CN104932145B - 显示基板及其制造方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种显示基板及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。显示基板包括：衬底基板；衬底基板上形成有像素单元，像素单元包括：显色结构、设置在显色结构四周的第一反光结构、设置在显色结构的侧面且位于第一反光结构远离显色结构一侧的阻隔结构、设置在阻隔结构上的反光层。反光层上形成有透光区域和第二反光结构，透光区域在衬底基板上的正投影落在第一反光结构在衬底基板上的正投影内，显色结构在衬底基板上的正投影落在第二反光结构在衬底基板上的正投影内。由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和反光层围成空腔。本发明无需液晶和偏光片，避免液晶和偏光片对光线的吸收，达到减少光的亮度损失和节能的效果。

Description

显示基板及其制造方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示基板及其制造方法、显示装置。
背景技术
随着显示技术的不断发展，显示装置广泛应用于显示领域，现有的显示装置通常为液晶显示器(英文：Liquid Crystal Display，简称：LCD)。
LCD通常采用液晶分子配合偏光片实现图像的显示。具体地，LCD通常包括对盒成型的阵列基板和彩膜基板，以及填充在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层，液晶层中包括多个液晶分子，阵列基板的背光侧设置有上偏光片，彩膜基板的出光侧设置有下偏光片，背光源位于上偏光片远离阵列基板的一侧，背光源与上偏光片之间设置有导光板。背光源发出的光依次经过导光板、上偏光片、阵列基板、液晶层、彩膜基板和下偏光片，利用液晶层中的液晶分子的光致各向异性，改变光的偏振态，调节由下偏光片射出的光的光通量，光线在经过彩膜基板时，彩膜能够对光线进行滤色形成彩色的光，使得LCD能够显示彩色图像。
在实现本发明的过程中，发明人发现现有技术至少存在以下问题：背光源发出的光在经过导光板、上偏光片、阵列基板、液晶层、彩膜基板和下偏光片时，上偏光片、液晶层和下偏光片均会对光进行吸收，导致光的亮度和能量损失较大。
发明内容
为了解决现有技术中光的亮度和能量损失较大的问题，本发明提供一种显示基板及其制造方法、显示装置。所述技术方案如下：
第一方面，提供一种显示基板，所述显示基板包括：
衬底基板；
所述衬底基板的显示区域上形成有至少一个像素单元；
每个所述像素单元包括：显色结构、设置在所述显色结构四周的第一反光结构、设置在所述显色结构的至少两个相对的侧面且位于所述第一反光结构远离所述显色结构的一侧的阻隔结构，以及设置在所述阻隔结构上的反光层；
所述反光层上对应每个所述像素单元形成有至少一个透光区域和第二反光结构，所述透光区域在所述衬底基板上的正投影落在所述第一反光结构在所述衬底基板上的正投影内，所述显色结构在所述衬底基板上的正投影落在所述第二反光结构在所述衬底基板上的正投影内；
其中，在每个所述像素单元中，由所述显色结构、所述第一反光结构、所述阻隔结构和所述反光层围成空腔。
可选地，所述衬底基板的周边区域形成有聚光层，所述周边区域是所述衬底基板上除所述显示区域之外的区域。
可选地，形成有所述聚光层的衬底基板的显示区域上形成有多条间隔设置的横向黑矩阵和多条间隔设置的纵向黑矩阵，所述横向黑矩阵和所述纵向黑矩阵同层且交叉设置，且相邻的所述两条横向黑矩阵与相邻的两条所述纵向黑矩阵能够围成开口区域；
所述开口区域上形成有透明电极；
每个所述透明电极上形成有至少一个所述显色结构；
每条所述纵向黑矩阵上形成有所述阻隔结构和至少一个所述第一反光结构；和/或，每条所述横向黑矩阵上形成有所述阻隔结构和至少一个所述第一反光结构。
可选地，所述反光层由多个长条状的反光层构成，每个所述长条状的反光层上对应每个所述像素单元形成有至少一个所述透光区域和所述第二反光结构；
所述透明电极为长条状结构，所述透明电极位于每两条相邻的所述纵向黑矩阵之间，或者，所述透明电极位于每两条相邻的所述横向黑矩阵之间，每个所述长条状的反光层的长度方向与所述透明电极的长度方向垂直。
可选地，当所述第一反光结构设置在所述纵向黑矩阵上时，所述第一反光结构的反光面与所述纵向黑矩阵的表面之间的夹角的范围为20°～70°；
当所述第一反光结构设置在所述横向黑矩阵上时，所述第一反光结构的反光面与所述横向黑矩阵的表面之间的夹角的范围为20°～70°。
可选地，所述第一反光结构通过构图工艺在所述衬底基板上形成；
所述显色结构和所述阻隔结构都采用树脂形成；
所述反光层为反光薄膜，采用反光材料形成。
第二方面，提供一种显示基板的制造方法，所述显示基板包括第一方面或第一方面的任意一种可选方式所述的显示基板，所述显示基板包括：衬底基板，所述方法包括：
在所述衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元；
每个所述像素单元包括：显色结构、设置在所述显色结构四周的第一反光结构、设置在所述显色结构的至少两个相对的侧面且位于所述第一反光结构远离所述显色结构的一侧的阻隔结构，以及设置在所述阻隔结构上的反光层；
所述反光层上对应每个所述像素单元形成有至少一个透光区域和第二反光结构，所述透光区域在所述衬底基板上的正投影落在所述第一反光结构在所述衬底基板上的正投影内，所述显色结构在所述衬底基板上的正投影落在所述第二反光结构在所述衬底基板上的正投影内；
其中，在每个所述像素单元中，由所述显色结构、所述第一反光结构、所述阻隔结构和所述反光层围成空腔。
可选地，在所述衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元之前，所述方法还包括：
在所述衬底基板的周边区域形成聚光层，所述显示区域是所述衬底基板上除所述周边区域之外的区域。
可选地，在所述衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元之前，所述方法还包括：
在形成有所述聚光层的衬底基板的显示区域上形成多条间隔设置的横向黑矩阵和多条间隔设置的纵向黑矩阵，使所述横向黑矩阵和所述纵向黑矩阵同层且交叉设置，且相邻的两条所述横向黑矩阵与相邻的两条所述纵向黑矩阵围成开口区域；
在所述开口区域上形成透明电极；
所述在所述衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元，包括：
在每个所述透明电极上形成至少一个所述显色结构；
在每条所述纵向黑矩阵上形成至少一个所述第一反光结构，使所述第一反光结构位于所述显色结构四周；在每条所述纵向黑矩阵上未设置所述第一反光结构的区域形成所述阻隔结构，使所述阻隔结构位于所述第一反光结构远离所述显色结构的一侧；和/或，在每条所述横向黑矩阵上形成至少一个所述第一反光结构，使所述第一反光结构位于所述显色结构四周；在每条所述横向黑矩阵上未设置所述第一反光结构的区域形成所述阻隔结构，使所述阻隔结构位于所述第一反光结构远离所述显色结构的一侧。
可选地，所述在所述衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元，还包括：
在形成有所述阻隔结构的基板上除所述阻隔结构以外的区域形成牺牲层；
在形成有所述牺牲层的基板上形成所述反光层；
在所述反光层上形成至少一个所述透光区域和所述第二反光结构，使每个所述透光区域在所述衬底基板上的正投影落在所述第一反光结构在所述衬底基板上的正投影内，且使所述显色结构在所述衬底基板上的正投影落在所述第二反光结构在所述衬底基板上的正投影内；
去除所述牺牲层，使每个所述像素单元中，由所述显色结构、所述第一反光结构、所述阻隔结构和所述反光层围成所述空腔。
可选地，所述在形成有所述牺牲层的基板上形成所述反光层，包括：
在形成有所述牺牲层的基板上形成多个长条状的反光层；
所述在所述反光层上形成至少一个所述透光区域，包括：
在每个所述长条状的反光层上形成至少一个所述透光区域；
其中，所述透明电极为长条状结构，所述透明电极位于每两条相邻的所述纵向黑矩阵之间，或者，所述透明电极位于每两条相邻的所述横向黑矩阵之间，每个所述长条状的反光层的长度方向与所述透明电极的长度方向垂直。
可选地，当所述第一反光结构设置在所述纵向黑矩阵上时，所述第一反光结构的反光面与所述纵向黑矩阵的表面之间的夹角的范围为20°～70°；
当所述第一反光结构设置在所述横向黑矩阵上时，所述第一反光结构的反光面与所述横向黑矩阵的表面之间的夹角的范围为20°～70°。
可选地，所述第一反光结构通过构图工艺在所述衬底基板上形成；
所述显色结构和所述阻隔结构都采用树脂形成；
所述反光层为反光薄膜，采用反光材料形成。
第三方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括：显示基板和背光模组，所述显示基板和所述背光模组组装形成所述显示装置，所述显示基板包括第一方面或第一方面的任意一种可选方式所述的显示基板。
可选地，所述背光模组包括：框架、导光板和反光镜，
所述背光模组通过所述框架与所述显示基板组装形成所述显示装置；
所述导光板设置在所述框架靠近所述显示基板的一侧，所述反光镜设置在所述导光板与所述框架之间，且所述反光镜位于所述导光板的四周，所述反光镜与所述显示基板上的聚光层对应；
外界的光线能够通过所述显示基板上的聚光层进入所述显示装置的内部，通过所述反光镜和所述导光板，从反光层上的透光区域进入每个像素单元中的由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和所述反光层围成的空腔中，通过所述第一反光结构和第二反光结构的反射，从所述显色结构上射出。
可选地，所述背光模组包括：框架、导光板和灯管组，
所述背光模组通过所述框架与所述显示基板组装形成所述显示装置；
所述导光板设置在所述框架靠近所述显示基板的一侧，所述灯管组设置在所述导光板与所述框架之间，且所述灯管组位于所述导光板的四周；
所述灯管组发出的光线能够通过所述导光板，从反光层上的透光区域进入每个像素单元中的由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和所述反光层围成的空腔中，通过所述第一反光结构和第二反结构的反射，从所述显色结构上射出。
可选地，所述背光模组包括：框架、导光板、反光镜和灯管组，
所述背光模组通过所述框架与所述显示基板组装形成所述显示装置；
所述导光板设置在所述框架靠近所述显示基板的一侧，所述反光镜设置在所述导光板与所述框架之间，且所述反光镜与所述导光板的四个侧面中的至少一个侧面接触，所述反光镜与所述显示基板上的聚光层对应；
所述灯管组设置在所述导光板与所述框架之间，且所述灯管组靠近所述导光板的四个侧面中的与所述反光镜未接触的侧面设置；
外界的光线能够通过所述显示基板上的聚光层进入所述显示装置的内部，通过所述反光镜和所述导光板，从反光层上的透光区域进入每个像素单元中的由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和所述反光层围成的空腔中，通过所述第一反光结构和第二反光结构的反射，从所述显色结构上射出；
所述灯管组发出的光线能够通过所述导光板，从所述反光层上的透光区域进入所述空腔中，通过所述第一反光结构和所述第二反光结构的反射，从所述显色结构上射出。
可选地，所述反光镜为三棱镜，所述反光镜的反光面在所述显示基板上的正投影与所述聚光层在所述显示基板上的正投影至少部分重叠。
可选地，所述显示装置还包括：驱动电路板，所述驱动电路板上设置有行驱动电路和列驱动电路，
所述行驱动电路与反光层连接，用于向所述反光层施加电压；
所述列驱动电路与透明电极连接，用于向所述透明电极施加电压；
在向所述透明电极和所述反光层施加方向相反的电压时，所述反光层上与所述透明电极相对的部位向所述透明电极靠近；
当所述反光层上与所述透明电极相对的部位向所述透明电极靠近至所述反光层上与所述透明电极相对的部位覆盖所述透明电极上的显色结构时，所述透明电极上的显色结构关闭。
本发明提供的技术方案带来的有益效果是：
本发明提供的显示基板及其制造方法、显示装置，由于每个像素单元中，由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和反光层围成空腔，当将显示基板和背光模组组装后，背光模组提供的背光源发出的光线能够通过反光层的透光区域进入空腔内，通过第一反光结构和反光层上的第二反光结构的反射从显色结构射出，本发明实施例提供的显示基板在形成显示装置时，无需液晶和偏光片，避免液晶和偏光片对光线的吸收，达到减少光的亮度损失和节能的效果。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的一种显示基板的结构示意图；
图2是本发明实施例提供的另一种显示基板的结构示意图；
图3是图2所示实施例提供的显示基板的俯视图；
图4是本发明实施例提供的向图2所示的显示基板施加电压后的结构示意图；
图5是本发明实施例提供的一种显示基板的制造方法的方法流程图；
图6是图5所示实施例提供的在衬底基板的周边区域形成聚光层后的结构示意图；
图7是图5所示实施例提供的在衬底基板的周边区域形成聚光层后的俯视图；
图8是图5所示实施例提供的在形成有聚光层的衬底基板上的显示区域上形成黑矩阵后的俯视图；
图9是图8所示的俯视图C-C部位的剖面图；
图10是图8所示的俯视图D-D部位的剖面图；
图11是图6所示实施例提供的在开口区域上形成透明电极后的一种俯视图；
图12是图6所示实施例提供的在开口区域上形成透明电极后的另一种俯视图；
图13是图11或图12所示的俯视图E-E部位的剖面图；
图14是图5所示实施例提供的在形成有黑矩阵和透明电极的基板上形成像素单元的方法流程图；
图15是图5所示实施例提供的在透明电极上形成显色结构后的结构示意图；
图16是图15所示结构示意图的俯视图；
图17是图5所示实施例提供的在每条纵向黑矩阵上形成第一反光结构后的俯视图；
图18是图5所示实施例提供的在每条纵向黑矩阵和每条横向黑矩阵上都形成第一反光结构后的俯视图；
图19是图17或图18所示的俯视图F-F部位的剖面图；
图20是图5所示实施例提供的在每条纵向黑矩阵上未设置第一反光结构的区域形成阻隔结构后的俯视图；
图21是图5所示实施例提供的在每条纵向黑矩阵未设置第一反光结构的区域上和每条横向黑矩阵未设置第一反光结构的区域上都形成阻隔结构后的俯视图；
图22是图20或图21所示的俯视图G-G部位的剖面图；
图23是图5所示实施例提供的一种在形成有阻隔结构的基板上除阻隔结构以外的区域形成牺牲层后的俯视图；
图24是图5所示实施例提供的另一种在形成有阻隔结构的基板上除阻隔结构以外的区域形成牺牲层后的俯视图；
图25是图23或图24所示的俯视图H-H部位的剖面图；
图26是图5所示实施例提供的在形成有牺牲层的基板上形成反光层后的俯视图；
图27是图26所示的俯视图I-I部位的剖面图；
图28是图5所示实施例提供的一种在反光层上形成透光区域后的俯视图；
图29是图5所示实施例提供的另一种在反光层上形成透光区域后的俯视图；
图30是图28或图29所示的俯视图J-J部位的剖面图；
图31是图5所示实施例提供的一种去除牺牲层后的俯视图；
图32是图5所示实施例提供的另一种去除牺牲层后的俯视图；
图33是图31或图32所示的俯视图K-K部位的剖面图；
图34是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图；
图35是本发明实施例提供的一种驱动电路板的控制示意图；
图36是本发明实施例提供的另一种显示装置的结构示意图；
图37是本发明实施例提供的再一种显示装置的结构示意图。
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
请参考图1，其示出的是本发明实施例提供的一种显示基板01的结构示意图。参见图1，该显示基板01包括：衬底基板010，衬底基板010可以为透明基板，其具体可以是采用玻璃、石英、透明树脂等具有一定坚固性的导光且非金属材料制成的基板。
衬底基板010的显示区域上形成有至少一个像素单元011。
如图1所示，每个像素单元011包括：显色结构0111、设置在显色结构0111四周的第一反光结构0112、设置在显色结构0111的至少两个相对的侧面且位于第一反光结构0112远离显色结构0111的一侧的阻隔结构0113，以及设置在阻隔结构0113上的反光层0114。
反光层0114上对应每个像素单元011形成有至少一个透光区域A和第二反光结构01141，透光区域A在衬底基板010上的正投影落在第一反光结构0112在衬底基板010上的正投影内，显色结构0111在衬底基板010上的正投影落在第二反光结构01141在衬底基板010上的正投影内。
其中，在每个像素单元011中，由显色结构0111、第一反光结构0112、阻隔结构0113和反光层0114围成空腔O。
综上所述，本发明实施例提供的显示基板，由于每个像素单元中，由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和反光层围成空腔，当将显示基板和背光模组组装后，背光模组提供的背光源发出的光线能够通过反光层的透光区域进入空腔内，通过第一反光结构和反光层上的第二反光结构的反射从显色结构射出，本发明实施例提供的显示基板在形成显示装置时，无需液晶和偏光片，避免液晶和偏光片对光线的吸收，达到减少光的亮度损失和节能的效果。
请参考图2，其示出的是本发明实施例提供的另一种显示基板01的结构示意图。参见图2，该显示基板01包括：衬底基板010，衬底基板010可以为透明基板，其具体可以是采用玻璃、石英、透明树脂等具有一定坚固性的导光且非金属材料制成的基板。
衬底基板010的显示区域上形成有至少一个像素单元011。
每个像素单元011包括：显色结构0111、设置在显色结构0111四周的第一反光结构0112、设置在显色结构0111的至少两个相对的侧面且位于第一反光结构0112远离显色结构0111的一侧的阻隔结构0113，以及设置在阻隔结构0113上的反光层0114。
其中，示例地，显色结构0111可以是彩色滤光膜，该彩色滤光膜可以是红、绿、蓝、白、黄等颜色，可以采用树脂材料，通过曝光、显影等工艺形成显色结构0111。第一反光结构0112可以为三棱柱状结构，第一反光结构01211可以包括三棱柱状的衬底和镀在该三棱柱状的衬底的一个侧面M上的铝或者铝合金等金属，该镀有铝或者铝合金的侧面为该第一反光结构01211的反光面，该反光面与衬底基板010的表面之间的夹角的范围可以为20°～70°，第一反光结构0112未镀有铝或者铝合金的两个侧面中的一个侧面可以与衬底基板010的显示区域接触，另一个侧面与阻隔结构0113接触。具体地，第一反光结构0112的三棱柱状的衬底可以为直角三棱柱，该直角三棱柱中的两个垂直的侧面中的一个侧面与衬底基板010的显示区域接触，另一个侧面与阻隔结构0113接触，可选地，该第一反光结构0112还可以通过一次构图工艺形成，本发明实施例对此不做限定。阻隔结构0113可以采用树脂材料，通过曝光、显影等工艺形成，在本发明实施例中，显色结构0111、第一反光结构0112和阻隔结构0113可以同层或者异层设置，本发明实施例对此不做限定。如图2所示，本发明实施例以显色结构0111、第一反光结构0112和阻隔结构0113可以同层设置为例进行说明。
反光层0114上对应每个像素单元011形成有至少一个透光区域A和第二反光结构01141，透光区域A在衬底基板010上的正投影落在第一反光结构0112在衬底基板010上的正投影内，显色结构0111在衬底基板010上的正投影落在第二反光结构01141在衬底基板010上的正投影内。其中，在每个像素单元011中，由显色结构0111、第一反光结构0112、阻隔结构0113和反光层0114围成空腔O。位于该空腔O外部的光线能够通过反光层0114上的透光区域A进入空腔O，并通过第一反光结构0112的反光面M的反射到达反光层0114上的第二反光结构01141，通过第二反光结构01141的反射，最终从显色结构0111射出，使得该显示基板01能够显示彩色图像。反光层0114可以是通过铝或者铝合金材料形成的薄膜，反光层0114上的透光区域A可以是位于该反光层0114上的缝隙，其可以采用曝光、显影等工艺形成。
可选地，如图2所示，衬底基板010的周边区域形成有聚光层012，该周边区域是衬底基板010上除显示区域之外的区域。其中，聚光层012可以采用透明树脂形成，且聚光层012的宽度和厚度都可以根据实际需要设置，示例地，聚光层012的宽度可以为5mm(毫米)，其中，聚光层012的宽度指的是聚光层012靠近衬底基板010的边沿的一侧到聚光层012远离衬底基板010的边沿的一侧的距离，如图2中所示的距离a。需要说明的是，实际应用中，由于在形成显示装置时，该显示基板01需要与背光模组组装，因此，如图2所示，聚光层012靠近衬底基板010的边沿的一侧可以与衬底基板010的边沿保持预设距离d，以便于该显示基板与背光模组的组装。
可选地，本发明实施例提供的显示基板01上还可以包括黑矩阵和透明电极，其中，透明电极可以为氧化铟锡(英文：Indium tin oxide，简称：ITO)电极。具体地，如图2所示，形成有聚光层012的衬底基板010的显示区域上形成有多条间隔设置的横向黑矩阵(图2中未画出)和多条间隔设置的纵向黑矩阵013，横向黑矩阵和纵向黑矩阵013同层且交叉设置，且相邻的两条横向黑矩阵与相邻的两条纵向黑矩阵能够围成开口区域；开口区域上形成有透明电极014；每个透明电极014上形成有至少一个显色结构0111；每条纵向黑矩阵013上形成有阻隔结构0113和至少一个第一反光结构0112；和/或，每条横向黑矩阵上形成有阻隔结构和至少一个第一反光结构(图2中未画出)。当第一反光结构0112设置在纵向黑矩阵013上时，第一反光结构0112未镀有铝或者铝合金的两个侧面中的一个侧面可以与纵向黑矩阵013的表面接触，且第一反光结构0112的反光面M与纵向黑矩阵013的表面之间的夹角的范围为20°～70°；当第一反光结构0112设置在横向黑矩阵上时，第一反光结构0112未镀有铝或者铝合金的两个侧面中的一个侧面可以与横向黑矩阵的表面接触，第一反光结构0112的反光面与横向黑矩阵的表面之间的夹角的范围为20°～70°。
可选地，如图3所示，其示出的是本发明实施例提供的显示基板01的俯视图，参见图3，显示基板01包括：衬底基板010，衬底基板010的显示区域上形成有至少一个像素单元。每个像素单元包括：显色结构、设置在显色结构四周的第一反光结构0112、设置在显色结构的至少两个相对的侧面且位于第一反光结构0112远离显色结构的一侧的阻隔结构，以及设置在阻隔结构上的反光层0114。反光层0114由多个长条状的反光层B构成，每个长条状的反光层B上对应每个像素单元011形成有至少一个透光区域A和第二反光结构。透光区域A在衬底基板010上的正投影落在第一反光结构0112在衬底基板010上的正投影内，显色结构0111在衬底基板010上的正投影落在第二反光结构在衬底基板010上的正投影内，透明电极014可以为长条状结构，透明电极014位于每两条相邻的纵向黑矩阵013之间，或者，透明电极014还可以位于每两条相邻的横向黑矩阵之间，每个长条状的反光层B的长度方向x与透明电极014的长度方向y垂直。
需要说明的是，在本发明实施例中，可以向反光层0114施加电压，也可以向透明电极014施加电压，通过向反光层0114和透明电极014施加呈阶梯变化的电压，可以实现显示基板01显示的图像的灰度变化，当同时向反光层0114和透明电极014施加方向相反的电压(如向反光层0114施加+10V(伏特)的电压，向透明电极014施加-10V的电压)时，反光层0114和透明电极014之间存在正电荷和负电荷的库仑力，使得反光层0114和透明电极014相互吸引，反光层0114上与透明电极014相对的部位向透明电极014靠拢，当反光层0114上与透明电极014相对的部位向透明电极014靠拢至该反光层0114上与透明电极014相对的部位覆盖透明电极014上的显色结构0111上时，位于该透明电极014上的显色结构0111关闭。当需要显色结构0111打开时，可以撤销反光层0114和/或透明电极014上的电压，反光层0114上与透明电极014相对的部位在自身恢复力的作用下远离透明电极014，位于该透明电极014上的显色结构0111打开。需要说明的是，为了加速反光层0114上与透明电极014相对的部位远离透明电极014的速度，可以同时向反光层0114和透明电极014施加方向相同的电压(如同时向反光层0114和透明电极014分别施加+10V的电压)，反光层0114和透明电极014之间存在正电荷库仑力，使得反光层0114和透明电极014相互排斥，反光层0114上与透明电极014相对的部位远离透明电极014，当反光层0114上与透明电极014相对的部位远离对应的透明电极014至该反光层0114上与透明电极014相对的部位离开透明电极014上的显色结构0111上时，该显色结构0111打开。需要说明的是，由于本发明是依靠同性电荷相互排斥、异性电荷相互吸引的原理实现显色结构的开启和关闭的，其可靠性较高。
如图4所示，其示出的是向图2所示的反光层0114和最左侧的透明电极014施加方向相反的电压后显示基板01的结构示意图，参见图4，图4中最左侧的显色结构0111关闭，其余的显色结构0111处于开启状态。
综上所述，本发明实施例提供的显示基板，由于每个像素单元中，由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和反光层围成空腔，当将显示基板和背光模组组装后，背光模组提供的背光源发出的光线能够通过反光层的透光区域进入空腔内，通过第一反光结构和反光层上的第二反光结构的反射从显色结构射出，本发明实施例提供的显示基板在形成显示装置时，无需液晶和偏光片，避免液晶和偏光片对光线的吸收，达到减少光的亮度损失和节能的效果。
本发明实施例提供的显示基板可以应用于下文的方法，本发明实施例中显示基板的制造方法和制造原理可以参见下文各实施例中的描述。
本发明实施例提供了一种显示基板的制造方法，该显示基板的制造方法可以用于制造图1或图2所示的显示基板，其中，该显示基板可以包括：衬底基板，衬底基板可以为透明基板，其具体可以是采用玻璃、石英、透明树脂等具有一定坚固性的导光且非金属材料制成的基板。该显示基板的制造方法具体可以包括：
在衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元。
其中，每个像素单元包括：显色结构、设置在显色结构四周的第一反光结构、设置在显色结构的至少两个相对的侧面且位于第一反光结构远离显色结构的一侧的阻隔结构，以及设置在阻隔结构上的反光层；
反光层上对应每个像素单元形成有至少一个透光区域和第二反光结构，透光区域在衬底基板上的正投影落在第一反光结构在衬底基板上的正投影内，显色结构在衬底基板上的正投影落在第二反光结构在衬底基板上的正投影内；
其中，在每个像素单元中，由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和反光层围成空腔。
可选地，在衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元之前，该方法还包括：
在衬底基板的周边区域形成聚光层，周边区域是衬底基板上除显示区域之外的区域。
可选地，在衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元之前，该方法还包括：
在形成有聚光层的衬底基板的显示区域上形成多条间隔设置的横向黑矩阵和多条间隔设置的纵向黑矩阵，使横向黑矩阵和纵向黑矩阵同层且交叉设置，且相邻的两条横向黑矩阵与相邻的两条纵向黑矩阵围成开口区域；
在开口区域上形成透明电极；
在衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元，包括：
在每个透明电极上形成至少一个显色结构；
在每条纵向黑矩阵上形成至少一个第一反光结构，使第一反光结构位于显色结构四周；在每条纵向黑矩阵上未设置第一反光结构的区域形成阻隔结构，使阻隔结构位于第一反光结构远离显色结构的一侧；和/或，在每条横向黑矩阵上形成至少一个第一反光结构，使第一反光结构位于显色结构四周；在每条横向黑矩阵上未设置第一反光结构的区域形成阻隔结构，使阻隔结构位于第一反光结构远离显色结构的一侧。
可选地，在衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元，还包括：
在形成有阻隔结构的基板上除阻隔结构以外的区域形成牺牲层；
在形成有牺牲层的基板上形成反光层；
在反光层上形成至少一个透光区域和第二反光结构，使每个透光区域在衬底基板上的正投影落在第一反光结构在衬底基板上的正投影内，且使显色结构在衬底基板上的正投影落在第二反光结构在衬底基板上的正投影内；
去除牺牲层，使每个像素单元中，由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和反光层围成空腔。
可选地，在形成有牺牲层的基板上形成反光层，包括：
在形成有牺牲层的基板上形成多个长条状的反光层；
在反光层上形成至少一个透光区域，包括：
在每个长条状的反光层上形成至少一个透光区域；
其中，透明电极为长条状结构，透明电极位于每两条相邻的纵向黑矩阵之间，或者，透明电极位于每两条相邻的横向黑矩阵之间，每个长条状的反光层的长度方向与透明电极的长度方向垂直。
可选地，当第一反光结构设置在纵向黑矩阵上时，第一反光结构的反光面与纵向黑矩阵的表面之间的夹角的范围为20°～70°；
当第一反光结构设置在横向黑矩阵上时，第一反光结构的反光面与横向黑矩阵的表面之间的夹角的范围为20°～70°。
可选地，第一反光结构通过构图工艺在衬底基板上形成；
显色结构和阻隔结构都采用树脂形成；
反光层为反光薄膜，采用反光材料形成。
综上所述，本发明实施例提供的显示基板的制造方法，由于每个像素单元中，由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和反光层围成空腔，当将显示基板和背光模组组装后，背光模组提供的背光源发出的光线能够通过反光层的透光区域进入空腔内，通过第一反光结构和反光层上的第二反光结构的反射从显色结构射出，本发明实施例提供的显示基板在形成显示装置时，无需液晶和偏光片，避免液晶和偏光片对光线的吸收，达到减少光的亮度损失和节能的效果。
请参考图5，其示出的是本发明实施例提供的一种显示基板的制造方法的方法流程图，该显示基板的制造方法可以用于制造图1或图2所示的显示基板，其中，该显示基板可以包括：衬底基板，衬底基板可以为透明基板，其具体可以是采用玻璃、石英、透明树脂等具有一定坚固性的导光且非金属材料制成的基板。参见图5，该显示基板的制造方法具体可以包括：
步骤501、在衬底基板的周边区域形成聚光层。
如图6所示，其示出的是在衬底基板010上形成聚光层012后的结构示意图，其中，聚光层012可以采用透明树脂形成，且聚光层012的宽度和厚度都可以根据实际需要设置，示例地，聚光层012的宽度可以为5mm，其中，聚光层012的宽度指的是聚光层012靠近衬底基板010的边沿的一侧到聚光层012远离衬底基板010的边沿的一侧的距离。需要说明的是，实际应用中，由于在形成显示装置时，该显示基板01需要与背光模组组装，因此，如图6所示，聚光层012靠近衬底基板010的边沿的一侧可以与衬底基板010的边沿保持预设距离d，以便于该显示基板与背光模组的组装。
具体地，聚光层012的形成可以包括：采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者等离子体增强化学气相沉积法(英文：Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，简称：PECVD)等方法在衬底基板010上沉积一层具有一定厚度的透明树脂材料，采用掩模板对透明树脂材料进行曝光，使透明树脂材料形成完全曝光区和非曝光区，之后采用显影工艺处理，使完全曝光区的透明树脂材料被完全去除，非曝光区域的透明树脂材料全部保留，烘烤处理后形成聚光层012。需要说明的是，本发明实施例以采用正性光刻胶形成聚光层为例进行说明，实际应用中，还可以采用负性光刻胶形成聚光层，本发明实施例在此不再赘述。
图7是图6所示的俯视图，如图7所示，聚光层012形成在衬底基板010的周边区域，且聚光层012到衬底基板010的边沿的距离为d。
步骤502、在形成有聚光层的衬底基板的显示区域上形成多条间隔设置的横向黑矩阵和多条间隔设置的纵向黑矩阵，使横向黑矩阵和纵向黑矩阵同层且交叉设置，且相邻的两条横向黑矩阵与相邻的两条纵向黑矩阵围成开口区域。
其中，显示区域是衬底基板上除周边区域之外的区域。如图8所示，其示出的是在形成有聚光层012的衬底基板010上的显示区域上形成黑矩阵后的俯视图，衬底基板010上的显示区域上形成多条间隔设置的横向黑矩阵013a和多条间隔设置的纵向黑矩阵013，且横向黑矩阵013a和多纵向黑矩阵013位于同一层且交叉设置，且相邻的两条横向黑矩阵013a与相邻的两条纵向黑矩阵013围成开口区域P。
图9是图8所示的俯视图的C-C部位的剖面图，参见图9，衬底基板010上的显示区域上形成有多条间隔设置的纵向黑矩阵013，图10是图8所示的俯视图的D-D部位的剖面图，参见图10，衬底基板010上的显示区域上形成有横向黑矩阵013a。
在本发明实施例中，横向黑矩阵013a和纵向黑矩阵013可以通过一次构图工艺形成，示例地，黑矩阵的形成可以包括：采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方法在形成有聚光层012的衬底基板010上的显示区域上沉积一层具有一定厚度的黑色树脂材料作为黑矩阵层，采用掩模板对黑矩阵层进行曝光，使黑矩阵层形成完全曝光区和非曝光区，之后采用显影工艺处理，使完全曝光区的黑矩阵层被完全去除，非曝光区域的黑矩阵层全部保留，烘烤处理后形成黑矩阵。其中，完全曝光区即为开口区域P在黑矩阵层上的对应区域。需要说明的是，本发明实施例以采用正性光刻胶形成黑矩阵为例进行说明，实际应用中，还可以采用负性光刻胶形成黑矩阵，本发明实施例在此不再赘述。
步骤503、在开口区域上形成透明电极。
如图11所示，其示出的是一种在开口区域上形成透明电极014后的俯视图，参见图11，每个开口区域上形成有一个透明电极014，该透明电极014为块状结构，示例地，该透明电极014的上表面可以为正方形。
如图12所示，其示出的是另一种在开口区域上形成透明电极014后的俯视图，参见图12，每个开口区域上形成有透明电极014，且透明电极014位于每两条相邻的纵向黑矩阵013之间，该透明电极014为长条状结构，且该透明电极014的长度反向为y。需要说明的是，图12是以透明电极014位于每两条相邻的纵向黑矩阵013之间为例进行说明的，实际应用中，透明电极014还可以位于每两条相邻的横向黑矩阵之间，本发明实施例在此不再赘述。
图13是图11或图12所示的俯视图E-E部位的剖面图，参见图13，每个开口区域上形成有一个透明电极014，其中，透明电极014可以为ITO电极，示例地，可以采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方法在形成有黑矩阵的衬底基板010上沉积一层具有一定厚度的ITO薄膜，在ITO薄膜上形成光刻胶，之后对光刻胶进行曝光、显影获得光刻胶图案，然后进行蚀刻，去除未被光刻胶覆盖的区域，形成透明电极014。
步骤504、在形成有黑矩阵和透明电极的基板上形成至少一个像素单元。
在本发明实施例中，每个像素单元包括：显色结构、设置在显色结构四周的第一反光结构、设置在显色结构的至少两个相对的侧面且位于第一反光结构远离显色结构的一侧的阻隔结构，以及设置在阻隔结构上的反光层；反光层上对应每个像素单元形成有至少一个透光区域和第二反光结构，透光区域在衬底基板上的正投影落在第一反光结构在衬底基板上的正投影内，显色结构在衬底基板上的正投影落在第二反光结构在衬底基板上的正投影内；在每个像素单元中，由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和反光层围成空腔。因此，本发明实施例在形成像素单元时，需要形成显色结构、第一反光结构、阻隔结构和反光层，具体地，请参考图14，其示出的是在形成有黑矩阵和透明电极的基板上形成像素单元的方法流程图，参见图14，该方法流程可以包括如下几个步骤。
步骤5041、在每个透明电极上形成至少一个显色结构。
如图15所示，其示出的是在透明电极014上形成显色结构0111后的结构示意图，显色结构0111可以是彩色滤光膜，该彩色滤光膜上可以是红、绿、蓝、白、黄等颜色。
图16是图15所示结构示意图的俯视图，参见图16，显色结构0111形成在透明电极014上，每个透明电极014上按照方向y排列的多个显色结构0111可以为同一像素，示例地，在图16中，位于最左侧的透明电极014上的多个显色结构0111可以都为红色像素，按照方向x排布的3个透明电极014上的显色结构0111可以分别为红、绿、蓝三种颜色的像素。
可以采用树脂材料，通过曝光、显影等工艺形成显色结构0111。示例地，以红色像素为例，红色像素的形成过程可以包括：采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方法在形成有透明电极014的基板上沉积一层具有一定厚度的红色树脂薄膜，采用掩模板对红色树脂薄膜进行曝光、使红色树脂薄膜形成完全曝光区和非曝光区，之后采用显影工艺处理，使完全曝光区的红色树脂薄膜被完全去除，非曝光区域的红色树脂薄膜全部保留，烘烤处理后形成红色像素。需要说明的是，本发明实施例以红色像素为例进行说明，蓝色像素、绿色像素、白色像素、黄色像素的形成过程可以参考红色像素的形成过程，本发明实施例在此不再赘述。其中，显色结构0111的厚度可以根据实际需要设置，本发明实施例对此不做限定。需要说明的是，本发明实施例以采用正性光刻胶形成显色结构为例进行说明，实际应用中，还可以采用负性光刻胶形成显色结构，本发明实施例在此不再赘述。
步骤5042、在每条纵向黑矩阵上形成至少一个第一反光结构，使第一反光结构位于显色结构四周。
如图17所示，其示出的是在每条纵向黑矩阵013上形成至少一个第一反光结构0112后的俯视图，参见图17，每条纵向黑矩阵013上形成至少一个第一反光结构0112，且至少一个第一反光结构0112位于显色结构0111的两侧。
需要说明的是，图17是以透明电极014长条状结构，且透明电极014位于每两条相邻的纵向黑矩阵013之间为例进行说明的，当透明电极014长条状结构，且透明电极014位于每两条相邻的横向黑矩阵之间时，可以在每条横向黑矩阵上形成至少一个第一反光结构，使第一反光结构位于显色结构0111的两侧，本发明实施例在此不再赘述。还需要说明的是，在本发明实施例中，透明电极014还可以为块状结构(如图11中所示)，当透明电极014为块状结构时，可以在每条纵向黑矩阵013和每条横向黑矩阵013a上都形成第一反光结构0112，如图18所示，其示出的是透明电极为块状结构时在每条纵向黑矩阵013和每条横向黑矩阵013a上都形成第一反光结构0112后的俯视图，参见图18，每个显色结构0111的四周都设置了第一反光结构0112。
图19是图17或图18所示的俯视图F-F部位的剖面图，参见图19，第一反光结构0112的截面为三角形，示例地，第一反光结构0112可以为三棱柱状结构，第一反光结构01211可以包括三棱柱状的衬底，三棱柱状的衬底的一个侧面可以与黑矩阵(包括纵向黑矩阵013和横向黑矩阵013a中的至少一种)的表面接触，该三棱柱状的衬底上未与黑矩阵接触的两个侧面中靠近显色结构0111的侧面上镀铝或者铝合金等金属，该镀有铝或者铝合金的侧面为该第一反光结构01211的反光面，当第一反光结构0112设置纵向黑矩阵上时，第一反光结构0112的反光面与纵向黑矩阵的表面之间的夹角的范围为20°～70°；当第一反光结构0112设置横向黑矩阵上时，第一反光结构0112的反光面与横向黑矩阵的表面之间的夹角的范围为20°～70°。具体地，第一反光结构0112的三棱柱状的衬底可以为直角三棱柱，该直角三棱柱中的两个垂直的侧面中的一个侧面与黑矩阵的表面接触。
可选地，该第一反光结构0112可以通过一次构图工艺形成，也可以通过两次构图工艺形成，本发明实施例对此不做限定。当采用两次工艺形成第一反光结构时，具体地，在第一次构图工艺中，采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方法在形成有显色结构011的基板上沉积一层有机树脂材料作为上层覆盖(英文：Over Cover，简称：OC)层，之后采用曝光、显影等工艺对OC层进行曝光、显影形成三棱柱状的衬底，并且使三棱柱状的衬底的其中一个侧面与黑矩阵的上表面接触，然后通过第二次工艺在该三棱柱状的衬底的未与黑矩阵的上表面接触，且靠近显色结构0111的侧面镀铝或者铝合金等金属形成反光面M，进而形成第一反光结构0112。当采用一次工艺形成第一反光结构0112时，可以采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方法在形成有显色结构011的基板上沉积一层具有一定厚度的铝或铝合金金属层，之后采用曝光、显影、刻蚀等工艺对该金属层进行处理，得到第一反光结构0112。
步骤5043、在每条纵向黑矩阵上未设置第一反光结构的区域形成阻隔结构，使阻隔结构位于第一反光结构远离显色结构的一侧。
如图20所示，其示出的是在每条纵向黑矩阵013上未设置第一反光结构0112的区域形成阻隔结构0113后的俯视图，参见图20，每条纵向黑矩阵013上未设置第一反光结构0112的区域上形成有阻隔结构0113，且阻隔结构0113位于第一反光结构0112远离显色结构0111的一侧。
需要说明的是，图20是以透明电极014长条状结构，且透明电极014位于每两条相邻的纵向黑矩阵013之间为例进行说明的，当透明电极014长条状结构，且透明电极014位于每两条相邻的横向黑矩阵之间时，可以在每条横向黑矩阵上未设置第一反光结构0112的区域形成阻隔结构0113，使阻隔结构0113位于第一反光结构0112远离显色结构0111的一侧，本发明实施例在此不再赘述。还需要说明的是，在本发明实施例中，透明电极014还可以为块状结构(如图11中所示)，当透明电极014为块状结构时，可以在每条纵向黑矩阵013和每条横向黑矩阵013a上都形成第一反光结构0112，如图21所示，其示出的是透明电极为块状结构时，在每条纵向黑矩阵013未设置第一反光结构0112的区域上和每条横向黑矩阵未设置第一反光结构0112的区域上都形成阻隔结构0113后的俯视图，参见图21，每个显色结构0111的四周都设置了第一反光结构0112，且位于每个显色结构0111远离显色结构0111的一侧都设置了阻隔结构0113。
图22是图20或图21所示的俯视图G-G部位的剖面图，参见图22，每个纵向黑矩阵013上都设置一个阻隔结构013，且阻隔结构013的厚度大于第一反光结构0112的厚度，以便于显色结构0111、第一反光结构0112、阻隔结构0113和后续的反光层0114之间形成空腔。阻隔结构0113可以采用树脂材料，通过曝光、显影等工艺形成。具体地，可以采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方法在形成有第一反光层012的基板上沉积一层具有一定厚度的树脂薄膜，采用掩模板对树脂薄膜进行曝光、使树脂薄膜形成完全曝光区和非曝光区，之后采用显影工艺处理，使完全曝光区的树脂薄膜被完全去除，非曝光区域的树脂薄膜全部保留，烘烤处理后形成阻隔结构0113。需要说明的是，在本发明实施例中，是以采用正性光刻胶形成阻隔结构0113为例进行说明的，实际应用中，还可以采用负性光刻胶形成阻隔结构0113，本发明实施例在此不再赘述。还需要说明的是，在本发明实施例中，阻隔结构0113与第一反光结构0112同层设置，实际应用中，阻隔结构0113和第一反光结构0112还可以设置在不同层，本发明实施例对此不做限定。
步骤5044、在形成有阻隔结构的基板上除阻隔结构以外的区域形成牺牲层。
如图23所示，其示出的是一种在形成有阻隔结构0113的基板上除阻隔结构0113以外的区域形成牺牲层015后的俯视图，形成该牺牲层015是为了便于后续在显色结构0111、第一反光结构0112、阻隔结构0113和反光层0114之间形成空腔。参见图23，在形成有阻隔结构0113的基板上，显色结构和第一反光结构上形成有牺牲层015，其余部分均裸露。
需要说明的是，图23是以透明电极014长条状结构，且透明电极014位于每两条相邻的纵向黑矩阵013之间为例进行说明的，当透明电极014长条状结构，且透明电极014位于每两条相邻的横向黑矩阵之间时，可以在每条横向黑矩阵上未设置第一反光结构0112的区域形成阻隔结构0113，使阻隔结构0113位于第一反光结构0112远离显色结构0111的一侧，进而在形成有阻隔结构0113的基板上除阻隔结构0113以外的区域形成牺牲层015，本发明实施例在此不再赘述。还需要说明的是，在本发明实施例中，透明电极014还可以为块状结构(如图11中所示)，当透明电极014为块状结构时，可以在每条纵向黑矩阵013和每条横向黑矩阵013a上都形成第一反光结构0112，在每条纵向黑矩阵013未设置第一反光结构0112的区域上和每条横向黑矩阵未设置第一反光结构0112的区域上都形成有阻隔结构0113，进而在形成有阻隔结构0113的基板上除阻隔结构0113以外的区域形成牺牲层015，如图24所示，其示出的是另一种在形成有阻隔结构0113的基板上除阻隔结构0113以外的区域形成牺牲层015后的俯视图，参见图24，在形成有阻隔结构0113的基板上，显色结构、位于横向黑矩阵上的第一反光结构以及位于纵向黑矩阵上的第一反光结构上都形成有牺牲层015，其余部分均裸露。
图25是图23或图24所示的俯视图H-H部位的剖面图，参见图25，每个像素单元中的显色结构0111和第一反光结构0112上形成有牺牲层015。
具体地，可以采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方法在形成有阻隔结构0113的基板上沉积一层非晶硅薄膜，采用掩模板对非晶硅薄膜进行曝光、使非晶硅薄膜形成完全曝光区和非曝光区，之后采用显影工艺处理，使完全曝光区的非晶硅薄膜被完全去除，非曝光区域的非晶硅薄膜全部保留，烘烤处理后形成牺牲层017。其中，非曝光区可以是显色结构0111和第一反光结构0112在非晶硅薄膜上的对应区域，完全曝光区可以是形成有阻隔结构0113的基板上，除显色结构0111和第一反光结构0112之外的区域在非晶硅薄膜上的对应区域。
步骤5045、在形成有牺牲层的基板上形成反光层。
如图26所示，其示出的是在形成有牺牲层015的基板上形成反光层0114后的俯视图，参见图26，反光层0114由多个长条状的反光层B构成，每个长条状的反光层B的长度反向为x，多个长条状的反光层B的长度反向平行，每个长条状的反光层B的长度方向x与透明电极014的长度方向y垂直，也即，每个长条状的反光层B与透明电极014正交，长条状的反光层B可以为反光薄膜，采用反光材料形成，反光材料如铝或者铝合金等。图27是图26所示的俯视图I-I部位的剖面图，参见图27，反光层014位于阻隔结构0113和牺牲层015上。
在本发明实施例中，在形成有牺牲层015的基板上形成反光层0114可以包括：在形成有牺牲层015的基板上形成多个长条状的反光层B。
具体地，可以采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方法在形成有牺牲层015的基板上沉积铝或者铝合金，形成铝或者铝合金薄膜，之后采用曝光、显影、刻蚀等工艺处理，使形成有牺牲层015的基板上形成反光层0114。
步骤5046、在反光层上形成至少一个透光区域和第二反光结构，使每个透光区域在衬底基板上的正投影落在第一反光结构在衬底基板上的正投影内，且使显色结构在衬底基板上的正投影落在第二反光结构在衬底基板上的正投影内。
其中，由于反光层0114由多个长条状的反光层B构成，因此，可以在每个长条状的反光层B上形成至少一个透光区域。
如图28所示，其示出的是在反光层上形成至少一个透光区域A后的俯视图，参见图28，每个长条状的反光层B上都形成至少一个透光区域A，每个长条状的反光层B上，位于显色结构正上方的区域即为第二反光结构。
需要说明的是，图28是以透明电极014长条状结构，且透明电极014位于每两条相邻的纵向黑矩阵013之间时，在反光层0114上形成透光区域和第二反光结构为例进行说明的，当透明电极014长条状结构，且透明电极014位于每两条相邻的横向黑矩阵之间时，在反光层0114上形成透光区域和第二反光结构可以参考图28，本发明实施例在此不再赘述。还需要说明的是，在本发明实施例中，透明电极014还可以为块状结构(如图11中所示)，当透明电极014为块状结构时，在反光层0114上形成透光区域A和第二反光结构的俯视图如图29所示，参见图29，透光区域A围绕在显色结构(图29中未示出)在反光层0114上的对应区域的四周，透光区域A围成的方形区域即是第二反光结构01141。
图30是图28或图29所示的俯视图J-J部位的剖面图，参见图30，第二反光层0114上形成有多个透光区域A和第二反光结构01141。每个透光区域A在衬底基板010上的正投影落于该透光区域A对应的第一反光结构0112在衬底基板010上的正投影内，优选地，每个透光区域A在衬底基板010上的正投影落与该透光区域A对应的第一反光结构0112在衬底基板010上的正投影完全重合。每个显色结构0111在衬底基板010上的正投影落在第二反光结构01141在衬底基板010上的正投影内。优选地，每个显色结构0111在衬底基板010上的正投影落与该显色结构0111对应的第二反光结构01141在衬底基板010上的正投影完全重合。
在本发明实施例中，透光区域A可以是位于反光层0114的上缝隙，其可以采用曝光、显影、刻蚀等工艺形成，具体地，采用掩模板对反光层0114上的光刻胶进行曝光、显影，形成光刻胶图案，对未覆盖光刻胶的区域采用刻蚀等工艺处理，使未覆盖光刻胶的区域的铝或者铝合金薄膜被完全去除，形成透光区域A。
需要说明的是，本发明实施例是以透光区域A为镂空的缝隙为例进行说明的，实际应用中，透光区域A还可以是采用其他的透光材料形成的区域，本发明实施例在此不再赘述。
步骤5047、去除牺牲层，使每个像素单元中，由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和反光层围成空腔。
当在反光层0114上形成多个透光区域A后，就可以去除掉牺牲层015，以便于每个像素单元011中的显色结构0111、第一反光结构0112、阻隔结构0113和反光层0114围成空腔。
如图31所示，其示出的是一种去除牺牲层后的俯视图，在该图31中，透明电极014为长条状结构，且该透明电极014位于相邻的两条纵向后黑矩阵013之间。参见图31，当去除牺牲层后，与透光区域A对应的第一反光结构0112裸露，且第一反光结构0112位于显色结构的两个相对的侧面。
如图32所示，其示出的是另一种去除牺牲层015后的俯视图，在该图32中，透明电极为块状结构，参见图32，当去除牺牲层后，与透光区域A对应的第一反光结构0112裸露，且第一反光结构0112位于对应的显色结构的四周。
图33是图31或图32所示的俯视图K-K部位的剖面图，参见图33，当去除牺牲层后，在每个像素单元011中，显色结构0111、第一反光结构0112、阻隔结构0113和反光层014围成空腔O。位于该空腔O外部的光线能够通过反光层0114上的透光区域进入空腔O，并通过第一反光结构0112的反射到达反光层0114，通过反光层0114上的第二反光结构01141的反射，最终从该像素单元011中的显色结构0111射出，使得该显示基板能够显示彩色图像。其中，可以采用刻蚀液刻蚀的方式去除牺牲层015，可选地，该刻蚀液可以是含氟刻蚀液。
需要说明的是，在本发明实施例中，可以向反光层0114施加电压，也可以向透明电极014施加电压，通过向反光层0114和透明电极014施加呈阶梯变化的电压，可以实现显示基板01显示的图像的灰度变化，当同时向反光层0114和透明电极014施加方向相反的电压(如向反光层0114施加+10V(伏特)的电压，向透明电极014施加-10V的电压)时，反光层0114和透明电极014之间存在正电荷和负电荷的库仑力，使得反光层0114和透明电极014相互吸引，反光层0114上与透明电极014相对的部位向透明电极014靠拢，当反光层0114上与透明电极014相对的部位向透明电极014靠拢至该反光层0114上与透明电极014相对的部位覆盖透明电极014上的显色结构0111上时，位于该透明电极014上的显色结构0111关闭。当需要显色结构0111打开时，可以撤销反光层0114和/或透明电极014上的电压，反光层0114上与透明电极014相对的部位在自身恢复力的作用下远离透明电极014，位于该透明电极014上的显色结构0111打开。需要说明的是，为了加速反光层0114上与透明电极014相对的部位远离透明电极014的速度，可以同时向反光层0114和透明电极014施加方向相同的电压(如同时向反光层0114和透明电极014分别施加+10V的电压)，反光层0114和透明电极014之间存在正电荷库仑力，使得反光层0114和透明电极014相互排斥，反光层0114上与透明电极014相对的部位远离透明电极014，当反光层0114上与透明电极014相对的部位远离对应的透明电极014至该反光层0114上与透明电极014相对的部位离开透明电极014上的显色结构0111上时，位于该透明电极014上的显色结构0111打开。需要说明的是，由于本发明是依靠同性电荷相互排斥、异性电荷相互吸引的原理实现显色结构的开启和关闭的，其可靠性较高。
综上所述，本发明实施例提供的显示基板的制造方法，由于每个像素单元中，由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和反光层围成空腔，当将显示基板和背光模组组装后，背光模组提供的背光源发出的光线能够通过反光层的透光区域进入空腔内，通过第一反光结构和反光层上的第二反光结构的反射从显色结构射出，本发明实施例提供的显示基板在形成显示装置时，无需液晶和偏光片，避免液晶和偏光片对光线的吸收，达到减少光的亮度损失和节能的效果。
请参考图34，其示出的是本发明实施例提供的一种显示装置02的结构示意图。参见图34，该显示装置02包括：显示基板和背光模组021，显示基板和背光模组021组装形成该显示装置02，该显示基板可以为图1或图2所示的显示基板01。
可选地，如图34所示，背光模组021包括：框架0211、导光板0212和反光镜0213，背光模组021通过框架0211与显示基板组装形成显示装置02。
导光板0212设置在框架0211靠近显示基板的一侧，反光镜0213设置在导光板0212与框架0211之间，且反光镜0213位于导光板0212的四周，反光镜0213与显示基板上的聚光层012对应。具体地，反光镜0213可以为三棱镜，反光镜0213的反光面W在显示基板上的正投影与聚光层012在显示基板上的正投影至少部分重叠。
外界的光线能够通过显示基板上的聚光层012进入显示装置02的内部，通过反光镜0213和导光板0212，从反光层014上的透光区域A进入每个像素单元011中的由显色结构0111、第一反光结构0112、阻隔结构0113和反光层014围成的空腔O中，通过第一反光结构0112的反射到达反光层0114，并通过反光层0114上的第二反光结构01141的反射，从该像素单元011中的显色结构0111上射出。其中，外界的光线通过显示基板上的聚光层012进入显示装置02的内部后，经过反光镜0213的反射和导光板0212的导光后从导光板0212射出，从导光板0212射出的光线可以充当显示基板的背光源，因此，后续过程也可以理解为：背光源发出的光线通过反光层014上的透光区域A进入每个像素单元011中的由显色结构0111、第一反光结构0112、阻隔结构0113和反光层014围成的空腔O中，通过第一反光结构0112的反射到达反光层0114，并通过反光层0114的第二反光结构01141的反射，从该像素单元011中的显色结构0111上射出。
可选地，还显示装置02还包括：驱动电路板(图34中未示出)，如图35所示，其示出的是一种驱动电路板022的控制示意图，驱动电路板022上设置有行驱动电路和列驱动电路，在本发明实施例中，该行驱动电路可以与反光层0114连接，用于向反光层0114施加电压，具体地，行驱动电路与反光层0114上的长条状的反光层B连接，用于长条状的反光层B施加电压；列驱动电路可以与透明电极014连接，用于向透明电极014施加电压，具体地，若透明电极014为长条状结构，列驱动电路直接与每个透明电极014连接，若透明电极014为块状结构，可以先通过连接线将块状结构的透明电极014连接形成逻辑上的长条状结构，之后将该逻辑上的长条状结构的透明电极014与列驱动电路连接，其中，逻辑上的长条状结构指的是：块状结构的透明电极014通过连接线连接后，在一个透明电极014上施加电压时，与该透明电极014连接的其他透明电极014也可以施加上该电压。
在本发明实施例中，在向透明电极014和反光层0114施加方向相反的电压时，反光层0114上与透明电极014相对的部位向透明电极014靠近；当反光层0114上与透明电极014相对的部位向透明电极014靠近至反光层0114上与透明电极014相对的部位覆盖透明电极014上的显色结构0111时，该透明电极014上的显色结构0111关闭。
综上所述，本发明实施例提供的显示装置，显示装置由显示基板和背光模组组装形成，由于显示基板上的每个像素单元中，由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和反光层围成空腔，背光模组提供的背光源发出的光线能够通过反光层的透光区域进入空腔内，通过第一反光结构和反光层的第二反光结构的反射从显色结构射出，本发明实施例提供的显示装置，无需液晶和偏光片，避免液晶和偏光片对光线的吸收，达到减少光的亮度损失和节能的效果。
请参考图36，其示出的是本发明实施例提供的另一种显示装置02的结构示意图。参见图36，该显示装置02包括：显示基板和背光模组021，显示基板和背光模组021组装形成该显示装置02，该显示基板可以为图1或图2所示的显示基板01。
可选地，如图36所示，背光模组021包括：框架0211、导光板0212和灯管组0214，背光模组021通过框架0211与显示基板组装形成显示装置02。
导光板0212设置在框架0211靠近显示基板的一侧，灯管组0214设置在导光板0212与框架0211之间，且灯管组0214位于导光板0212的四周，其中，灯管组0214可以为发光二极管(英文：Light-Emitting Diode，简称：LED)灯管组。
灯管组0214发出的光线能够通过导光板0212，从反光层0114上的透光区域A进入每个像素单元011中的由显色结构0111、第一反光结构0112、阻隔结构0113和反光层0114围成的空腔O中，通过第一反光结构0112的反射到达反光层0114，并通过反光层0114的第二反光结构01141的反射，从该像素单元011中的显色结构0111上射出。灯管组0214发出的光线经过导光板0212的导光后从导光板0212射出，从导光板0212射出的光线可以充当显示基板的背光源，因此，后续过程也可以理解为：背光源发出的光线通过反光层014上的透光区域A进入每个像素单元011中的由显色结构0111、第一反光结构0112、阻隔结构0113和反光层014围成的空腔O中，通过第一反光结构0112的反射到达反光层0114，并通过反光层0114的第二反光结构01141的反射，从该像素单元011中的显色结构0111上射出。
可选地，显示装置02还包括：驱动电路板022(图36中未示出)，该驱动电路板022的控制示意图可以参考图35所示，驱动电路板022上设置有行驱动电路和列驱动电路，该行驱动电路可以与反光层0114连接，用于向反光层0114施加电压；列驱动电路与透明电极014连接，用于向透明电极014施加电压。在本发明实施例中，在向透明电极014和反光层0114施加方向相反的电压时，反光层0114上与透明电极014相对的部位向透明电极014靠近；当反光层0114上与透明电极014相对的部位向透明电极014靠近至反光层0114上与透明电极014相对的部位覆盖透明电极014上的显色结构0111时，该透明电极014上的显色结构0111关闭。
综上所述，本发明实施例提供的显示装置，显示装置由显示基板和背光模组组装形成，由于显示基板上的每个像素单元中，由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和反光层围成空腔，背光模组提供的背光源发出的光线能够通过反光层的透光区域进入空腔内，通过第一反光结构和反光层的第二反光结构的反射从显色结构射出，本发明实施例提供的显示装置，无需液晶和偏光片，避免液晶和偏光片对光线的吸收，达到减少光的亮度损失和节能的效果。
请参考图37，其示出的是本发明实施例提供的再一种显示装置02的结构示意图。参见图37，该显示装置02包括：显示基板和背光模组021，显示基板和背光模组021组装形成该显示装置02，该显示基板可以为图1或图2所示的显示基板01。
可选地，如图37所示，背光模组021包括：框架0211、导光板0212、反光镜0213和灯管组0214，背光模组021通过框架0211与显示基板组装形成显示装置02。
导光板0212设置在框架0211靠近显示基板的一侧，反光镜0213设置在导光板0212与框架0211之间，且反光镜0213与导光板0212的四个侧面中的至少一个侧面接触，反光镜0213与显示基板上的聚光层012对应。具体地，反光镜0213可以为三棱镜，反光镜0213的反光面W在显示基板上的正投影与聚光层012在显示基板上的正投影至少部分重叠。
灯管组0214设置在导光板0212与框架0211之间，且灯管组0214靠近导光板0212的四个侧面中的与反光镜0213未接触的侧面设置，其中，灯管组0214可以为LED灯管组。
外界的光线能够通过显示基板上的聚光层012进入显示装置02的内部，通过反光镜0213和导光板0212，从反光层014上的透光区域A进入每个像素单元011中的由显色结构0111、第一反光结构0112、阻隔结构0113和反光层014围成的空腔O中，通过第一反光结构0112的反射到达反光层0114，并通过反光层0114的第二反光结构01141的反射，从该像素单元011中的显色结构0111上射出。
灯管组0214发出的光线能够通过导光板0212，从反光层0114上的透光区域A进入每个像素单元011中的由显色结构0111、第一反光结构0112、阻隔结构0113和反光层0114围成的空腔O中，通过第一反光结构0112的反射到达反光层0114，并通过反光层0114的第二反光结构01141的反射，从该像素单元011中的显色结构0111上射出。
其中，外界的光线通过显示基板上的聚光层012进入显示装置02的内部后，经过反光镜0213的反射和导光板0212的导光后从导光板0212射出，灯管组0214发出的光线经过导光板0212的导光后从导光板0212射出，从导光板0212射出的光线可以充当显示基板的背光源，因此，后续过程也可以理解为：背光源发出的光线通过反光层014上的透光区域A进入每个像素单元011中的由显色结构0111、第一反光结构0112、阻隔结构0113和反光层014围成的空腔O中，通过第一反光结构0112的反射到达反光层0114，并通过反光层0114的第二反光结构01141的反射，从该像素单元011中的显色结构0111上射出。
可选地，显示装置02还包括：驱动电路板022(图37中未示出)，该驱动电路板022的控制示意图可以参考图35所示，驱动电路板022上设置有行驱动电路和列驱动电路，该行驱动电路可以与反光层0114连接，用于向反光层0114施加电压；列驱动电路与透明电极014连接，用于向透明电极014施加电压。在本发明实施例中，在向透明电极014和反光层0114施加方向相反的电压时，反光层0114上与透明电极014相对的部位向透明电极014靠近；当反光层0114上与透明电极014相对的部位向透明电极014靠近至反光层0114上与透明电极014相对的部位覆盖透明电极014上的显色结构0111时，该透明电极014上的显色结构0111关闭。
综上所述，本发明实施例提供的显示装置，显示装置由显示基板和背光模组组装形成，由于显示基板上的每个像素单元中，由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和反光层围成空腔，背光模组提供的背光源发出的光线能够通过反光层的透光区域进入空腔内，通过第一反光结构和反光层的第二反光结构的反射从显色结构射出，本发明实施例提供的显示装置，无需液晶和偏光片，避免液晶和偏光片对光线的吸收，达到减少光的亮度损失和节能的效果。
本发明中术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例的全部或部分步骤可以通过硬件来完成，也可以通过程序来指令相关的硬件完成，所述的程序可以存储于一种计算机可读存储介质中，上述提到的存储介质可以是只读存储器，磁盘或光盘等。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (19)

1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：
衬底基板；
所述衬底基板的显示区域上形成有至少一个像素单元；
每个所述像素单元包括：显色结构、设置在所述显色结构四周的第一反光结构、设置在所述显色结构的至少两个相对的侧面且位于所述第一反光结构远离所述显色结构的一侧的阻隔结构，以及设置在所述阻隔结构上的反光层；
所述反光层上对应每个所述像素单元形成有至少一个透光区域和第二反光结构，所述透光区域在所述衬底基板上的正投影落在所述第一反光结构在所述衬底基板上的正投影内，所述显色结构在所述衬底基板上的正投影落在所述第二反光结构在所述衬底基板上的正投影内；
其中，在每个所述像素单元中，由所述显色结构、所述第一反光结构、所述阻隔结构和所述反光层围成空腔。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，
所述衬底基板的周边区域形成有聚光层，所述周边区域是所述衬底基板上除所述显示区域之外的区域。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，
形成有所述聚光层的衬底基板的显示区域上形成有多条间隔设置的横向黑矩阵和多条间隔设置的纵向黑矩阵，所述横向黑矩阵和所述纵向黑矩阵同层且交叉设置，且相邻的两条所述横向黑矩阵与相邻的两条所述纵向黑矩阵能够围成开口区域；
所述开口区域上形成有透明电极；
每个所述透明电极上形成有至少一个所述显色结构；
每条所述纵向黑矩阵上形成有所述阻隔结构和至少一个所述第一反光结构；和/或，每条所述横向黑矩阵上形成有所述阻隔结构和至少一个所述第一反光结构。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，
所述反光层由多个长条状的反光层构成，每个所述长条状的反光层上对应每个所述像素单元形成有至少一个所述透光区域和所述第二反光结构；
所述透明电极为长条状结构，所述透明电极位于每两条相邻的所述纵向黑矩阵之间，或者，所述透明电极位于每两条相邻的所述横向黑矩阵之间，每个所述长条状的反光层的长度方向与所述透明电极的长度方向垂直。
5.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，
当所述第一反光结构设置在所述纵向黑矩阵上时，所述第一反光结构的反光面与所述纵向黑矩阵的表面之间的夹角的范围为20°～70°；
当所述第一反光结构设置在所述横向黑矩阵上时，所述第一反光结构的反光面与所述横向黑矩阵的表面之间的夹角的范围为20°～70°。
6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，
所述第一反光结构通过构图工艺在所述衬底基板上形成；
所述显色结构和所述阻隔结构都采用树脂形成；
所述反光层为反光薄膜，采用反光材料形成。
7.一种显示基板的制造方法，其特征在于，所述显示基板包括权利要求1至6任一所述的显示基板，所述显示基板包括：衬底基板，所述方法包括：
在所述衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元；
每个所述像素单元包括：显色结构、设置在所述显色结构四周的第一反光结构、设置在所述显色结构的至少两个相对的侧面且位于所述第一反光结构远离所述显色结构的一侧的阻隔结构，以及设置在所述阻隔结构上的反光层；
所述反光层上对应每个所述像素单元形成有至少一个透光区域和第二反光结构，所述透光区域在所述衬底基板上的正投影落在所述第一反光结构在所述衬底基板上的正投影内，所述显色结构在所述衬底基板上的正投影落在所述第二反光结构在所述衬底基板上的正投影内；
其中，在每个所述像素单元中，由所述显色结构、所述第一反光结构、所述阻隔结构和所述反光层围成空腔。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，
在所述衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元之前，所述方法还包括：
在所述衬底基板的周边区域形成聚光层，所述周边区域是所述衬底基板上除所述显示区域之外的区域。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，
在所述衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元之前，所述方法还包括：
在形成有所述聚光层的衬底基板的显示区域上形成多条间隔设置的横向黑矩阵和多条间隔设置的纵向黑矩阵，使所述横向黑矩阵和所述纵向黑矩阵同层且交叉设置，且相邻的两条所述横向黑矩阵与相邻的两条所述纵向黑矩阵围成开口区域；
在所述开口区域上形成透明电极；
所述在所述衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元，包括：
在每个所述透明电极上形成至少一个所述显色结构；
在每条所述纵向黑矩阵上形成至少一个所述第一反光结构，使所述第一反光结构位于所述显色结构四周；在每条所述纵向黑矩阵上未设置所述第一反光结构的区域形成所述阻隔结构，使所述阻隔结构位于所述第一反光结构远离所述显色结构的一侧；和/或，在每条所述横向黑矩阵上形成至少一个所述第一反光结构，使所述第一反光结构位于所述显色结构四周；在每条所述横向黑矩阵上未设置所述第一反光结构的区域形成所述阻隔结构，使所述阻隔结构位于所述第一反光结构远离所述显色结构的一侧。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，
所述在所述衬底基板的显示区域上形成至少一个像素单元，还包括：
在形成有所述阻隔结构的基板上除所述阻隔结构以外的区域形成牺牲层；
在形成有所述牺牲层的基板上形成所述反光层；
在所述反光层上形成至少一个所述透光区域和所述第二反光结构，使每个所述透光区域在所述衬底基板上的正投影落在所述第一反光结构在所述衬底基板上的正投影内，且使所述显色结构在所述衬底基板上的正投影落在所述第二反光结构在所述衬底基板上的正投影内；
去除所述牺牲层，使每个所述像素单元中，由所述显色结构、所述第一反光结构、所述阻隔结构和所述反光层围成所述空腔。
11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，
所述在形成有所述牺牲层的基板上形成所述反光层，包括：
在形成有所述牺牲层的基板上形成多个长条状的反光层；
所述在所述反光层上形成至少一个所述透光区域，包括：
在每个所述长条状的反光层上形成至少一个所述透光区域；
其中，所述透明电极为长条状结构，所述透明电极位于每两条相邻的所述纵向黑矩阵之间，或者，所述透明电极位于每两条相邻的所述横向黑矩阵之间，每个所述长条状的反光层的长度方向与所述透明电极的长度方向垂直。
12.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，
当所述第一反光结构设置在所述纵向黑矩阵上时，所述第一反光结构的反光面与所述纵向黑矩阵的表面之间的夹角的范围为20°～70°；
当所述第一反光结构设置在所述横向黑矩阵上时，所述第一反光结构的反光面与所述横向黑矩阵的表面之间的夹角的范围为20°～70°。
13.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，
所述第一反光结构通过构图工艺在所述衬底基板上形成；
所述显色结构和所述阻隔结构都采用树脂形成；
所述反光层为反光薄膜，采用反光材料形成。
14.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括：显示基板和背光模组，所述显示基板和所述背光模组组装形成所述显示装置，所述显示基板包括权利要求1至6任一所述的显示基板。
15.根据权利要求14所述的显示装置，其特征在于，所述背光模组包括：框架、导光板和反光镜，
所述背光模组通过所述框架与所述显示基板组装形成所述显示装置；
所述导光板设置在所述框架靠近所述显示基板的一侧，所述反光镜设置在所述导光板与所述框架之间，且所述反光镜位于所述导光板的四周，所述反光镜与所述显示基板上的聚光层对应；
外界的光线能够通过所述显示基板上的聚光层进入所述显示装置的内部，通过所述反光镜和所述导光板，从反光层上的透光区域进入每个像素单元中的由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和所述反光层围成的空腔中，通过所述第一反光结构和第二反光结构的反射，从所述显色结构上射出。
16.根据权利要求14所述的显示装置，其特征在于，所述背光模组包括：框架、导光板和灯管组，
所述背光模组通过所述框架与所述显示基板组装形成所述显示装置；
所述导光板设置在所述框架靠近所述显示基板的一侧，所述灯管组设置在所述导光板与所述框架之间，且所述灯管组位于所述导光板的四周；
所述灯管组发出的光线能够通过所述导光板，从反光层上的透光区域进入每个像素单元中的由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和所述反光层围成的空腔中，通过所述第一反光结构和第二反结构的反射，从所述显色结构上射出。
17.根据权利要求14所述的显示装置，其特征在于，所述背光模组包括：框架、导光板、反光镜和灯管组，
所述背光模组通过所述框架与所述显示基板组装形成所述显示装置；
所述导光板设置在所述框架靠近所述显示基板的一侧，所述反光镜设置在所述导光板与所述框架之间，且所述反光镜与所述导光板的四个侧面中的至少一个侧面接触，所述反光镜与所述显示基板上的聚光层对应；
所述灯管组设置在所述导光板与所述框架之间，且所述灯管组靠近所述导光板的四个侧面中的与所述反光镜未接触的侧面设置；
外界的光线能够通过所述显示基板上的聚光层进入所述显示装置的内部，通过所述反光镜和所述导光板，从反光层上的透光区域进入每个像素单元中的由显色结构、第一反光结构、阻隔结构和所述反光层围成的空腔中，通过所述第一反光结构和第二反光结构的反射，从所述显色结构上射出；
所述灯管组发出的光线能够通过所述导光板，从所述反光层上的透光区域进入所述空腔中，通过所述第一反光结构和所述第二反光结构的反射，从所述显色结构上射出。
18.根据权利要求15或17所述的显示装置，其特征在于，
所述反光镜为三棱镜，所述反光镜的反光面在所述显示基板上的正投影与所述聚光层在所述显示基板上的正投影至少部分重叠。
19.根据权利要求14所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括：驱动电路板，所述驱动电路板上设置有行驱动电路和列驱动电路，
所述行驱动电路与反光层连接，用于向所述反光层施加电压；
所述列驱动电路与透明电极连接，用于向所述透明电极施加电压；
在向所述透明电极和所述反光层施加方向相反的电压时，所述反光层上与所述透明电极相对的部位向所述透明电极靠近；
当所述反光层上与所述透明电极相对的部位向所述透明电极靠近至所述反光层上与所述透明电极相对的部位覆盖所述透明电极上的显色结构时，所述透明电极上的显色结构关闭。
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