传感器的所述第二传感器内所定义的大于大约0.0073mm2的平面面积的第二单元面积，其中在所述第一单元面积内定义的第一阻断面积基本上等于在所述第二单元面积内定义的第二阻断面积；以及
（B）具有由形成所述网格的所述迹线的交叉所定义的第一周期的导电网格，终结于所述多个传感器电极的所述传感器电极的边缘处的其中一个所述导电迹线的接线端部分，具有与所述导电网格的相应部分的方向不同的方向的所述传感器电极，以及其中接近所述传感器电极的边缘的所述导电迹线的接线端部分的末端，其覆盖在具有与如果所述末端具有与在所述传感器电极的内部的所述导电网格的相应部分相同的方向的话则所述末端将覆盖在其之上的子像素相同色彩的子像素之上。
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