CN104858182A - 一种等离子清洗方法及设备 - Google Patents

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Abstract

一种等离子清洗方法及设备,其中,设备包括机体、罩在机体上方的机罩,所述机体上设有传输装置和至少一个等离子发生装置,所述传输装置包括第一伺服电机、主动轮、从动轮、以及绕设于主动轮和从动轮之间的由第一伺服电机驱动的传送带,所述传送带的上表面均匀设有若干个支撑点,若干个所述支撑点突出于所述传送带的上表面,且若干个所述支撑点的顶点在同一平面上,所述平面与所述传送带平行;所述支撑点是用硅胶或者橡胶制成的,且硬度大于等于邵氏HA10小于等于邵氏HA60。因此,本发明具有能够更好地保护被清洗物的表面的、减少二次污染得优点。

Description

一种等离子清洗方法及设备
技术领域
本发明涉及一种清洗的方法及设备,尤其是一种等离子清洗方法及设备。
背景技术
传统的物质的清洗一般采用的是用清洁剂进行清洗,利用清洁剂中添加的多种表面活性剂,达到去除污渍的目的。但是由于清洁剂中的化学成分对被清洗物会造成一定的破坏,特别是玻璃、膜等物质,用清洁剂进行清洗,容易破坏其表面结构,甚至引入二次污染,因此,为了解决这个问题,更加科学环保地对玻璃、膜等物质进行清洗,有人发明了等离子清洗机;等离子清洗机(plasma cleaner)也叫等离子表面处理仪,是一种全新的高科技技术,利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果;等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,它是通过对气体施加足够的能量使之离化而成的,等离子体的“活性”组分包括离子、电子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等,等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁等目的。
现有技术中,等离子清洗机一般包括机体,设在机体上的传输装置和等离子发生装置,所述传输装置包括电机、主动轮、从动轮以及传送带,等离子发生头设在所述传输装置的上方,将被清洗物置于传送带上,通过等离子发生头上发射出的等离子体清洗被清洗物表面.以达到清洗目的。
上述现有技术中的等离子清洗机,由于被清洗物直接置于传送带上,而对于玻璃、膜等物质而言,直接置于传送带上会使得玻璃、膜等的表面刮伤,破坏其表面结构,随后便会引入其它的物质对玻璃、膜等造成二次污染,而玻璃和膜等一类被清洗物的表面特性要求是比较高的,一旦受到破坏或者污染,将会影响其性能,甚至有可能直接造成报废。
发明内容
为了克服上述问题,本发明向社会提供一种能够更好地保护被清洗物的表面的、减少二次污染的一种等离子清洗方法。
本发明还提供一种能够更好地保护被清洗物的表面的、减少二次污染的等离子清洗设备。
本发明的技术方案的实现是:提供一种等离子清洗方法,包括等离子清洗装置和传输装置,在所述离子清洗装置在对被清洗物进行清洗时,所述被清洗物在所述传输装置上保持悬浮状态。
作为对上述技术方案的改进,所述悬浮状态的保持是通过电磁悬浮实现的、或者是通过在传输装置上设置支撑点实现的。
本发明的技术方案是:提供一种等离子清洗设备,包括机体、罩在机体上方的机罩,所述机体上设有传输装置和至少一个等离子发生装置,所述传输装置包括第一伺服电机、主动轮、从动轮、以及绕设于主动轮和从动轮之间的由第一伺服电机驱动的传送带,所述传送带的上表面均匀设有若干个支撑点,若干个所述支撑点突出于所述传送带的上表面,且若干个所述支撑点的顶点在同一平面上,所述平面与所述传送带平行;所述支撑点是用硅胶或者橡胶制成的,且硬度大于等于邵氏HA10小于等于邵氏HA60。
作为对上述技术方案的改进,所述等离子发生装置包括等离子发射器、等离子发生头以及连接等离子发射器和等离子发生头的连接管,所述等离子发生头是通过移动系统实现移动的。
作为对上述技术方案的改进,所述移动系统包括直线导轨副、位于直线导轨之间的第二伺服电机、由第二伺服电机驱动的连接丝杆、以及移动平台,所述移动平台同时与所述连接丝杆和滑块固定连接,所述等离子发生头设在所述移动平台上。
作为对上述技术方案的改进,每个所述等离子发生头的处理宽幅为大于等于35mm小于等于65mm。
作为对上述技术方案的改进,所述等离子发生装置的气源是压缩空气。
作为对上述技术方案的改进,所述传送带是由防静电的材料制作的。
作为对上述技术方案的改进,所述机体上还设有用于散热的散热口。
本发明由于采用了在所述传送带的上表面均匀设有若干个支撑点,若干个所述支撑点突出于所述传送带的上表面,且若干个所述支撑点的顶点在同一平面上,所述平面与所述传送带平行;所述支撑点是用硅胶或者橡胶制成的,且硬度大于等于邵氏HA10小于等于邵氏HA60。因此,被清洗物在进行清洗时,由于被清洗物是被放置在所述支撑点上的,由所述支撑点支撑,这样就避免了传统的被清洗物与传送带接触带来的二次污染,而且所述支撑点是用硅胶或者橡胶制成的,且硬度大于等于邵氏HA10小于等于邵氏HA60,这样就不会对被清洗物的表面造成损伤。本发明具有不会对被清洗物造成损伤的、避免了二次污染的优点。
附图说明
图1本发明的整体结构示意图。
图2是图1中的传输装置的平面结构示意图。
图3是图1中的移动系统的平面结构示意图。
图4是图1的侧面结构示意图。
具体实施方式
在本发明的描述中,需要理解的是,术语中“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“连接”、“相连”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以是通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明的具体含义。此外,在本发明的描述中,除非另有说明,“多个”、“若干”的含义是两个或两个以上。
一种等离子清洗方法,包括等离子清洗装置和传输装置,在所述离子清洗装置在对被清洗物进行清洗时,所述被清洗物在所述传输装置上保持悬浮状态。所述悬浮状态的保持是通过电磁悬浮实现的、或者是通过支撑点实现的。
请参见图1至图4,图1和图4揭示的是一种等离子清洗设备的一种实施例,请先参见图1至图3,一种等离子清洗设备,包括机体11、罩在机体11上方的机罩12,所述机体11上设有传输装置2和两个等离子发生装置3(所述等离子发生装置3的数量并不受限制,可以根据需要设置一个或者多个,本实施例中是设置两个等离子发生装置3),所述传输装置2包括第一伺服电机21、主动轮22、从动轮23、以及绕设于主动轮22和从动轮23之间的由第一伺服电机21驱动的传送带24,所述传送带24是由防静电的材料制作的,所述传送带24的有效清洁宽幅是大于等于600mm小于等于700mm,所述传送带24的上表面均匀设有若干个支撑点241,若干个所述支撑点241突出于所述传送带24的上表面,且若干个所述支撑点241的顶点在同一平面上,所述平面与所述传送带24平行;所述支撑点241是用硅胶或者橡胶制成的,且硬度大于等于邵氏HA10小于等于邵氏HA60;被清洗物9在进行清洗时,由于被清洗物9是被放置在所述支撑点241上的,由所述支撑点241支撑,这样就避免了传统的被清洗物9与传送带24接触带来的二次污染,而且所述支撑点241是用硅胶或者橡胶制成的,且硬度大于等于邵氏HA10小于等于邵氏HA60,这样就不会对被清洗物的表面造成损伤。
本发明中,优选地,每个所述等离子发生装置3包括等离子发射器31、等离子发生头32以及连接等离子发射器31和等离子发生头32的连接管,本实施例中,两个所述等离子发生头32设置在机罩12内,透过视窗71可以看到机罩12内的两个等离子发生头32,两个所述等离子发生头32是通过移动系统4实现移动的,本发明中,每个所述等离子发生装置3的气源是压缩空气,每个所述等离子发生头32的处理宽幅A为大于等于35mm小于等于65mm。
本发明中,为了使得两个所述等离子发生装置3能够全方位地对被清洗物9进行清洗,所述移动系统4包括直线导轨副、位于直线导轨411之间的第二伺服电机42、由第二伺服电机42驱动的连接丝杆43、以及移动平台44,所述移动平台44同时与所述连接丝杆43和滑块固定(图中不可见)连接,两个所述等离子发生头32设在所述移动平台44上;在所述第二伺服电机42的作用下,所述连接丝杆43运动,与所述连接丝杆43固定连接的移动平台44也随之连接丝杆43运动,又因为所述移动平台44与滑块固定连接,这样所述移动平台44便在第二伺服电机42的作用下,沿所述导轨411运动。
本发明中,由于为了使得本发明散热更好,不至于因温度过高损坏机体以及被清洗物9,所述机体11上还设有用于散热的散热口101(如图4所示),所述机罩12上还设有排风口6。
本发明中,为了使得本发明在使用过程更加安全,在所述机体11内,还设有用于检测机体11内的温度的传感器(图中不可见),所述传感器与报警装置连接;所述报警装置是灯光报警装置,也可以是声音报警装置;工作时,所述传感器将接收到的温度信号转换成电压信号或电流信号传送到报警装置,当所述机体11内的温度超过报警设定的温度时,报警装置发生声音和/或灯光报警信号提示,使用者及时采取应对措施,使所述机体11内的温度及时降下来;本实施例中,在所述机罩12上设有报警灯5。
本发明中,为了方便使用者操作,所述机罩12上还设有触摸屏,所述触摸屏7上设有电源开、关的按键、以及暂停等按键,另外,为了使得本发明能够更好地进行搬动,所述机体11的底部还设有滚轮8。
本发明在进行被清洗物9的清洗时过程如下,本实施例是以具有两个等离子发生装置3为例进行说明:接通电源,启动所述机体11,在所述第一伺服电机21的作用下,所述传送带24向前运动,将被清洗物9置于所述传送带24上的支撑点241上,被清洗物9随着所述传送带24从传送进口25进入,待移动至所述等离子发生头32的处理区域时,靠近所述传送进口25的等离子发生头32发射出的等离子体清洗被清洗物9表面,使得被清洗物9表面被清洗干净;每个所述等离子发生头32的处理宽幅为大于等于35mm小于等于65mm,所述移动系统4控制等离子发生头32在被清洗物9上方沿垂直于所述传送带24的方向来回移动,对被清洗物9进行清洗,待第一伺服电机21接收到下一个脉冲时,所述传送带24带动被清洗物9向前移动,此时靠近所述传送进口25等离子发生头32继续清洗被清洗物9的另一部分或者清洗下一个被清洗物9,靠近传送出口26等离子发生头32对被清洗物9进行补充清洗,使得被清洗物9表面被清洗得更干净;被清洗干净后的被清洗物9随后从传送出口26出来。当然,被发明中,所述等离子发生装置3也可以是一个,这样就需要控制第一伺服电机21,使得被清洗物9在等离子发生头下方停留的时间更长一点,以保证被清洗物9被清洗得更干净。

Claims (9)

1.一种等离子清洗方法,包括等离子清洗装置和传输装置,其特征在于,在所述离子清洗装置在对被清洗物进行清洗时,所述被清洗物在所述传输装置上保持悬浮状态。
2.根据权利要求1所述的一种等离子清洗方法,其特征在于,所述悬浮状态的保持是通过电磁悬浮实现的、或者是通过在传输装置上设置支撑点实现的。
3.一种等离子清洗设备,包括机体(11)、罩在机体(11)上方的机罩(12),所述机体(11)上设有传输装置(2)和至少一个等离子发生装置(3),所述传输装置(2)包括第一伺服电机(21)、主动轮(22)、从动轮(23)、以及绕设于主动轮(22)和从动轮(23)之间的由第一伺服电机(21)驱动的传送带(24),其特征在于,所述传送带(24)的上表面均匀设有若干个支撑点(241),若干个所述支撑点(241)突出于所述传送带(24)的上表面,且若干个所述支撑点(241)的顶点在同一平面上,所述平面与所述传送带(24)平行;所述支撑点(241)是用硅胶或者橡胶制成的,且硬度大于等于邵氏HA10小于等于邵氏HA60。
4.根据权利要求3所述的等离子清洗设备,其特征在于:所述等离子发生装置(3)包括等离子发射器(31)、等离子发生头(32)以及连接等离子发射器(31)和等离子发生头(32)的连接管,所述等离子发生头(32)是通过移动系统(4)实现移动的。
5.根据权利要求4所述的等离子清洗设备,其特征在于:所述移动系统(4)包括直线导轨副、位于直线导轨(411)之间的第二伺服电机(42)、由第二伺服电机(42)驱动的连接丝杆(43)、以及移动平台(44),所述移动平台(44)同时与所述连接丝杆(43)和滑块固定连接,所述等离子发生头(32)设在所述移动平台(44)上。
6.根据权利要求3、4或5所述的等离子清洗设备,其特征在于:所述等离子发生头(32)的处理宽幅为大于等于35mm小于等于65mm。
7.根据权利要求3、4或5所述的一种等离子清洗设备,其特征在于:所述等离子发生装置(3)的气源是压缩空气。
8.根据权利要求3、4或5所述的等离子清洗设备,其特征在于:所述传送带(24)是由防静电的材料制作的。
9.根据权利要求3、4或5所述的等离子清洗设备,其特征在于:所述机体(11)上还设有用于散热的散热口(101)。
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