CN104849957A - 一种带有纳米尺度通道的su-8胶电液动力射流喷针制造方法 - Google Patents
一种带有纳米尺度通道的su-8胶电液动力射流喷针制造方法 Download PDFInfo
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Abstract
一种制备带有纳米尺度通道的SU-8胶电液动力射流喷针的热压印-紫外曝光制造方法,采用两次PDMS浇注和氧等离子体处理方法,制造出镶嵌掩膜胶片的微纳复合尺度PDMS模具。然后在硅片上光刻出BP212牺牲层,蒸镀一层Al作为掩蔽层,并旋涂SU-8胶。利用微纳复合尺度PDMS模具,采用热压印和正向紫外曝光方法制造出带有纳米尺度沟道的SU-8胶喷针。键合后去除Al掩蔽层和BP212牺牲层,使SU-8胶喷针针尖前部悬空,形成前部悬空的带有纳米尺度通道的SU-8胶喷针。本发明制作工艺简单、成本低、工艺重复性好并且容易实现。
Description
技术领域
本发明涉及微机电研究领域,特别是涉及一种基于热压印-紫外曝光技术的电液动力射流喷针制造方法。
背景技术
纳米结构器件能够在生物、化学和电子学领域得到广泛应用,主要依靠具有灵活简单,低成本和实用性的纳米结构制造技术。电液动力射流(Electrohydrodynamic-jet,EHD-jet)打印是一种使用溶液直接印写微/纳米图形的技术,具有按需增材、低成本高分辨率、大面积快速柔性制造优点。电液动力射流打印技术采用电场力,驱动液体墨水流过电液动力射流喷针产生射流,实现在基底上直接印写图形。电液动力射流具有尺度效应,打印分辨率主要取决于喷针内径尺度,随着喷针内径尺度的减小打印分辨率可以得到提高。所以通过缩小喷孔直径,就有可能获得更高分辨率打印,最终实现100nm以下图形高分辨率直写打印。
目前,几乎所有电液动力射流打印都使用石英玻璃喷针,石英玻璃喷针是通过加热拉伸方法获得的。由于拉伸过程中喷针内径尺寸难以控制,而且容易破碎,因此制造100nm以下带有纳米尺度通道的石英喷针十分困难。聚合物喷针是近几年提出的一种用于电液动力电喷雾电离的喷针。通过采用传统紫外光刻工艺,能够在光敏聚合物上形成微米尺度通道的喷针。该制造方法工艺灵活,成本低,不容易损坏,但是由于受到紫外光衍射极限的制约,喷针通道尺寸仅为微米尺度。
从以上的分析中可以看出,如何制造通道尺寸更小、价格更低廉的电液动力射流喷针已成为获取更高打印分辨率(100nm以下)亟待解决的问题。为解决这一问题,本专利提出一种新颖的电液动力射流喷针制造方法,采用镶嵌掩膜胶片的微纳复合尺度PDMS模具,利用热压印和正向紫外曝光技术,采用Al掩蔽层和BP212牺牲层制作纳米尺度沟道SU-8喷针悬空针尖,最终制造出100nm以下纳米尺度通道SU-8胶电液动力射流喷针。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于,针对以往电液动力射流喷针加工困难、制造成本高、不能制造100nm以下纳米通道喷针问题,提出一种基于镶嵌掩膜胶片的微纳复合尺度PDMS模具,采用热压印和正向紫外曝光技术的电液动力射流喷针制造方法。
本发明采用的技术方案包括以下步骤:
(1)镶嵌掩膜胶片的微纳复合尺度PDMS模具加工
采用两次PDMS浇注技术制造微纳复合尺度PDMS模具。首先将PDMS浇注到经过表面改性后的二维纳米硅模具上。经过抽真空和热固化,形成带有纳米尺度图形的第一层PDMS。将带有微米尺度图形的掩膜胶片和第一层PDMS经过氧等离子处理后,经对准将掩膜胶片置于第一层PDMS上,然后浇注第二层PDMS,使掩膜胶片被封装在两层PDMS之间,形成微纳复合尺度PDMS模具。
(2)采用微纳复合尺度PDMS模具热压印和紫外固化制造纳米尺度沟道SU-8喷针
在硅片上旋涂一层紫外固化光刻胶,经过曝光显影制造出纳米尺度沟道喷针BP212牺牲层。然后利用热蒸发在牺牲层上蒸镀一层Al掩蔽层薄膜。在带有BP212牺牲层和Al掩蔽层薄膜的硅片上旋涂一层SU-8胶,前烘后利用步骤(1)得到的微纳复合尺度PDMS模具,在SU-8胶基底上热压印出纳米尺度沟道。然后从PDMS模具上方对SU-8胶进行紫外曝光,后烘后使微米尺度图形区域以外的SU-8胶固化,显影后形成带有纳米尺度沟道的SU-8喷针。
(3)采用Al掩蔽层和BP212牺牲层制作纳米尺度沟道SU-8喷针悬空针尖
在PDMS基底上旋涂一层SU-8胶,前烘后,形成纳米尺度沟道SU-8喷针的盖板。将纳米尺度沟道SU-8喷针的盖板和步骤(2)得到的带有纳米尺度沟道的SU-8喷针进行氧等离子体处理,处理后利用热压键合将纳米尺度沟道SU-8喷针的盖板和带有纳米沟道的SU-8喷针进行热压键合。紫外曝光、后烘并显影后,形成带有纳米通道的电液动力射流SU-8喷针。去除Al掩蔽层薄膜和牺牲层,使SU-8胶喷针前部悬空,再将SU-8胶喷针悬空部分以下的硅片切除后,最终形成前部悬空的带有纳米通道的SU-8胶喷针。
本发明采用两次PDMS浇注技术制造镶嵌掩膜胶片的微纳复合尺度PDMS模具,采用热压印和紫外曝光技术,在紫外固化光刻胶材料SU-8基底上制造出带有纳米沟道的喷针,利用氧等离子体辅助热压键合实现纳米沟道喷针键合,采用Al掩蔽层和BP212牺牲层制作纳米尺度沟道SU-8喷针悬空针尖,最终制作出纳米尺度通道尺寸在100nm以下的电液动力射流SU-8喷针。采用两次PDMS浇注技术可制造低成本微纳复合尺度PDMS模具。利用热压纳米压印和紫外曝光技术,可实现纳米通道尺寸小于100nm的低成本聚合物纳米喷针制造。本发明制作工艺简单、成本低并且容易实现。
附图说明
图1是纳米通道喷针的热压印-紫外曝光制造方法示意图。
图2是热压印-紫外曝光后带有纳米沟道的SU-8胶喷针结构示意图。
图3是键合去除牺牲层后悬空的带有纳米通道的SU-8胶喷针结构示意图。
图中:1二维硅纳米模具;2 PDMS;3带有微米尺度图形的掩膜胶片;4正胶BP212;5金属Al;6 SU-8胶;a第一层PDMS浇注;b放置微米掩膜板;c第二层PDMS浇注;d PDMS脱模;e BP212光刻和Al蒸镀;f旋涂SU-8胶;g热压印-紫外曝光SU-8胶;h SU-8胶后烘显影;i SU-8胶旋涂;j SU-8胶喷针键合;k去除PDMS;l Al和BP212腐蚀。
具体实施方式
下面结合技术方案和附图详细叙述本发明专利的具体实施方式。
图1是本发明纳米通道喷针热压印-紫外曝光制造方法示意图。
如图1所示,制作流程步骤如下:
(a)将深度宽度尺度均在100nm以下的二维纳米硅模具1通过标准清洗液清洗后,采用二甲基二氯硅烷改性,增加模具表面疏水性。然后浇注PDMS 2,第一层PDMS固化剂比例为5:1,浇注厚度控制在200μm到500μm之间。抽真空去除PDMS中的气泡后,将带有纳米尺度喷针图形的第一层PDMS固化,固化温度为40℃,固化时间为3小时;
(b)为增强第一层PDMS、胶片掩膜板和第二次PDMS的结合强度,将胶片掩膜板3和第一层PDMS用氧等离子体处理。然后将掩膜胶片的微米尺度图形和第一层PDMS上的纳米尺度图形进行对准,对准后将掩膜胶片置于第一层PDMS上;
(c)浇注第二层PDMS,第二层PDMS固化剂比例为10:1,PDMS厚度控制在1mm到2mm之间。利用抽真空去除PDMS中的气泡后,将镶嵌微米尺度图形掩膜胶片的第二层PDMS固化,固化温度为80℃,固化时间为1.5小时;
(d)将固化后的PDMS从二维纳米硅模具上揭下来,形成镶嵌掩膜胶片的微纳复合尺度PDMS模具;
(e)在新的2英寸硅片上旋涂一层紫外固化光刻胶BP212,在紫外光刻、显影后形成光刻胶台阶4,作为电液动力射流喷针针尖的牺牲层。利用热蒸发蒸镀一层Al掩蔽层薄膜5,用于防止SU-8在显影过程中显影液对BP212进行腐蚀;
(f)旋涂一层紫外固化光刻胶SU-85,并进行前烘,前烘温度为85℃,前烘时间为30min;
(g)利用步骤(a)至(d)制造的镶嵌掩膜胶片的微纳复合尺度PDMS模具,对步骤(f)中的SU-8胶基底进行热压,热压温度为85℃,热压压力为0.2MPa,热压时间为20min。热压后从微纳复合尺度PDMS模具上方对SU-8进行紫外曝光,并进行后烘,后烘温度为85℃,后烘时间为1.5min;
(h)对步骤(g)制造出的SU-8胶结构进行显影,显影时间为1.5min,显影后形成一种微纳复合尺度沟道的SU-8胶喷针(如说明书附图2所示),SU-8胶喷针纳米尺度沟道深度和宽度均在100nm以下,其纳尺度沟道由热压印和紫外固化形成,微尺度沟道由紫外光刻固化显影形成。
(i)在PDMS基底上旋涂一层SU-8胶,形成纳米尺度沟道SU-8喷针的盖板。为保证SU-8胶平整度和键合效果,前烘温度采用60℃,前烘时间采用1.5h。SU-8喷针盖板厚度控制在10μm到15μm之间;
(j)将步骤(h)得到的带有纳米尺度沟道SU-8喷针与步骤(i)得到的纳米尺度沟道SU-8喷针盖板进行氧等离子体处理,氧等离子体处理后将带有纳米尺度沟道的SU-8胶喷针与纳米尺度沟道SU-8喷针盖板进行热压键合,热压键合温度为50℃,热压键合压力为0.2MPa,热压键合时间为5min;
(k)揭掉纳米尺度沟道SU-8喷针盖板上的PDMS基底,将SU-8胶盖板与带有纳米尺度沟道的SU-8胶喷针针尖基底端面对准,紫外光刻曝光,经后烘显影,后烘温度为85℃,后烘时间为1.5min,显影时间为1.5min,形成一个整体平滑的带有盖板封闭通道的SU-8胶喷针针尖端面;
(l)将步骤(k)得到的带有纳米尺度通道的SU-8胶喷针,先浸入到NaOH溶液中,腐蚀步骤(e)中形成的Al掩蔽层薄膜。然后浸入到丙酮中,腐蚀步骤(e)中制造的BP212牺牲层。腐蚀Al掩蔽层薄膜和BP212牺牲层后,SU-8胶喷针针尖前部悬空,将SU-8胶喷针针尖悬空部分以下的硅片切除,最终形成前部悬空带有纳米尺度通道的SU-8胶喷针(如说明书附图3所示)。
凡是利用本发明及附图内容的等效结构或等效工艺流程,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (9)
1.一种带有纳米尺度通道的SU-8胶电液动力射流喷针制造方法,其特征如下:
(1)采用两次PDMS浇注技术制造微纳复合尺度PDMS模具
首先将PDMS浇注到经过表面改性后的二维纳米硅模具上;经过抽真空和热固化,形成带有纳米尺度图形的第一层PDMS;将带有微米尺度图形的掩膜胶片和第一层PDMS经过氧等离子处理后,经对准将掩膜胶片置于第一层PDMS上,然后浇注第二层PDMS,使掩膜胶片被封装在两层PDMS之间,形成微纳复合尺度PDMS模具;
(2)采用微纳复合尺度PDMS模具热压印和紫外固化制造纳米尺度沟道SU-8喷针
在硅片上旋涂一层紫外固化光刻胶,经过曝光显影制造出纳米尺度沟道喷针BP212牺牲层;然后利用热蒸发在牺牲层上蒸镀一层Al掩蔽层薄膜;在带有BP212牺牲层和Al掩蔽层薄膜的硅片上旋涂一层SU-8胶,前烘后利用步骤(1)得到的微纳复合尺度PDMS模具,在SU-8胶基底上热压印出纳米尺度沟道;然后从PDMS模具上方对SU-8胶进行紫外曝光,后烘后使微米尺度图形区域以外的SU-8胶固化,显影后形成带有纳米尺度沟道的SU-8喷针;
(3)采用Al掩蔽层和BP212牺牲层制作纳米尺度沟道SU-8喷针悬空针尖
在PDMS基底上旋涂一层SU-8胶,前烘后,形成纳米尺度沟道SU-8喷针的盖板;将纳米尺度沟道SU-8喷针的盖板和步骤(2)得到的带有纳米尺度沟道的SU-8喷针进行氧等离子体处理,处理后利用热压键合将纳米尺度沟道SU-8喷针的盖板和带有纳米沟道的SU-8喷针进行热压键合;紫外曝光、后烘并显影后,形成带有纳米通道的电液动力射流SU-8喷针;去除Al掩蔽层薄膜和牺牲层,使SU-8胶喷针前部悬空,再将SU-8胶喷针悬空部分以下的硅片切除后,最终形成前部悬空的带有纳米通道的SU-8胶喷针。
2.根据权利要求1所述的一种带有纳米尺度通道的SU-8胶电液动力射流喷针制造方法,其特征在于,在聚合物材料上形成一种微纳复合尺度沟道喷针结构,其纳尺度沟道的宽度和深度均小于100nm,由热压印和紫外固化形成,微尺度沟道由紫外光刻固化显影形成。
3.根据权利要求1或2所述的一种带有纳米尺度通道的SU-8胶电液动力射流喷针制造方法,其特征在于,采用热压-紫外光刻制造带有纳米尺度沟道的SU-8胶喷针针尖基底端面,键合SU-8胶盖板后,将SU-8胶盖板与带有纳米尺度沟道的SU-8胶喷针针尖基底端面对准,紫外光刻曝光,经后烘显影,形成一个整体平滑的带有盖板封闭通道的SU-8胶喷针针尖端面。
4.根据权利要求3所述的一种带有纳米尺度通道的SU-8胶电液动力射流喷针制造方法,其特征在于,制造镶嵌掩膜胶片的微纳复合尺度PDMS模具过程中,带有纳米尺度喷针图形的第一层PDMS固化剂比例为5:1,浇注厚度控制在200μm到500μm之间;镶嵌微米尺度图形掩膜胶片的第二层PDMS固化剂比例为10:1,PDMS厚度控制在1mm到2mm之间。
5.根据权利要求1或4所述的一种带有纳米尺度通道的SU-8胶电液动力射流喷针制造方法,其特征在于,制造镶嵌掩膜胶片的微纳复合尺度PDMS模具过程中,带有纳米尺度喷针图形的第一层PDMS固化温度为40℃,固化时间3小时;镶嵌微米尺度图形掩膜胶片的第二层PDMS固化温度为80℃,固化时间1.5小时。
6.根据权利要求5所述的一种带有纳米尺度通道的SU-8胶电液动力射流喷针制造方法,其特征在于,采用金属Al掩蔽层保护SU-8胶悬空针尖下面的BP212牺牲层,防止SU-8胶悬空针尖下面的牺牲层在SU-8胶显影过程中被显影液腐蚀。
7.根据权利要求5所述的一种带有纳米尺度通道的SU-8胶电液动力射流喷针制造方法,其特征在于,在腐蚀Al薄膜和SU-8胶悬空针尖下面的BP212牺牲层后,SU-8胶喷针前部悬空,将SU-8胶喷针悬空部分以下的硅片切除,最终形成喷针前部悬空的带有纳米通道的SU-8胶喷针。
8.根据权利要求6或7所述的一种带有纳米尺度通道的SU-8胶电液动力射流喷针制造方法,其特征在于,形成纳米尺度沟道SU-8喷针的SU-8胶盖板厚度为10μm到15μm之间。
9.根据权利要求1或6或7所述的一种带有纳米尺度通道的SU-8胶电液动力射流喷针制造方法,其特征在于,金属Al可被替换成Cu、Cr、Au和Ni;正胶BP212可被替换成AZ701、AZ703和聚酰亚胺。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
EXSB | Decision made by sipo to initiate substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |