CN1049257C - 一种不锈钢超微精细电化学蚀刻方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提出的不锈钢板超微精细的电化学蚀刻方法,其蚀刻液成分为10~15%FeCl31000ml、HCl40~50ml、HNO2150~200ml,K2Cr2O7在蚀刻液中的重量百分比为0.5~1.0%。加工时,将试件放入蚀刻液后,先进行阴极极化,再进行阳极极化。该方法可以对任何复杂异形构件、各种图案要求进行高精度的加工,并可同时处理多个构件。
Description
本发明属于电化学腐蚀领域,特别涉及到一种对不锈钢进行超微精细蚀刻的电化学工艺技术。
目前对不锈钢材料和构件进行精细加工的方法,主要是采用精密机床加工和激光加工,尽管这两种技术有可能达到较高的精度,但仍是非常有限的,以致于尚不能满足某些现代工业和科学技术的特种要求。机床精细加工,一般需制备相应的胎具和模具,激光加工需有相应的定位装置,尤其是在极薄极小的金属材料上精细加工更为困难,而且这两种加工方法的效率都很低,需逐点加工,才能形成一个完整图案。
本发明的目的是提供一种能在不锈钢上进行各种图案的超微精细蚀刻技术工艺,可以成批、一次性同时处理形成多个蚀刻图案,从而达到提高效率和超微精细蚀刻的目的。
本发明的工艺流程是:
绘制图案→制备底片→不锈钢表面处理→涂布光刻胶→曝光→显影→检查/修版→蚀刻→去膜→清洗→干燥→成品。
下面详细描述本发明的工艺方法:
绘制图案:是用计算机绘制高精度的预定图案。
制备底片:为制备图案的照像胶片。
不锈钢表面处理:为除油脱脂去污,常用的有关溶剂有:甲苯、酒精、丙酮、汽油、四氯化碳等,也可采用氢氧化钠碱液清洗。
涂布光刻胶:为在不锈钢上形成均匀的光刻胶层。
曝光:把胶片上的图案通过曝光的方法,转移到不锈钢表面的感光胶层上。
显影:用碱水溶液将未曝光部分胶层溶解除去,可用0.3~0.5%NaOH水溶液,同时不断振荡试件。
修版:修补图形上的缺陷如针孔、缺口等。
蚀刻:将待蚀刻不锈钢试件浸入蚀刻液:10~15%(重量百分比浓度)FeCl3 1000ml,HCl 40~50ml,HNO3 150~200ml,K2Cr2O7在蚀刻蚀液中的重量百分比为0.5~1.0%,以待蚀刻试件为工作电极,以同样面积大小的另一块不锈钢作为辅助电极,先通以0.5~1.0A/cm2的阴极电流5~10分钟,再转换成阳极电流0.2~0.5A/cm2,极化时间20~30分钟,蚀刻过程中,要求用搅拌器不断搅拌蚀刻液。
去膜:用50~70℃的3~10%NaOH溶液去除光刻胶。
清洗:用流动自来水清洗试件。
本发明的优点:(1)由于是整体蚀刻,所以效率高,小型构件可以成批同时蚀刻。(2)可以进行超微精细蚀刻,蚀刻的最小直径尺寸为0.05mm,蚀刻深度0.05~0.2mm,表面质量好,蚀刻后无需加工即可使用。(3)本发明适于用其它方法难以加工的微型精密机械构件的特种加工。可用于制作各种不同目数的筛网,及各种有高精度要求的超微精细图形。
实施例:
不锈钢板的厚度是0.1mm,要求在1cm2的面积上蚀刻出148个φ0.12的通孔,精度要求0.01mm,蚀刻的主要工艺参数如下:
在上述蚀刻液中,将经过感光处理的待蚀刻不锈钢作为工作电极,另一块面积同样大小的18-8不锈钢作为辅助电极,先阴极极化0.83A/cm2,5分钟,再阳极极化0.3A/cm2,30分钟,并用搅拌机搅拌溶液。蚀刻完毕即可达要求(见附图1)。
Claims (2)
1.一种不锈钢超微精细电化学蚀刻方法,包括绘制蚀刻图案、制备照像底片、涂布光刻胶、曝光、显影、修补、蚀刻、去膜、清洗工序,其特征在于,配制蚀刻液,其成分为10~15%(重量百分比浓度)FeCl31000ml,HCl 40~50ml,HNO3 150~200ml,K2Cr2O7在蚀刻液中的重量百分比为0.5~1.0%,将经过图案感光处理的不锈钢试件放入蚀刻液中,先以0.5~1.0A/cm2的电流密度进行阴极极化5~10分钟,再以0.2~0.5A/cm2的电流密度进行阳极极化20~30分钟,辅助电极为试件面积同样大小的不锈钢电极。
2.如权利要求1所述的蚀刻方法,其特征在于,蚀刻过程中要用搅拌器不断搅拌蚀刻液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN94115524A CN1049257C (zh) | 1994-09-12 | 1994-09-12 | 一种不锈钢超微精细电化学蚀刻方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN94115524A CN1049257C (zh) | 1994-09-12 | 1994-09-12 | 一种不锈钢超微精细电化学蚀刻方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1119680A CN1119680A (zh) | 1996-04-03 |
CN1049257C true CN1049257C (zh) | 2000-02-09 |
Family
ID=5037557
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN94115524A Expired - Fee Related CN1049257C (zh) | 1994-09-12 | 1994-09-12 | 一种不锈钢超微精细电化学蚀刻方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN1049257C (zh) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1060541C (zh) * | 1997-09-19 | 2001-01-10 | 财团法人工业技术研究院 | 氮化物半导体材料的蚀刻方法 |
CN102887031A (zh) * | 2011-07-22 | 2013-01-23 | 比亚迪股份有限公司 | 一种在不锈钢表面形成机加工纹理的方法 |
CN104282873A (zh) * | 2013-07-10 | 2015-01-14 | 东莞市振华新能源科技有限公司 | 一种网版蚀刻法镍片成型工艺 |
CN104088005B (zh) * | 2014-06-18 | 2017-01-04 | 扬州市景杨表面工程有限公司 | 一种氮化层去除工艺 |
CN104911684B (zh) * | 2015-04-15 | 2017-09-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板的制造方法和电解液 |
CN108221040A (zh) * | 2018-01-12 | 2018-06-29 | 沈阳化工大学 | 一种不锈钢银亮电化学图文标记工艺 |
CN108966514B (zh) * | 2018-08-01 | 2020-05-22 | 四川海英电子科技有限公司 | 一种印制板的精细蚀刻工艺 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1080333A (zh) * | 1992-10-06 | 1994-01-05 | 云南五环工业设计研究所 | 一种金属试样电解浸蚀方法 |
CN1088164A (zh) * | 1992-05-26 | 1994-06-22 | 埃尼斯特·J·拉森 | 可转换的铁路-公路车辆及其使用方法 |
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1994
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1088164A (zh) * | 1992-05-26 | 1994-06-22 | 埃尼斯特·J·拉森 | 可转换的铁路-公路车辆及其使用方法 |
CN1080333A (zh) * | 1992-10-06 | 1994-01-05 | 云南五环工业设计研究所 | 一种金属试样电解浸蚀方法 |
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---|---|
CN1119680A (zh) | 1996-04-03 |
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PB01 | Publication | ||
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