CN104916621B - 线路结构及显示面板 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种线路结构，该线路结构包括测试线﹑传输线及连接结构，该测试线用于接收一用于检测传输线是否良好的测试信号，并将该测试信号传输到该传输线，该连接结构用于控制该测试线与传输线之间电信号的导通或断开，该连接结构包括栅极以及与所述栅极绝缘设置的半导体层，所述测试线的一端及所述传输线的一端相互绝缘且分别与所述半导体层电性连接。本发明还提供一种显示面板。本发明线路结构及显示面板能够增加测试线与传输线的连接处的电流承载能力，防止测试线与传输线的连接处因电流过大而损坏。

Description

线路结构及显示面板

技术领域

本发明涉及一种线路结构及显示面板。

背景技术

显示面板通常包括多条相互平行的数据线(data line)与多条相互平行的栅极线(gate line)。该多条数据线及该多条栅极线彼此交错设置，且在数据线与栅极线交错的地方设有最小像素单元。在生产过程中，为了检测数据线及栅极线是否良好，该显示面板的非显示区域会设置多条与数据线电性连接的数据测试线及多条与栅极线电性连接的栅极测试线。每条数据测试线为对应的数据线提供一测试信号，以检测数据线是否良好。每条栅极测试线为对应的栅极线提供一测试信号，以检测栅极线是否良好。然而，在测试时，由于数据线上连接有许多电子元件作，在数据测试线与数据线的连接处会有较大的电流通过，容易烧坏数据测试线与数据线的连接处，致使显示面板损坏。

发明内容

因此，有必要提供一种线路结构，该线路结构包括测试线﹑传输线及连接结构，该测试线用于接收一用于检测传输线是否良好的测试信号，并将该测试信号传输到该传输线，该连接结构用于控制该测试线与传输线之间电信号的导通或断开，该连接结构包括栅极以及与所述栅极绝缘设置的半导体层，所述测试线的一端及所述传输线的一端相互绝缘且分别与所述半导体层电性连接。

还有必要提供一种显示面板，该显示面板包括显示区及非显示区，所述显示区用于显示画面，所述非显示区与环绕所述显示区设置，所述非显示区设置有多条测试线，所述显示区设置有多条传输线，该测试线用于接收一用于检测传输线是否良好的测试信号，并将该测试信号传输到该传输线，所述显示面板还包括连接结构，该连接结构用于控制该测试线与传输线之间电信号的导通或断开，该连接结构包括栅极以及与所述栅极绝缘设置的半导体层，所述测试线的一端及所述传输线的一端相互绝缘且分别与所述半导体层电性连接。

与现有技术相较，本发明线路结构及显示面板能够增加测试线与传输线的连接处的电流承载能力，防止测试线与传输线的连接处因电流过大而损坏。

附图说明

下面结合附图及较佳实施方式对本发明作进一步详细描述。

图1为本发明具体实施方式所提供的显示面板的示意图。

图2为本发明数据线与数据测试线连接关系的第一实施方式的示意图。

图3为图2中III的局部放大结构示意图。

图4为图3中沿线IV-IV剖面示意图。

图5为本发明数据线与数据测试线连接关系的第二实施方式的示意图。

图6为图5中沿线VI-VI剖面示意图。

主要元件符号说明

显示面板	20、30
		显示区	A
非显示区	B
		数据线	Data 1~ Data n
数据测试线	Dt 1~Dt n
		栅极线	Gate 1~Gate n
栅极测试线	Gt 1~Gt n
		第一数据线	221、321
第二数据线	222、322
		第三数据线	223、323
第一数据测试线	211、311
		第二数据测试线	212、312
第三数据测试线	213、313
		第一测试垫	P1
第二测试垫	P2
		第三测试垫	P3
控制结构	23
		连接结构	24、34
控制信号接收垫	231
		延伸端	232
第一子连接结构	241、341
		第二子连接结构	242、342
第三子连接结构	243、343
		第一图案化结构	2111、3111
第二图案化结构	2211、3211
		第一分支	2111a、3111a
第一支部	2211a、3211a
		基板	25、35
栅极绝缘层	26、36
		连接层	37
第二绝缘层	38
		半导体层	2115、3115
栅极	33
		第一通孔	K1
第二通孔	K2

如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。

具体实施方式

请一并参阅图1，其为本发明具体实施方式所提供的显示面板20的示意图。该显示面板20包括一显示区A及一非显示区B。所述显示区A用于显示画面。所述非显示区B环绕所述显示区A设置。该显示面板20的该显示区A内设有多条相互平行的数据线Data 1~Data n及多条相互平行的栅极线Gate 1~Gate n。该多条数据线Data 1~Data n及该多条栅极线Gate 1~Gate n彼此交错设置。该显示面板20的非显示区B内设置多条数据测试线Dt 1~Dtn及多条栅极测试线Gt 1~Gt n。所述数据测试线Dt 1~Dt n分别与所述数据线Data 1~Datan电性连接，用于为相应数据线Data 1~Data n提供一测试信号，以检测数据线Data 1~Datan是否良好。所述栅极测试线Gt 1~Gt n分别与所述栅极线Gate 1~Gate n电性连接，用于为相应的栅极线Gate 1~Gate n提供一测试信号，以检测栅极线Gate 1~Gate n是否良好。

在此仅仅以该显示面板包括三条数据线及三条数据测试线为例进行说明。请参阅图2，为了方便描述，该三条数据线分别命名为：第一数据线221、第二数据线222及第三数据线223；该三条数据测试线分别命名为：第一数据测试线211、第二数据测试线212及第三数据测试线213。

该第一数据测试线211、该第二数据测试线212及该第三数据测试线213分别包括一个测试垫，分别命名为第一测试垫P1、第二测试垫P2及第三测试垫P3。该第一测试垫P1、第二测试垫P2及第三测试垫P3用于与一测试信号输出探针（图未示）相连，从而接收用于检测数据线是否良好的测试信号。该数据测试线分别将该测试信号经由连接结构24传输到相应的数据线。该显示面板20还包括控制结构23。该控制结构23包括一控制信号接收垫231及一延伸端232。该控制信号接收垫231用于接收一控制信号，并经该延伸端232将控制信号传输至该连接结构24。该连接结构24在该控制信号的控制下开启或者关闭。当该连接结构24在该控制信号的控制下开启时，经由第一数据测试线211、该第二数据测试线212及该第三数据测试线213输出的测试信号分别传输至该第一数据线221、第二数据线222及第三数据线223。

图3为图2中III的局部放大结构示意图。图4为图3中沿IV-IV切割线的剖面示意图。请一并参阅图3与图4，该连接结构24包括三个子连接结构，即，第一子连接结构241、第二子连接结构242及第三子连接结构243。其中，该第一子连接结构241连接该第一数据测试线211及该第一数据线221，该第二子连接结构242连接该第二数据测试线212及该第二数据线222，该第三子连接结构243连接该第三数据测试线213及该第二数据线223。

每个子连接结构241、242及243均为一薄膜晶体管（Thin Film Transistor，TFT）结构。其中，该第一数据测试线211作为该第一子连接结构241的源极（source）、该第一数据线221作为该第一子连接结构241的漏极（drain）、该延伸端232作为该第一子连接结构241的栅极（gate）。可以理解地，该第二数据测试线212作为该第二子连接结构242的源极、该第二数据线222作为该第二子连接结构242的漏极、该延伸端232作为该第二子连接结构242的栅极。该第三数据测试线213作为该第三子连接结构243的源极、该第三数据线223作为该第三子连接结构243的漏极、该延伸端232作为该第三子连接结构243的栅极。由此可看出，该第一子连接结构241、该第二子连接结构242及该第三子连接结构243共用栅极。该栅极控制该第一子连接结构241、该第二子连接结构242及该第三子连接结构243同时开启或者关闭。

该第一子连接结构241、该第二子连接结构242及该第三子连接结构243的结构相同，下面以该第一子连接结构241为例进行描述。

该第一数据测试线211位于该第一子连接结构241的部分包括图案化的第一图案化结构2111，该第一图案化结构2111包括多个彼此间隔设置的第一分支2111a，该第一数据线221位于该第一子连接结构241的部分包括图案化的第二图案化结构2211，该第二图案化结构2211包括多个彼此间隔设置的第一支部2211a。优选地，两相邻的第一分支2111a彼此之间的间隔相等且平行设置，两相邻的第一支部2211a彼此之间的间隔相等且平行设置。各第一分支2111a由第一数据测试线211向该第一数据线221的方向延伸，各第二分支2211a由该第一数据线221向该第一数据测试线211的方向延伸。该第一图案化结构2111和该第二图案化结构2211彼此交错设置，且位于同一平面内。在本实施方式中，该第一分支2111a及该第一支部2211a均为直条状，且彼此交错间隔排列。该第一图案化结构2111及该第二图案化结构2211分别作为该第一子连接结构241的源极及漏极，该延伸端232作为该第一子连接结构241的栅极。

该延伸端232作为该第一子连接结构241的栅极设置于一基板25上。一栅极绝缘层26覆盖于该延伸端232上。一半导体层2115形成在该栅极绝缘层26上与所述延伸端232对应的位置。该第一分支2111a及该第一支部2211a交替设置于该半导体层2115上。可以理解，各连接结构中的半导体层2115相互绝缘。

测试时，该第一测试垫P1、该第二测试垫P2及该第三测试垫P3接收测试信号的同时，该控制信号接收垫231接收一高电平的控制信号，从而使该延伸端232控制该第一子连接结构241、该第二子连接结构242及该第三子连接结构243开启，进而，该测试信号分别经由该第一数据测试线211、该第二数据测试线212及该第三数据测试线213传输至该显示面板20显示区内的该第一数据线221、该第二数据线222及该第三数据线223。

本实施方式通过将数据线与数据测试线之间的连接结构设置为薄膜晶体管结构，能够更好的控制该数据测试线和数据线之间的开启和关闭，从而在电流过大时切断数据测试线与数据线之间的电流，防止数据测试线与数据线之间的连接处被烧毁。并且，本实施方式通过图案化的第一图案化结构2111及图案化的第二图案化结构2211增加了该第一数据测试线211及该第一数据线221的相对的面积，因此能够减小该第一数据测试线211及该一数据线221接触之处的电流密度，增加了该第一数据测试线211及该第一数据线221的承受电流的能力，降低了该第一数据测试线211及该第一数据线221的连接处被电流过大烧毁的风险。同样地，该第二数据测试线212及该第一数据线222的连接处以及该第三数据测试线213及该第三数据线223的连接处被电流过大烧毁的风险也被降低了。

请参阅图5，其为本发明数据线与数据测试线连接关系的第二实施方式的示意图。该显示面板30中的连接结构34包括第一子连接结构341、第二子连接结构342及第三子连接结构343。该第一子连接结构341、第二子连接结构342及第三子连接结构343均为TFT结构。该第一子连接结构341连接该第一数据测试线311及该第一数据线321，并控制该第一数据测试线311及该第一数据线321的开启或关闭。该第二子连接结构342连接该第二数据测试线312及该第二数据线322，并控制该第二数据测试线312及该第二数据线322的开启或关闭。该第三子连接结构343连接该第三数据测试线313及该第三数据线323，并控制该第三数据测试线313及该第三数据线323的开启或关闭。该第一子连接结构341、该第二子连接结构342及该第三子连接结构343的结构相同，下面以该第一子连接结构341为例进行说明。

该第一子连接结构341为一薄膜晶体管结构，其中，该第一数据测试线311及该第一数据线321分别为该薄膜晶体管结构的源极和漏极。优选地，该第一数据测试线311邻近该第一数据线321的端部包括图案化的第一图案化结构3111，该第一图案化结构3111包括多个彼此间隔设置的第一分支3111a，该第一数据线321邻近该第一数据测试线311的端部包括图案化的第二图案化结构3211，该第二图案化结构3211包括多个彼此间隔设置的第一支部3211a。优选地，两相邻的第一分支3111a彼此之间的间隔相等且平行设置，两相邻的第一支部2211a彼此之间的间隔相等且平行设置。该第一图案化结构2111和该第二图案化结构2211彼此交错设置，且位于同一平面内。在本实施方式中，该第一分支3111a及该第一支部3211a分别为直条状，并彼此交错间隔排列。该第一分支3111a及该第一支部3211a分别作为该第一子连接结构341的源极及漏极。

请一并参阅图6，其为图5中沿线VI-VI剖面示意图。一栅极33设置于一基板35上。一栅极绝缘层36覆盖于该栅极33上。一半导体层3115形成在该栅极绝缘层36上与所述栅极33对应的位置。该第一分支3111a及该第一支部3211a交替设置于该半导体层3115上。该第一数据测试线311形成在该栅极绝缘层36上。一第二绝缘层38形成在所述栅极绝缘层36与第一数据测试线311上并覆盖所述第一数据测试线311。该第二绝缘层38对应所述第一数据测试线311的位置开设有第一通孔K1，该第二绝缘层38与栅极绝缘层36上开设有第二通孔K2，一连接层37形成在该第二绝缘层38上并通过该第一通孔K1与第二通孔K2将所述第一数据测试线311与栅极33电性连接。

测试时，该第一数据测试线311上加载测试信号，该测试信号经由该第一数据测试线311及该连接层37传输至该栅极33。此时，使得该栅极33与该第一数据测试线311上的信号相同。当栅极33通过控制该第一分支3111a及该第一支部3211a的导通或截至进而使得该第一子连接结构341开启或关闭。即，在本实施方式中，该第一数据测试线311上加载的测试信号同时控制该第一子连接结构341的开启或关闭。

本实施方式通过将数据线与数据测试线之间的连接结构设置为薄膜晶体管结构，能够更好的控制该数据测试线和数据线之间的开启和关闭。同时，当第一数据测试线311加载测试信号时，该第一子连接结构341能够自动开启以导通数据线测试线与数据线之间的信号。并且，本实施方式通过图案化的第一图案化结构3111及图案化的第二图案化结构3211增加了该第一数据测试线311及该第一数据线321的相对的面积，因此能够减小该第一数据测试线311及该一数据线321接触之处的电流密度，增加了该第一数据测试线311及该第一数据线321的承受电流的能力，降低了该第一数据测试线311及该第一数据线321的连接处被电流过大烧毁的风险。同样地，该第二数据测试线312及该第一数据线322的连接处以及该第三数据测试线313及该第三数据线323的连接处被电流过大烧毁的风险也被降低了。

可以理解地，虽然本发明以显示面板20、30具有三条数据线及三条数据测试线为例进行说明，该显示面板20、30的数据线及数据测试线的数目并不局限于此。

可以理解地，虽然本发明以显示面板20、30上的数据线和数据测试线为例进行说明，本发明中的连接结构也同样适用于栅极线和栅极测试线。

可以理解地，在显示面板测试完栅极线与数据线后，该些栅极测试线与数据测试线可能会被切断而失去测试的作用，但该数据线与数据测试线的线路连接结构仍会保留在显示面板中。

虽然本发明以优选实施方式揭示如上，然其并非用以限定本发明，任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可做各种的变化，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种线路结构，该线路结构包括测试线﹑传输线及连接结构，该测试线用于接收一用于检测传输线是否良好的测试信号，并将该测试信号传输到该传输线，该连接结构用于控制该测试线与传输线之间电信号的导通或断开，该连接结构包括栅极以及与所述栅极绝缘设置的半导体层，所述测试线的一端及所述传输线的一端相互绝缘且分别与所述半导体层电性连接；该栅极与该测试线电性连接；该栅极设置于一基板上，一栅极绝缘层覆盖于所述栅极上，所述半导体层形成在所述栅极绝缘层上与所述栅极对应的位置，所述测试线的第一分支与传输线的第二分支交替地设置在该半导体层上，该测试线形成在该栅极绝缘层上，一第二绝缘层形成在该栅极绝缘层与测试线上并覆盖所述测试线，该第二绝缘层对应该测试线的位置开设有第一通孔，该第二绝缘层与栅极绝缘层上开设有第二通孔，一连接层形成在该第二绝缘层上并通过该第一通孔与第二通孔将所述测试线与栅极电性连接。

2.如权利要求1所述的线路结构，其特征在于，该测试线与该半导体层电性连接的一端包括第一图案化结构，该传输线与该半导体层电性连接的一端包括第二图案化结构，该第一图案化结构包括多个彼此间隔设置的第一分支，该第二图案化结构包括多个彼此间隔设置的第二分支，该第一分支与该第二分支彼此交错间隔排列且位于同一层。

3.如权利要求2所述的线路结构，其特征在于，该多个第一分支由该测试线向该传输线的方向延伸，该多个第二分支由该传输线向该测试线的方向延伸，该第一分支设置在两两相邻的该第二分支之间。

4.一种显示面板，该显示面板包括显示区及非显示区，所述显示区用于显示画面，所述非显示区与环绕所述显示区设置，所述非显示区设置有多条第一线路，所述显示区设置有多条第二线路，所述显示面板还包括连接结构，该连接结构用于控制该第一线路与第二线路之间电信号的导通或断开，该连接结构包括栅极以及与所述栅极绝缘设置的半导体层，所述第一线路的一端及所述第二线路的一端相互绝缘且分别与所述半导体层电性连接；该栅极设置于一基板上，一栅极绝缘层覆盖于所述栅极上，所述半导体层形成在所述栅极绝缘层上与所述栅极对应的位置，所述第一线路的第一分支与第二线路的第二分支交替地设置在该半导体层上，该第一线路形成在该栅极绝缘层上，一第二绝缘层形成在该栅极绝缘层与第一线路上并覆盖所述第一线路，该第二绝缘层对应该第一线路的位置开设有第一通孔，该第二绝缘层与栅极绝缘层上开设有第二通孔，一连接层形成在该第二绝缘层上并通过该第一通孔与第二通孔将所述第一线路与栅极电性连接。

5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，该第一线路与该半导体层电性连接的一端包括第一图案化结构，该第二线路与该半导体层电性连接的一端包括第二图案化结构，该第一图案化结构包括多个彼此间隔设置的第一分支，该第二图案化结构包括多个彼此间隔设置的第二分支，该第一分支与该第二分支彼此交错间隔排列且位于同一层。

6.如权利要求5所述的显示面板，其特征在于，该多个第一分支由该第一线路向该第二线路的方向延伸，该多个第二分支由该第二线路向该第一线路的方向延伸，该第一分支设置在两两相邻的该第二分支之间。

7.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第二线路为所述显示面板的数据线，所述第一线路为所述显示面板的数据测试线路。