CN104798019A

CN104798019A - 导电基板及制造该导电基板的方法

Info

Publication number: CN104798019A
Application number: CN201380060708.XA
Authority: CN
Inventors: 黄智泳; 成知玹
Original assignee: LG Chemical Co Ltd
Current assignee: LG Corp
Priority date: 2012-11-30
Filing date: 2013-12-02
Publication date: 2015-07-22
Anticipated expiration: 2033-12-02
Also published as: US20160291709A1; KR101504840B1; CN104798019B; KR20140070489A; WO2014084696A1; US9715289B2

Abstract

根据本发明的一种制备导电基板的方法，包括：1)在基板上形成导电图案；2)通过进行电镀在所述导电图案上的至少一部分区域形成第一暗化层；以及3)通过将所述导电图案浸渍到氧化剂溶液中而在所述导电图案上的至少一部分区域形成第二暗化层。

Description

导电基板及制造该导电基板的方法

技术领域

本申请要求享有于2012年11月30日向韩国知识产权局提交的申请号为10-2012-0138371的韩国专利申请的优先权，其公开内容以整体引用的方式并入本文中。

本发明涉及一种导电基板及制备该导电基板的方法。

背景技术

一般而言，触摸屏可根据信号的检测方式而分类如下。即，在对其施加直流电压时，通过压力按压，凭借电流值或电压值的变化感测位置的电阻型；在对其施加交流电压时，利用电容耦合的电容型；在对其施加磁场时，随电压变化感测选定位置的电磁型等。

发明内容

[技术问题]

本领域需要开发用以改善各个类型的触摸屏性能的技术。在此情况下，在不采用现有的氧化铟锡(ITO)而采用细金属线用于技术开发的模式的情况下，存在由于金属的高反射率而能看清其图案的问题。

[技术方案]

本发明提供一种制备导电基板的方法，包括：

1)在基板上形成导电图案；

2)通过进行电镀在所述导电图案上的至少一部分区域形成第一暗化层；以及

3)通过将所述导电图案浸渍到氧化剂溶液中而在所述导电图案上的至少一部分区域形成第二暗化层。

此外，本发明提供一种通过制备导电基板的方法而制备的导电基板。

此外，本发明提供一种导电基板，包括：

基板；

导电图案，其设置于所述基板上且包含电连接区域和电绝缘区域；

第一暗化层，其设置于所述电连接区域上；和

第二暗化层，其设置于所述电绝缘区域上。

此外，本发明提供一种包含所述导电基板的触摸屏。

另外，本发明提供一种包含所述触摸屏的显示器。

[有益效果]

根据本发明，在包含设置于有效屏幕部分的导电图案的触摸屏中，将暗化层引入到所述导电图案的可视面以防止所述导电图案的反射而不影响所述导电图案的导电性，且额外引入了所述可视面的侧边暗化层以提高暗化程度，因而改善了所述导电图案的隐蔽。另外，通过引入上述的暗化层而可以进一步提高触摸屏的对比特性。

附图说明

图1和2为示意性图示了根据本发明的示例性的实施方式的导电基板的图。

图3为图示了根据本发明的示例性的实施方式的用于测量反射率的装置的构造和设计的图。

具体实施方式

下文中，将更加详细地描述本发明。

一般来说，触摸屏采用的是基于ITO的导电膜，但存在的问题是，当将ITO应用于大面积的触摸屏时，由于本身的RC延迟而识别速度较低。为了解决这个问题，进行了引入额外的补偿芯片的尝试，但又有价格上涨的问题。为了解决这个问题，许多公司正在开发通过采用金属图案以取代ITO导电膜的技术。然而，这个技术的缺点是，在采用了普通的单一金属的情况下，由于金属的高反射率，就可见性而言，人眼能很好地看清图案，且由于相对于外界光的高的反射和雾度值，还可能会产生眩光。

因此，本发明的发明人已经进行了能够改善触摸屏中的导电图案的可见性和外界光的反射特征的研究，所述触摸屏包含设置于有效屏幕部分的导电图案，所述触摸屏与在相关领域中采用基于ITO的导电膜的触摸屏不同。

此外，在相关领域的产品(如PDP滤光器)中采用的暗化技术可通常分为三种类型。一种方法是通过运用金属的导电特征来进行的电镀法，此方法的缺点是，在所述方法中可赋予暗化层本身导电性，而切断电(electrically cut)的部分没有电镀上。另一种方法是通过氧化金属的表面来得到暗化的方法，此方法的缺点是，由于不论是否切断电特性都可进行暗化，但氧化物膜是形成在暗化部分中，因此，对应的部分可能不会导电。最后一种方法是无电镀法，此方法的缺点是，由于需要无电镀的预处理，所述无电镀法可能不适用于小厚度的薄膜，再者，还需要用以延长较低的无电镀时间的额外预处理步骤以及相当于无电镀的晶种的层。

为了克服所述缺点，可以提供了一种通过电镀来暗化全部的金属的方法，在此情况下，存在的缺点是，在采用细金属线的触摸屏的实际制备过程中，与所述细金属线电连接的部分和与所述细金属线电绝缘的部分共存，因此，当应用电镀时，不可能暗化电绝缘的部分。此外，当应用金属的氧化时，存在的缺点是，由于通过采用如柔性印刷电路板(FPCB)的部件而与其它装置相连接的部分的表面的氧化，最终可能不会实现电连接。

因此，为了解决上述问题，本发明是致力于提供一种通过混合电镀法和金属的氧化方法来暗化设置于基板上的导电图案的方法。

根据本发明的示例性的实施方式的一种制备导电基板的方法，包括：1)在基板上形成导电图案；2)通过进行电镀在所述导电图案上的至少一部分区域形成第一暗化层；以及3)通过将所述导电图案浸渍到氧化剂溶液中而在所述导电图案上的至少一部分区域形成第二暗化层。

在本发明中，所述暗化层并非指的是设置成暗化层的层的颜色或吸光率本身显示黑色，而指的是当所述暗化层被构成导电层的金属和由所述金属构成的图案层压时，由于反射率和光吸收特征而使得具有暗化了看到的颜色的特性的层。

在本发明中，在包含设置于有效表面部分的导电图案的触摸屏中，发现所述导电图案的光反射主要影响着导电图案的可见性，而本发明是致力于改善此问题而做出的。详细的说，在现有的基于ITO的触摸屏中，由于所述ITO本身的高透明度，由于导电图案的反射的问题不会明显显现，但发现导电图案的反射性和光吸收特征对在包含设置于有效屏幕部分的导电图案的触摸屏中的线条的察觉发挥了关键的影响。

详细地说，当暗化层粘附于具有高反射率的层(如导电图案)时，所述暗化层在特定的厚度条件下具有相消性干涉和自身光吸收性，因而通过类似地调节所述暗化层上的光反射和穿过所述暗化层的所述导电图案的光反射，与此同时，在所述特定的厚度条件下，也引导了两种光之间的相消性干涉，而展现出通过所述导电图案降低反射率的效果。在此情况下，所述暗化层优选具有比所述导电图案低的反射率。由此，相较于使用者直接观看所述导电图案的情况，可降低光的反射率，因此，所述导电图案的可见性可大大降低。

在本发明中，所述基板的材料可根据需要应用根据本发明的导电基板的领域适当选择，作为其优选的实例，有玻璃或无机材料基板、塑料基板或膜，但所述材料不限于此。

所述导电图案可包括通过导电金属线形成的图案，优选所述导电图案的材料具有优异的导电性且易于蚀刻。

一般而言，所述具有优异导电性的材料所具有的缺点是反射率高。然而，在本发明中，通过采用所述暗化层，使得采用所述具有高反射率的材料可以形成所述导电图案。在本发明中，即使采用具有70-80％的总反射率的材料，通过所述暗化层，可以降低总反射率，降低所述导电图案的可见性，以及保持或提高对比特性。

所述导电图案的材料的具体实例优选包含含有金、银、铝、铜、钕、钼、镍或它们的合金的单层膜或多层膜。在这里，所述导电图案的厚度不作特别的限定，但从所述导电图案的导电性和其形成过程的经济效益而言，优选为0.01-10μm。

在本发明中，所述导电图案可包含电连接区域和电绝缘区域，所述第一暗化层可形成于所述电连接区域上，所述第二暗化层可形成于所述电绝缘区域上。

所述第一暗化层和第二暗化层优选具有接近无色的颜色。然而，所述颜色并非必须为无色，且即使所述暗化层具有颜色，只要所述层具有低反射率，也可引入所述层。在此情况下，所述无色指的是当入射在物体表面上的光不被选择性地吸收，而关于每个组成的波长均被均匀地反射和吸收时所呈现的颜色。在本发明中，所述第一暗化层和第二暗化层优选采用当在可见光区域400-800nm测量总反射率时，具有50％或更小的每个波段的总反射率的标准偏差的材料。

所述第一暗化层和第二暗化层的材料为光吸收材料，当形成整个表面层时，只要所述材料由具有上述物理性质的金属、金属氧化物、金属氮化物或金属氮氧化物制得，可优选采用所述材料而不受特别限制。例如，所述暗化层可以是包含Ni、Mo、Ti、Cr、Al、Cu、Fe、Co、V、Au、Ag等的氧化物膜、氮化物膜、氮氧化物膜、碳化物膜、金属膜和它们的组合物。

在本发明中，所述第一暗化层可通过电镀形成。作为示例性的实施方式，当所述导电图案包含Cu时，所述电镀可通过采用Ni、Cr等进行，因此，当形成所述第一暗化层时，在随后工序的粘结柔性印刷电路板(FPCB)时，在电连接部件中不会引起问题。这是因为所述电镀是通过采用用于电镀的电极衬垫部分进行的，在此情况下，电镀不会在衬垫部分进行。此外，在所述导电图案包含Cu的情况下，在顾及环境方面时，所述电镀优选通过Ni进行。

在本发明中，所述第二暗化层可通过如下方式形成：形成所述第一暗化层，接着将所述第一暗化层浸渍到氧化剂溶液中。作为氧化剂溶液，可采用任意材料而不受限制，只要所述材料可将构成所述导电图案的金属氧化和暗化。更详细地说，可采用NaOH等，但所述材料不限于此。

作为根据本发明的示例性的实施方式，当所述导电图案包含Cu时，所述第一暗化层通过Ni的电镀来形成，所述第二暗化层通过在NaOH中的浸泡来形成，所述第一暗化层的Ni不会与NaOH反应，而仅所述导电图案未被电镀处的电绝缘部分与NaOH反应，因而实现暗化。由于所述电绝缘部分与电连接不相干，故形成绝缘层而不受氧化的干扰。

在本发明中，当所述导电图案包含Cu时，总体而言，在电镀的情况下，暗化材料额外地设置于Cu上，而当使用氧化时，Cu本身转变为CuO，因此，根据所述导电基板的横截面的形状的面积轻微地出现厚度差异，以及在中间产物的情况下，可能存在用于电镀的额外的衬垫区域。

在本发明中，所述方法进一步包括在所述基板上的导电图案的形成之前，在所述基板上形成第三暗化层。即所述暗化层首先形成于所述基板上，沉积并图案化用于所述导电图案的金属，接着可形成所述第一暗化层和第二暗化层。如上所制得的导电基板可包括在所述导电图案的四个平面上的暗化层。

所述第三暗化层可通过如下方式形成：采用沉积法(例如，方法如溅射法、CVD(化学气相沉积)法、热蒸发法和电子束沉积法)形成第三暗化层，接着图案化所述第三暗化层。特别是，在采用溅射法的情况下，所述第三暗化层图案的柔韧性能很优异。在热蒸发法和电子束沉积法中，粒子简单的堆积在一起，但所述溅射法的特征是，通过碰撞所述粒子形成晶核，且即使所述晶核生长并弯曲，机械性能依然优异。此外，在使用溅射法的情况下，所述第三暗化层图案与其它层之间的界面粘结力优异。通过采用如上所述的沉积法，在不使用粘合层或粘合剂层的情况下，所述第三暗化层图案可直接形成于所述基板上，且可实现所需的厚度和所需的图案形状。

此外，所述第三暗化层也可通过光刻法或印刷法形成。

所述第三暗化层可直接设置于所述基板上而不需要插入所述粘合层或粘合剂层。所述粘合层或粘合剂层可影响耐久性或光学性质。即根据本发明的制备所述第三暗化层的方法完全不同于相关领域中的通过使用粘合层或粘合剂层在所述基板上形成暗化层的情形。再者，当与使用了粘合层或粘合剂层的情况相比，在本发明中，所述基板或导电图案与所述第三暗化层图案的界面性质很优异。

此外，本发明提供一种通过用于制备所述导电基板的方法制备的导电基板。

此外，根据本发明的导电基板包括：基板；导电图案，其设置于所述基板上且包含电连接区域和电绝缘区域；第一暗化层，其设置于所述电连接区域上；以及第二暗化层，其设置于所述电绝缘区域上。

在根据本发明的导电基板中，由于所述基板、导电图案、第一暗化层和第二暗化层的成分与如上所述的相同，其详细描述将予以省略。

在本发明中，所述第一暗化层或第二暗化层可设置于所述导电图案的上表面和侧边的至少一部分上。

在本发明中，包含所述导电图案和第一暗化层的层的厚度可不同于包含所述导电图案和第二暗化层的层的厚度。特别的，所述第二暗化层和具有所述第二暗化层的导电图案的厚度的总和可小于与具有所述第一暗化层的导电图案的厚度。

在本发明中，除了与所述基板相接触的导电图案的表面之外，所述第一暗化层可与所述导电图案的剩余表面的至少一部分相接触。此外，所述第二暗化层的照度可为200nm或更多，但不限于此。

所述第一暗化层和第二暗化层可包含不同的材料。

此外，具有所述第一暗化层的导电图案的厚度可以是2μm或更多，但不限于此。

在用于形成根据本发明的导电基板的原始基板材料中，在由所述第一暗化层或第二暗化层与导电图案构成的图案区域的颜色范围(其是在看得到所述导电基板的第一暗化层或第二暗化层的表面上测量的)内，基于CIE LAB颜色坐标，L值可以是20或更少、A值可以是-10至10以及B值可以是-70至70；L值可以是10或更少、A值可以是-5至5以及B值可以是0至35；或者L值可以是5或更少、A值可以是-2至2以及B值可以是0至15。

基于550nm，由所述第一暗化层或第二暗化层与导电图案构成的图案区域的总反射率(其是在看得到所述导电基板的第一暗化层或第二暗化层的表面上测量的)可以是17％或更少、10％或更少、5％或更少。

所述总反射率是通过利用黑色糊浆、胶带等将待测平面(就用于测量反射率的平面来说)的相反面的反射率设置为0，然后仅测量待测表面的反射率而观测到的值，在此情况下，采用了最类似于环境光条件的漫反射光源作为输入光源。此外，在此情况下，测定所述反射率的位置基于与积分球的半球的水平线相倾斜约7°的位置。图3图示了用于测量反射率的装置的构造和设计。

作为本发明的示例性的实施方式，在通过层压两块导电基板(其中所述第一暗化层、第二暗化层和导电图案通过采用光学透明胶(optically cleared adhesive,OCA)的图案化过程而形成)，接着将所述导电基板层压于钢化玻璃上制得的触摸屏中，在具有89％透明度的基准样品中，所述总反射率可以是6％或更少，或6％、5％或4％。

在这里，透明度与总反射率具有相互关系，所述相互关系为所述总反射率随着所述透明度的下降而升高，因此，所述图案存在时的一种基板的透明度与总反射率之间的关系式将在以下方程式1和方程式2中予以描述。

[方程式1]

基板的透明度＝基板本身的透明度×开口面积比

[方程式2]

基板的总反射率＝基板本身的反射率×开口面积比+金属本身的总反射率×金属线遮盖的面积比

在此情况下，所述基板本身的反射率指的是没有细金属线存在时的基板的反射率。

此外，所述基板本身的透明度的关系式将在以下方程式3中予以描述。

[方程式3]

基板本身的透明度＝100-基板本身的反射率-基板本身的吸光率

因此，所述图案存在时的所述总反射率与所述透明度之间的相互关系将在以下方程式4中予以描述。

[方程式4]

总反射率＝(100-基板本身的透明度-基板本身的吸光率)×开口面积比+金属本身的总反射率×金属线遮盖的面积比

在此情况下，所述开口面积比与所述遮盖的面积比的总和为1。

因此，上述方程式4可描述为以下方程式5。

[方程式5]

总反射率＝(100-基板本身的透明度-基板本身的吸光率)×(基板的透明度/基板本身的透明度)+金属本身的总反射率×(1-基板的透明度/基板本身的透明度)

因此，所述总反射率具有所述总反射率随着所述基板的透明度的升高而降低的线性关系。

在根据本发明的触摸屏中，所述第一暗化层或第二暗化层包含与所述导电图案接触的第一表面和面对所述第一表面的第二表面，当在所述第一暗化层或第二暗化层的第二表面处测量所述导电基板的总反射率时，所述导电基板的总反射率Rt可通过以下方程式6计算。

[方程式6]

采用一种基板的触摸窗口的总反射率Rt＝触摸钢化玻璃的反射率+裸露基板的反射率(当表面为薄膜时，薄膜的反射率)×开口率+暗化层的反射率×遮盖率

另外，在所述触摸屏的构造中层压两种导电基板的情况下，所述导电基板的总反射率(Rt)可通过以下方程式7计算。

[方程式7]

总反射率Rt＝触摸钢化玻璃的反射率+两层裸露基板的层压结构的反射率(当表面为薄膜时，薄膜的反射率)×开口率+两种带有图案的基板的层压结构的遮盖率×暗化层的反射率

因此，所述第一暗化层或第二暗化层存在的情况与所述第一暗化层或第二暗化层不存在的情况之间的差异取决于所述第一暗化层或第二暗化层的反射率，从这个观点来看，与除了不存在所述第一暗化层或第二暗化层之外，具有相同结构的导电基板的总反射率R0相比，所述总反射率可下降15-20％、20-30％或30-50％。实际上，由于存在所述暗化层和导电图案，所述效果使得产品具有比采用无图案的裸露基板和待应用的导体的层压结构更低的反射率。然而，与除了不存在如上所述的暗化层之外，具有相同结构的导电基板的总反射率R0相比，以约88％透明度为基准，降低效果从最大值约50％的反射率下降至最小值15％。

在根据本发明的触摸屏中，所述第一暗化层或第二暗化层包含与所述导电图案接触的第一表面和面对所述第一表面的第二表面，当在所述第一暗化层或第二暗化层的第二表面处测量所述导电基板的总反射率时，所述导电基板的总反射率Rt与所述基板的总反射率R0之间的差异可以是50％或更小、30％或更小、20％或更小或10％或更小。

在根据本发明的触摸屏中，所述触摸屏可进一步包括设置于所述导电基板一侧的基板，当在所述基板侧测量设置于所述导电基板上的所述基板的总反射率时，所述基板的总反射率的差异可以是50％或更小、30％或更小、20％或更小或10％或更小。

在这里，所述总反射率代表包含所述第一暗化层和第二暗化层的触摸屏本身的总反射率。

在本说明书中，当入射光为100％时，所述总反射率优选为以光入射的目标层或层压结构上反射的反射光中的波长550nm的值为基础测得的值，这是因为所述波长550nm的总反射率总的来说与整体总反射率的差异不是很大。例如，通过在所述基板上采用用于沉积构成所述暗化层的材料的方法(例如，溅射法、CVD(化学气相沉积)法、热蒸发法和电子束沉积法等)来形成整个表面的暗化层之后，可测得从大气入射的可见光(550nm)的反射率。在此情况下，在所述基板的背面上，即未形成所述暗化层的表面上，可通进行整个表面的黑化处理来去除所述所述基板的背面上的反射。作为所述基板，可采用透明基板，但所述基板不受特别限制，例如，可采用玻璃、塑料基板和塑料薄膜。

在根据本发明的触摸屏中，所述导电基板的雾度值可以是5％或更小、3％或更小或1％或更小。

由构成所述暗化层的材料制得的整个表面层的光吸收率不受特别限制，但可以是15％或更小、30％或更小或40％或更小。

此外，由构成所述暗化层的材料制得的整个表面层的光透过率不受特别限制，但可以是80％或更多以便于采用所述整个层作为触摸屏。

在本发明中，所述第一暗化层和第二暗化层设置于对应于所述导电图案的区域中。在这里，所述对应于所述导电图案的区域表示具有包含与所述导电图案相同形状的图案的区域。然而，所述第一暗化层和第二暗化层的图案比例不需要与所述导电图案完全相同，所述第一暗化层和第二暗化层的线宽小于或大于所述导电图案的线宽的情况也包含于本发明的范围内。例如，所述第一暗化层和第二暗化层可具有设置了所述导电图案的区域的80％至120％的面积。

所述第一暗化层和第二暗化层可具有线宽等于或大于所述导电图案的线宽的图案形状。

当所述第一暗化层和第二暗化层具有线宽大于所述导电图案的线宽的图案形状时，使用者观看时所述第一暗化层和第二暗化层可充分带来隐藏所述导电图案的效果，因而所述第一暗化层和第二暗化层中存在的优势为，可有效的阻拦所述导电图案本身的光泽或反射导致的影响。然而，尽管所述第一暗化层和第二暗化层的线宽与所述导电图案的线宽相同，也可实现本发明的预定效果。

在本发明中，所述导电图案的线宽可以是10μm或更小、0.1-10μm、0.2-8μm或1-5μm。所述导电图案的厚度可以是10μm或更小、2μm或更小或10-300nm。

所述导电图案的开口率，即不被所述图案所覆盖的区域的比例，可以是70％或更大、85％或更大和95％或更大。另外，所述导电图案的开口率可以为90％-99.9％，但不限于此。

所述导电图案可以是规则图案或不规则图案。

作为规则图案，可采用本领域的图案形状，比如网状图案。所述不规则图案不受特别限制，但也可以是由Voronoi图构成的图形的边界线形状。当在本发明中同时采用不规则图案和暗化层时，通过所述不规则图案可去除具有方向性的照射所导致的反射光的衍射图案，可通过所述暗化层最大程度的减小光的散射的影响，因此最大程度的减小了可见性的问题。

在本发明的示例性的实施方式中，所述导电图案为规则图案，且包含通过交叉构成所述导电图案的线条中的多个任意线条而形成的交叉点，并且在此情况下，交叉点的数目可以是在3.5cm×3.5cm的面积内为3,000至122,500、13,611至30,625和19,600至30,625。此外，根据本发明的示例性的实施方式，当所述导电图案设置于显示器上时，证实了在所述交叉点的数目为4,000至123,000的情况下，所述显示器的光学性能不会受到很大程度的损害。

此外，在本发明的示例性的实施方式中，所述导电图案为不规则图案，且包含通过交叉构成所述导电图案的线条中的多个任意线条而形成的交叉点，在此情况下，交叉点的数目可以是在3.5cm×3.5cm的面积内为6,000至245,000、3,000至122,500、13,611至30,625和19,600至30,625。此外，根据本发明的示例性的实施方式，当所述导电图案设置于显示器上时，证实了在所述交叉点的数目为4,000至123,000的情况下，所述显示器的光学性能不会受到很大程度的损害。

所述导电图案的节距可以是600μm或更小和250μm或更小，但本领域的技术人员可根据所需的透明度和导电性对所述节距进行调整。

用于本发明的导电图案优选电阻率为1×10⁶欧·cm至30×10⁶欧·cm，更优选为7×10⁶欧·cm或更小的材料。

在本发明中，所述导电基板的表面电阻可以是1-300欧/平方。上述范围内的表面电阻有利于所述触摸屏的运行。

根据本发明的示例性的实施方式的导电基板图示于图1和图2中。

除所述导电基板包括如上所述基板、导电图案、第一暗化层和第二暗化层的导电基板之外，根据本发明的触摸屏可进一步包含含有额外的暗化层的导电基板。在此情况下，以所述导电图案为中心，所述含有暗化层的导电基板可设置于不同的方向。可包含于本发明的触摸屏中的两层或更多导电基板不必具有相同的结构，任意一层且优选仅在最靠近使用者的一侧的所述导电基板可包含所述基板、导电图案和暗化层，所述额外包含的导电基板可不包含所述暗化层。

另外，在根据本发明的触摸屏中，所述导电图案和暗化层可设置于所述板的两个表面。

包含根据本发明的导电基板的触摸屏的总反射率可以是12％或更少、7％或更少、5％或更少或2％或更少。

在本发明中，所述第一暗化层通过电镀形成，使得在所述导电图案上沉积了额外的层，因此增加了所述薄膜的厚度。此外，就所述第二暗化层而言，由于暗化是通过现存的成形薄膜的氧化过程实现的，故所述第二暗化层与第一暗化层的差异在于事先成形的导电图案的厚度减小。即在本发明中，所述第一暗化层的厚度可大于所述第二暗化层的厚度。

在本发明中，根据暗化方法，所述第一暗化层与第二暗化层可在暗化程度上彼此不同。一般而言，由于通过氧化的暗化方法与通过电镀的暗化方法之间的差异，暗化程度上的差异可以是约为10％的反射率，但本发明不限于此。

除了导电图案形成于导电基板上的有效屏幕部分之外，根据本发明的触摸屏可进一步包含电极部分或衬垫部分，在此情况下，所述有效屏幕部分和电极部分/衬垫部分可以由相同的导体构成，并具有相同的厚度，使得它们之间不存在接合部分。

在根据本发明的触摸屏中，各个基板的一个表面上可设置有保护膜、偏光膜、减反射膜、防眩膜、耐指纹膜、低反射膜等。

此外，根据本发明的触摸屏包含所述导电基板。例如，在电容型触摸屏中，可采用根据本发明的示例性的实施方式的导电基板的主体作为触敏型电极基板。

根据本发明的示例性的实施方式的触摸屏可包含：下基板；上基板；以及设置于与所述上基板接触的下基板的表面和与所述下基板接触的上基板的表面中的任意一个表面或二者上的电极层。所述电极层可执行发射和接收用于识别X轴和Y轴位置的信号的功能。

在此情况下，设置于所述下基板和与所述上基板接触的下基板的表面上的电极层与设置于所述上基板和与所述下基板接触的上基板的表面上的电极层中的其一或二者可以是根据本发明的示例性的实施方式的导电基板。在仅有所述电极层的任意一个是根据本发明的示例性的实施方式的导电基板的情况下，另一个电极层可具有本领域公知的图案。

当电极层设置于所述上基板和下基板二者的一个表面上以形成具有两层的电极层时，可在所述下基板和上基板之间设置绝缘层或隔片以便于所述电极层之间是始终保持有间隔，且不会发生其二者之间的连接。所述绝缘层可包含粘合剂或者紫外线或热固化树脂。

所述触摸屏可进一步包含与连接至如上所述的导电图案的接地部分。例如，所述接地端子部分可形成于形成所述导电图案的基板的表面的边沿部分。此外，减反射膜、偏光膜和耐指纹膜中的至少一种可设置于包含所述导电基板的层压材料的至少一个表面上。除了上述根据设计要求的功能膜之外，还可以进一步包含多种类型的功能膜。触摸面板可应用于显示器，如OLED显示面板(PDP)、液晶显示器(LCD)、阴极射线管(CRT)和PDP。

另外，本发明提供一种包含所述触摸屏的显示器。所述显示器可包含上述触摸屏和显示组件。

根据本发明，其优点在于，可暗化全部三个显露所述导电图案(如金属)的表面，且相较于仅暗化显露于存在导电图案的表面上的一个表面的情况，当粘附一层膜以覆盖窗口时，所述导电图案的三个表面被暗化，在550nm反射率水平为7％的，结果，其特征为所述反射率下降至约4％。此外，根据本发明，由于通过氧化暗化了对应于虚拟图案的部分，故阻止了的电浮栅形成，因而提高了触摸性能。此外，存在的优点有，作为可应用于具有各种极大差异的图案中的技术，相较于现有的制备方法，侧边暗化可较为容易的实现。

下文中，本发明将参照实施例予以详述。然而，以下所列举的实施例仅用以说明本发明，但本发明的范围并不限于此。

<实施例>

通过溅射Cu或采用使用形成于事先出售的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)上的Cu层(Cu沉积膜，Toray公司制造)的反向胶版印刷方法(reverse offset process)进行了印刷。在此情况下，采用了2μm的Cu的厚度的膜。

进行了印刷之后，通过采用基于氯化铁的蚀刻溶液蚀刻对应的Cu材料，此后，在0.1A/m²、pH 4.2和65℃的条件下进行黑镍电镀。

此后，所形成的图案接受Melplate碱沉积脱脂溶液，并再在硫酸中缓慢接受微蚀刻，之后，用待暗化的Melplate暗化溶液浸渍。

根据本发明，在包含设置于有效表面部分的导电图案的触摸屏中，在导电图案的可视面引入了暗化层以防止所述导电图案的反射而不影响所述导电图案的导电性，且额外引入了所述显示面的侧边暗化层以提高暗化程度，因而改善了所述导电图案的掩蔽。另外，通过引入上述的暗化层可以进一步提高触摸屏的对比特性。

Claims

1.一种制备导电基板的方法，包括：

1)在基板上形成导电图案；

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述导电图案包含电连接区域和电绝缘区域，以及

所述第一暗化层形成于所述电连接区域上。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述导电图案包含电连接区域和电绝缘区域，以及

所述第二暗化层形成于所述电绝缘区域上。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述导电图案包含由导电金属线形成的图案。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述第一暗化层或所述第二暗化层包含选自金属、金属合金、金属氧化物、金属氮化物、金属氮氧化物和金属碳化物中的一种或多种。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述金属包括选自Ni、Mo、Ti、Cr、Al、Cu、Fe、Co、Ti、V、Au和Ag中的一种或多种。

7.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：

在所述基板上的导电图案的形成之前，在所述基板上形成第三暗化层。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述第三暗化层是通过沉积法、光刻法或印刷法在所述基板上形成的。

9.一种导电基板，其通过权利要求1至8中任一项所述的用于制备导电基板的方法制备。

10.一种导电基板，包括：

基板；

第一暗化层，其设置于所述电连接区域上；以及

第二暗化层，其设置于所述电绝缘区域上。

11.根据权利要求10所述的导电基板，其中，所述第一暗化层或第二暗化层设置于所述导电图案的上表面和侧边的至少一部分。

12.根据权利要求10所述的导电基板，其中，包含所述导电图案和第一暗化层的层的厚度不同于包含所述导电图案和第二暗化层的层的厚度。

13.根据权利要求10所述的导电基板，其中，除了与所述基板相接触的导电图案的表面之外，所述第一暗化层与所述导电图案的剩余表面的至少一部分相接触。

14.根据权利要求10所述的导电基板，其中，所述第二暗化层的照度为200nm或更多。

15.根据权利要求10所述的导电基板，其中，所述第一暗化层和第二暗化层包含不同的材料。

16.根据权利要求10所述的导电基板，其中，具有所述第一暗化层的导电图案的厚度为2μm或更多。

17.根据权利要求10所述的导电基板，其中，所述第二暗化层和具有所述第二暗化层的导电图案的厚度的总和小于具有所述第一暗化层的导电图案的厚度。

18.根据权利要求10所述的导电基板，进一步包括：

设置于所述基板与所述导电图案之间的第三暗化层。

19.根据权利要求10所述的导电基板，其中，在由所述第一暗化层或第二暗化层与导电图案构成的图案区域的颜色范围内，所述颜色范围是在看得到所述导电基板的第一暗化层或第二暗化层的表面上测量的，基于CIE LAB颜色坐标，L值为20或更少、A值为-10至10以及B值为-70至70。

20.根据权利要求10所述的导电基板，其中，基于550nm，由所述第一暗化层或第二暗化层与导电图案构成的图案区域的总反射率为17％或更少，所述总反射率是在看得到所述导电基板的第一暗化层或第二暗化层的表面上测量的。

21.根据权利要求10所述的导电基板，其中，所述导电基板的雾度值为5％或更小。

22.根据权利要求10所述的导电基板，其中，所述导电图案为规则图案或不规则图案。

23.根据权利要求10所述的导电基板，其中，所述导电图案为规则图案，且包含通过交叉构成所述导电图案的线条中的多个任意线条而形成的交叉点，且交叉点的数目在3.5cm×3.5cm的面积内为3,000至122,500。

24.根据权利要求10所述的导电基板，其中，所述导电图案为不规则图案，且包含通过交叉构成所述导电图案的线条中的多个任意线条而形成的交叉点，其交叉点的数目在3.5cm×3.5cm的面积内为6,000至245,000。

25.根据权利要求10所述的导电基板，其中，所述导电图案的线宽为10μm或更小，所述导电图案的厚度为10μm或更小，所述导电图案的节距为600μm或更小。

26.一种触摸屏，包含权利要求10所述的导电基板。

27.一种显示器，包含权利要求26所述的触摸屏。