CN214098107U - 一种掩膜版后处理用夹具 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种掩膜版后处理用夹具，包括承托板，所述承托板上开设有与掩膜版相适应的清洗槽，所述清洗槽内所有顶角位置均设置有内凹的掩膜版顶角避让圆弧；所述清洗槽的边沿连接有朝向清洗槽中心的掩膜版承托条；还包括一固定基板，所述固定基板上均布设置有若干固定槽，所述固定槽内可拆卸固定有所述承托板；本实用新型的目的在于提供一种掩膜版后处理用夹具，改变现有技术中，显影、蚀刻、清洗机不能对6寸和20*24等小尺寸的掩膜版进行清洗的问题。

Description

一种掩膜版后处理用夹具

技术领域

本实用新型属于掩膜版加工夹具领域，更具体的说涉及一种掩膜版后处理用夹具。

背景技术

掩膜版后处理用夹具是指用于半导体光刻掩膜版显影、蚀刻、清洗时的夹具。现有技术中，常规的掩膜版后处理用显影、蚀刻、清洗机最小只能制造520*610尺寸的掩膜版，显影、蚀刻、清洗机无法处理6寸和20*24尺寸的掩膜版，只能将6寸和20*24等小尺寸的掩膜版放在手工槽(类似矩形的储水容器)内，然后放入显影液、蚀刻液等利用浸泡的方式显影蚀刻，再手动利用硫酸脱模清洗。这种方法没有专业设备显影、蚀刻、清洗作出的产品稳定，也无法保证洁净度，作业人员也因为会接触到化学药液，会对人员构成一定潜在的风险。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种掩膜版后处理用夹具，改变现有技术中，显影、蚀刻、清洗机不能对小尺寸或特殊尺寸的掩膜版进行清洗的问题。

本实用新型技术方案一种掩膜版后处理用夹具，包括承托板，所述承托板上开设有与掩膜版相适应的清洗槽，所述清洗槽内所有顶角位置均设置有内凹的掩膜版顶角避让圆弧；所述清洗槽的边沿连接有朝向清洗槽中心的掩膜版承托条；

还包括一固定基板，所述固定基板上均布设置有若干固定槽，所述固定槽内可拆卸固定有所述承托板。

优选地，所述掩膜版承托条放置掩膜版的侧面与其同侧的承托板表面间距离不小于掩膜版厚度。

优选地，与所述掩膜版承托条放置掩膜版的侧面同侧的承托板表面与掩膜版表面齐平。

优选地，所述承托板上设置有操作区，所述操作区包括至少两缺口槽，所述缺口槽与清洗槽边沿连接。

优选地，所述固定槽设置有五个，其中四个固定槽呈正证排列设置，另一固定槽设置在呈正矩阵排列的四固定槽中心位置。

优选地，所述固定基板和所述承托板材质均由铝合金材料制成，铝合金表面镀有0.5mm厚的特氟龙防腐涂层。

本实用新型技术方案的一种掩膜版后处理用夹具的有益效果是：

1、通过承托板改变现有技术中与显影、蚀刻、清洗机不相适应的掩膜版清洗的问题；通过掩膜版顶角避让圆弧的设计，避免在清洗中掩膜版顶角被损坏的问题。

2、在固定基板上设置不同位置的若干承托板，一方面提高工作效率，最主要的是能够增加一次工作对比项，便于对处理的掩膜版进行参数验证，提高掩膜版处理质量。

附图说明

图1为本技术方案的一种掩膜版后处理用夹具中单个夹具结构示意图，

图2为图1的主视图，

图3为掩膜版在掩膜版后处理用夹具上安装示意图，

图4为本实用新型技术方案的一种掩膜版后处理用夹具结构示意图。

具体实施方式

为便于本领域技术人员理解本实用新型技术方案，现结合说明书附图对本实用新型技术方案做进一步的说明。

如1图和图4所示，本实用新型技术方案一种掩膜版后处理用夹具，包括一固定基板6，固定基板6上均布设置有若干固定槽7，固定槽7内可拆卸固定有承托板1。

基于上述技术方案，固定基板6外尺寸和形状与掩膜版后处理的显影、蚀刻、清洗机相适应，将固定基板6按照显影、蚀刻、清洗机要求固定并实现对固定基板上的掩膜版进行清洗。可解决现有技术中，显影、蚀刻、清洗机仅仅能对一些固定的或者常规的尺寸的掩膜版进行清洗的问题，一方面提高了显影、蚀刻、清洗机的利用率，另一方面可解决特殊尺寸或者较小尺寸的掩膜版的清洗问题。

基于上述技术方案，承托板1的外尺寸固定，用以适应固定基板6以及显影、蚀刻、清洗机，承托板1的内尺寸根据被清洗的掩膜版的外尺寸进行时选择。这样即实现了一种型号的固定基板能实现对多种型号和尺寸的掩膜版的固定，提高固定基板的适用性，节省成本。

基于上述技术方案，在固定基板6上设置若干承托板1，每一承托板上均固定一掩膜版，这样，一方面实现了一次完成多块掩膜版的清洗，提高清洗效率。另一方面在同一次显影、蚀刻、清洗中完成多块掩膜版，减小设备或人工操作误差的对比项，可以使工艺一次利用多块掩膜版作对比，缩短了工艺验证时间，增加了验证的不同效果。

如图4所示，固定槽7设置有五个，其中四个固定槽呈正证排列设置，另一固定槽设置在呈正矩阵排列的四固定槽中心位置。可以使工艺一次利用五张掩膜版在不同位置作对比，缩短了工艺验证时间，增加了验证的不同效果。

本技术方案中，固定基板7和承托板1材质均由铝合金材料制成。铝合金材质的固定基板7和承托板1具有一定的稳定性和可塑性，形变量小，结构稳定，自重轻。在铝合金所以表面上均镀有0.5mm厚的特氟龙防腐涂层，用以防止化学药液对铝合金材质的腐蚀。

如图1和图2所示，本实用新型技术方案的一种掩膜版后处理用夹具在承托板1上开设有与掩膜版10相适应的清洗槽2，清洗槽2上下中空，实现对掩膜版10上下表面进行清洗。清洗槽2内所有顶角位置均设置有内凹的掩膜版顶角避让圆弧3。清洗槽2的边沿连接有朝向清洗槽中心的掩膜版承托条4。清洗时，将掩膜版10置于掩膜版承托条4上，最后安装在显影、蚀刻、清洗机中。

基于上述技术方案，掩膜版顶角避让圆弧3的设置，使得在掩膜版的安装放置或拿取中，掩膜版的顶角不会与清洗槽2内顶角出现碰撞问题。且在显影、蚀刻、清洗机工作中，掩膜版10需要随固定板6进行高速旋转，掩膜版的顶角不会与清洗槽2的顶角出现碰撞，确保了掩膜版不会受到损坏，确保了掩膜版加工中的质量。

同时，掩膜版顶角避让圆弧3的设置，还能够为在清洗中的清洗液等提供一个排液口，使得在清洗中清洗液能够快速的在掩膜版两表面间流动，同时在掩膜版清洗完成后，出液时，清洗液能够快速的排出，加快显影、蚀刻、清洗的工作效率。

基于上述技术方案，清洗槽2内尺寸与被清洗的掩膜版10外尺寸相适应，为了便于对掩膜版的安装和拿出，清洗槽内尺寸与掩膜版外尺寸之间一般采用间隙配合。

基于上述技术方案，掩膜版承托条4宽度在确保对掩膜版10可靠固定的前提下，尽量减小掩膜版承托条4的宽度，避免掩膜版承托条4过宽对掩膜版10处理造成障碍或死角。进一步的可以将掩膜版承托条4设置为栅格状或镂空状，用以提高对掩膜版的处理能力。一般的选用掩膜版承托条4宽度d为2.5mm，掩膜版承托条4厚度3.2mm，承托板1厚度8mm。

如图1所示，掩膜版承托条4放置掩膜版10的侧面与其同侧的承托板表面间距离D不小于掩膜版10厚度。确保能够将掩膜版10完全的放置在清洗槽2内，避免掩膜版10处理时上表面凸出，影响掩膜版的正常显影、蚀刻、清洗工作，避免在后处理设备高速旋转中用以保证安全性。更进一步地，与掩膜版承托条放置掩膜版的侧面同侧的承托板表面与掩膜版表面齐平。

如图1所示，承托板1上设置有操作区，操作区包括至少两缺口槽5，缺口槽5与清洗槽2边沿连接。缺口槽5尺寸一般较人体手指粗细大，或略大，便于在掩膜版10的固定和拿出操作中操作方便。同时缺口槽5的设置，也能够实现排液，使其不会因为排液问题而影响后处理工艺。

本实用新型技术方案在上面结合附图对实用新型进行了示例性描述，显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制，只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性改进，或未经改进将实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种掩膜版后处理用夹具，其特征在于，包括承托板，所述承托板上开设有与掩膜版相适应的清洗槽，所述清洗槽内所有顶角位置均设置有内凹的掩膜版顶角避让圆弧；所述清洗槽的边沿连接有朝向清洗槽中心的掩膜版承托条；

还包括一固定基板，所述固定基板上均布设置有若干固定槽，所述固定槽内可拆卸固定有所述承托板。

2.根据权利要求1所述的一种掩膜版后处理用夹具，其特征在于，所述掩膜版承托条放置掩膜版的侧面与其同侧的承托板表面间距离不小于掩膜版厚度。

3.根据权利要求2所述的一种掩膜版后处理用夹具，其特征在于，与所述掩膜版承托条放置掩膜版的侧面同侧的承托板表面与掩膜版表面齐平。

4.根据权利要求1所述的一种掩膜版后处理用夹具，其特征在于，所述承托板上设置有操作区，所述操作区包括至少两缺口槽，所述缺口槽与清洗槽边沿连接。

5.根据权利要求1所述的一种掩膜版后处理用夹具，其特征在于，所述固定槽设置有五个，其中四个固定槽呈矩阵排列设置，另一固定槽设置在呈正矩阵排列的四固定槽中心位置。

6.根据权利要求1所述的一种掩膜版后处理用夹具，其特征在于，所述固定基板和所述承托板材质均由铝合金材料制成，铝合金表面镀有0.5mm厚的特氟龙防腐涂层。

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