CN104777649A - 显示基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

显示基板及其制备方法、显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN104777649A
CN104777649A CN201510191968.1A CN201510191968A CN104777649A CN 104777649 A CN104777649 A CN 104777649A CN 201510191968 A CN201510191968 A CN 201510191968A CN 104777649 A CN104777649 A CN 104777649A
Authority
CN
China
Prior art keywords
base plate
display base
correspond
pixel
region
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201510191968.1A
Other languages
English (en)
Inventor
尹炳坤
韩俊号
王文龙
操彬彬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201510191968.1A priority Critical patent/CN104777649A/zh
Publication of CN104777649A publication Critical patent/CN104777649A/zh
Priority to US15/096,371 priority patent/US9964801B2/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133553—Reflecting elements
    • G02F1/133555—Transflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133371—Cells with varying thickness of the liquid crystal layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133553—Reflecting elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136222—Colour filters incorporated in the active matrix substrate
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136227—Through-hole connection of the pixel electrode to the active element through an insulation layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/50—Protective arrangements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Geometry (AREA)

Abstract

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。该显示基板，包括多个像素区以及设置于相邻所述像素区边界区域的薄膜晶体管，每一所述像素区划分为透射区和反射区，所述薄膜晶体管的上方设置有保护层，所述保护层在对应着所述反射区的区域设置为凸起部，对应着所述薄膜晶体管的区域开设有过孔。该显示基板能有效避免漏光，还具有较好的色均匀度和显示亮度；而且，该显示基板的制备方法能节约工艺步骤，节省生产成本。

Description

显示基板及其制备方法、显示装置
技术领域
本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。
背景技术
目前，液晶显示装置(Liquid Crystal Display：简称LCD)以其优异的性能与成熟的技术成为市场上的主流产品。液晶显示装置根据光源类型加以分类，可以分为透射式(transmissive)、反射式(reflective)和半透半反式(transflective)。其中，半透半反式液晶显示装置综合了反射式液晶显示装置与透射式液晶显示装置的优点，既适于在室内使用，也适于在室外使用，因此在便携式移动电子设备中得到了广泛的应用。
现有的半透半反式液晶显示屏中，透射率和反射率相互牵制，透射率高反射率低，反之反射率高透射率低；同时由于反射光与透射光的光程差异，造成反射模式下的显示对比度下降；同时，现有的半透半反式液晶显示屏中采用对合工艺形成，制备工艺也较繁琐，还存在因对合偏差而造成漏光的缺点。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对现有技术中存在的上述不足，提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，该显示基板能有效避免漏光，还具有较好的色均匀度和显示亮度。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是该显示基板，包括多个像素区以及设置于所述像素区的薄膜晶体管，每一所述像素区划分为透射区和反射区，所述薄膜晶体管的上方设置有保护层，所述保护层在对应着所述反射区的区域设置为凸起部，对应着所述薄膜晶体管的区域开设有过孔。
优选的是，所述凸起部的上方还设置有色阻层，所述色阻层还延伸至所述透射区，且所述色阻层对应着所述透射区的厚度为对应着所述反射区的厚度的两倍。
优选的是，对应着所述保护层的凸起部和所述色阻层之间还设置有反射层。
优选的是，所述色阻层的上方还设置有像素电极层，所述像素电极层与所述薄膜晶体管的漏极通过开设于所述保护层中的所述过孔电连接。
优选的是，所述保护层采用氮化硅材料或氧化硅材料形成。
优选的是，该所述显示基板中每四个像素区形成一个像素单元，每一所述像素单元包括红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素和白色子像素，红色子像素中的所述色阻层为红色，绿色子像素中的所述色阻层为绿色，蓝色子像素中的所述色阻层为蓝色。
一种显示基板的制备方法，该显示基板包括多个像素区以及设置于所述像素区的薄膜晶体管，每一所述像素区划分为透射区和反射区，该制备方法包括：采用一次构图工艺在所述薄膜晶体管的上方形成保护层，所述保护层在对应着所述反射区的区域形成凸起部，对应着所述薄膜晶体管的区域形成过孔。
优选的是，所述保护层采用多色调曝光工艺形成，其中：对应着形成所述凸起部的区域为不透光区，对应着形成所述过孔的区域为全透光区，其他区域为半透光区。
一种显示装置，包括上述的显示基板以及与所述显示基板相对设置的公共电极层。
优选的是，所述保护层的凸起部与所述反射层的厚度之和为对应着透射区的所述显示基板与所述公共电极层相对的表面之间的距离的一半。
本发明的有益效果是：该显示基板采用COA结构解决了现有技术中由彩膜基板和阵列基板因对盒偏差造成的漏光问题；同时解决了现有技术中半透半反显示面板中透射区与反射区色不均的问题，提高了反射模式下的显示对比度，使得该半透半反式显示面板在室内弱光透射及室外强光反射均能够实现均匀显示，可以较佳地实现在室内及室外的显示；同时，该显示基板采用RGBW四色型像素设计，改善了现有技术中半透半反显示面板透射率与反射率相互牵制开口率低的问题，极大的提升了透射区开口率，同时提高了像素显示亮度，从而实现较好的显示效果，还降低了能耗，节约了生产和使用成本；
该显示基板的制备方法，采用COA结构在形成薄膜晶体管上方的保护层的同时即形成用于保证反射区与透射区的光程差相等的凸起部，能节省工艺步骤，且使得形成的显示基板获得较佳的显示效果；
该显示装置具有良好的显示效果。
附图说明
图1为本发明实施例1中透射区与反射区的划分示意图；
图2为本发明实施例1中显示基板中一个像素的结构示意图；
图3为本发明实施例1中显示基板中一个像素单元的结构示意图；
图中：
1－透射区；2－反射区；
10－衬底；11－栅极；110－栅线；12－栅绝缘层；13－有源层；14－源极；140－数据线；15－漏极；16－保护层；160－凸起部；17－反射层；18－色阻层；19－像素电极层；20－公共电极层。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明显示基板及其制备方法、显示装置作进一步详细描述。
实施例1：
本实施例提供一种显示基板，该显示基板集成有彩色化的色阻层，相比现有技术中采用彩膜基板和阵列基板对合形成显示面板的方式，能节省对合工艺，保证像素对位的精确性，避免了因对合偏差造成的漏光问题；同时，该显示基板还采用了RGBW四色型像素显示方式，能较佳地保证像素显示亮度。
该显示基板包括多个像素区以及设置于像素区的薄膜晶体管，例如设置于相邻像素区边界区域的薄膜晶体管，如图1所示，每一像素区划分为透射区1和反射区2，薄膜晶体管的上方设置有保护层16；同时参考图2，保护层16在对应着反射区2的区域设置为凸起部160，对应着薄膜晶体管的区域开设有过孔。通过设置凸起部160，能使穿过该显示基板的透射区1和反射区2的光线形成匹配的光程差。也即，反射区2因保护层16在其对应区域的凸起部160，使得反射区2与透射区1的光程差一致，可以避免反射区与透射区的亮度差异。
如图2所示，透射区1和反射区2还设置有色阻层18，色阻层18对应着透射区1的厚度为对应着反射区2的厚度的两倍。容易理解的是，对应着保护层16的凸起部160和色阻层18之间还设置有反射层17。其中，反射金属为高反射率的金属材料，例如包括银或铝或铬，这里不做限定。
通过反射层17，将经过色阻层18进入显示基板内部的外部环境光反射回色阻层18，被反射的光线第二次经过色阻层18后进入人的视野，由于色阻层18对应着透射区1的厚度为对应着反射区2的厚度的两倍，因此能保证透射区1和反射区2获得相同的色度。
一般的，薄膜晶体管包括栅极、有源层、源极和漏极。本实施例中，在保护层对应着薄膜晶体管的区域开设的过孔对应着薄膜晶体管的漏极部位。如图2所示，色阻层18的上方还设置有像素电极层19，像素电极层19与薄膜晶体管的漏极15通过开设于保护层16中的过孔电连接。
优选的是，保护层16采用氮化硅SiNx材料或氧化硅SiOx材料形成，能起到较好的绝缘和衬垫作用。
在本实施例中，为了进一步提高像素显示亮度，如图3所示，该显示基板中每四个像素区形成一个像素单元，每一像素单元包括红色子像素R、绿色子像素G、蓝色子像素B和白色子像素W，红色子像素R中的色阻层为红色，绿色子像素G中的色阻层为绿色，蓝色子像素B中的色阻层为蓝色，白色子像素W部分可直接省略色阻层的制备。通过设置白色子像素W，可以对作为整体的像素单元的亮度进行较好的补偿和调节，有利于提升整体像素的透过率，减少色阻层对光的吸收，进一步避免反射区与透射区亮度差。
在本实施例中，保护层16在反射区2形成凸起部160，使得反射区2的厚度与透射区1的厚度相配合。采用该显示基板可以形成液晶面板，优选的是，保护层16的凸起部160与反射层17的厚度之和为对应着透射区1的显示基板与公共电极层20相对的表面之间的距离的一半，即保护层16的凸起部160与反射层17的厚度之和为液晶盒厚的一半，使得显示基板与公共电极层20形成液晶面板后，其中对应反射区2的盒厚能设置为对应透射区1的盒厚的一半，保证进入该液晶面板中透射区1与反射区2的光线的光程相等，保证透射区1和反射区2的色差较小以及色彩匹配。
由上述结构可见，本实施例中的显示基板为COA(Color FilterOn Array)结构，形成了能反射外界光实现反射显示的反射区以及透射背光源的光线实现透射显示的透射区，实现了半透半反功能，解决了现有技术中由彩膜基板和阵列基板因对盒偏差造成的漏光问题；同时解决了现有技术中半透半反显示面板中透射区与反射区色不均的问题，提高了反射模式下的显示对比度，使得该半透半反式显示面板在室内弱光透射及室外强光反射均能够实现均匀显示，可以较佳地实现在室内及室外的显示；同时，该显示基板采用RGBW四色型像素设计，改善了现有技术中半透半反显示面板透射率与反射率相互牵制开口率低的问题，极大的提升了透射区开口率，同时提高了像素显示亮度，从而实现较好的显示效果，还降低了能耗，节约了生产和使用成本。
实施例2：
本实施例还提供一种与实施例1中的显示基板相对应的显示基板的制备方法，该显示基板通过将薄膜晶体管上方的保护层和用于保证反射区与透射区的光程差相等的凸起部同时形成，简化了该显示基板的制备。由于该显示基板的制备方法能采用较少的工艺步骤即实现半透半反显示基板的制备，节约了生产和使用成本，且制备的显示基板显示效果好。
该显示基板包括多个像素区以及设置于像素区的薄膜晶体管，例如设置于相邻像素区边界区域的薄膜晶体管，每一像素区划分为透射区和反射区，该制备方法包括：采用一次构图工艺在薄膜晶体管的上方形成保护层，保护层在对应着反射区的区域形成凸起部，对应着薄膜晶体管的区域形成过孔。节省构图工艺。
优选的是，保护层采用多色调曝光工艺形成，其中：对应着形成凸起部160的区域为不透光区，对应着形成过孔的区域为全透光区，其他区域为半透光区。采用同一掩模板形成多样的图形，能有效节省生产成本。
作为该显示基板的一个完整的制备流程，参考图2，该显示基板的制备方法简述如下：
步骤S1)：在衬底10上沉积栅电极金属，并通过构图工艺，即通过曝光、显影、蚀刻工艺，形成包括栅极11和栅线110的图形。
步骤S2)：在栅极11和栅线110的图形的上方形成栅绝缘层12及有源层13，并通过构图工艺，即通过曝光、显影、蚀刻工艺，在栅极11图形正上方形成包括有源层13的图形。
步骤S3)：在有源层13的图形上方沉积源漏电极金属，并通过构图工艺，即通过曝光、显影、蚀刻工艺在有源层13图形上方形成包括源极14(与数据线140)和漏极15的图形，进而通过干刻工艺形成源极14与漏极15之间的导电沟道。
步骤S4)：沉积保护层材料，通过刻蚀工艺形成保护层，该保护层在对应着薄膜晶体管区域形成背沟道保护层，在对应着反射区的区域形成凸起部160，凸起部160使得反射区与其他区域形成段差。
步骤S5)：沉积反射金属，并通过构图工艺，即通过曝光、显影、蚀刻工艺，形成包括反射层17的图形。其中，反射金属为高反射率的金属材料，例如包括银或铝或铬，这里不做限定。
步骤S6)：沉积色阻层材料，并通过半色调掩模板使得对应着反射区的色阻层18的厚度d为对应着透射区的色阻层18的厚度D的1/2。
步骤S7)：沉积透明像素电极金属，并通过构图工艺，即通过曝光、显影、蚀刻工艺形成包括像素电极层19的图形。
在制备形成上述显示基板的基础上，将显示基板与具有公共电极层20的基板对合，并在二者之间形成液晶层，从而形成液晶面板。
该显示基板的制备方法，采用COA结构在形成薄膜晶体管上方的保护层的同时即形成用于保证反射区与透射区的光程差相等的凸起部，能节省工艺步骤，且使得形成的显示基板获得较佳的显示效果。
实施例3：
本实施例提供一种显示装置，包括实施例1中的显示基板以及与显示基板相对设置的公共电极层。
在该显示装置中，保护层的凸起部与反射层的厚度之和为对应着透射区的显示基板与公共电极层相对的表面之间的距离的一半。
该显示装置可以为：液晶面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示装置、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
该显示装置具有较佳的色彩和亮度，具有良好的显示效果。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示基板，包括多个像素区以及设置于所述像素区的薄膜晶体管，每一所述像素区划分为透射区和反射区，其特征在于，所述薄膜晶体管的上方设置有保护层，所述保护层在对应着所述反射区的区域设置为凸起部，对应着所述薄膜晶体管的区域开设有过孔。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凸起部的上方还设置有色阻层，所述色阻层还延伸至所述透射区，且所述色阻层对应着所述透射区的厚度为对应着所述反射区的厚度的两倍。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，对应着所述保护层的凸起部和所述色阻层之间还设置有反射层。
4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述色阻层的上方还设置有像素电极层，所述像素电极层与所述薄膜晶体管的漏极通过开设于所述保护层中的所述过孔电连接。
5.根据权利要求1-4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述保护层采用氮化硅材料或氧化硅材料形成。
6.根据权利要求2-4任一项所述的显示基板，其特征在于，该所述显示基板中每四个像素区形成一个像素单元，每一所述像素单元包括红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素和白色子像素，红色子像素中的所述色阻层为红色，绿色子像素中的所述色阻层为绿色，蓝色子像素中的所述色阻层为蓝色。
7.一种显示基板的制备方法，该显示基板包括多个像素区以及设置于所述像素区的薄膜晶体管，每一所述像素区划分为透射区和反射区，其特征在于，该制备方法包括：采用一次构图工艺在所述薄膜晶体管的上方形成保护层，所述保护层在对应着所述反射区的区域形成凸起部，对应着所述薄膜晶体管的区域形成过孔。
8.根据权利要求7所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述保护层采用多色调曝光工艺形成，其中：对应着形成所述凸起部的区域为不透光区，对应着形成所述过孔的区域为全透光区，其他区域为半透光区。
9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的显示基板以及与所述显示基板相对设置的公共电极层。
10.根据权利要求9所述的显示装置，其特征在于，所述保护层的凸起部与所述反射层的厚度之和为对应着透射区的所述显示基板与所述公共电极层相对的表面之间的距离的一半。
CN201510191968.1A 2015-04-21 2015-04-21 显示基板及其制备方法、显示装置 Pending CN104777649A (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510191968.1A CN104777649A (zh) 2015-04-21 2015-04-21 显示基板及其制备方法、显示装置
US15/096,371 US9964801B2 (en) 2015-04-21 2016-04-12 Display substrate, manufacturing method thereof and display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510191968.1A CN104777649A (zh) 2015-04-21 2015-04-21 显示基板及其制备方法、显示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN104777649A true CN104777649A (zh) 2015-07-15

Family

ID=53619207

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510191968.1A Pending CN104777649A (zh) 2015-04-21 2015-04-21 显示基板及其制备方法、显示装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US9964801B2 (zh)
CN (1) CN104777649A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105954953A (zh) * 2016-07-13 2016-09-21 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板和显示装置
CN107357070A (zh) * 2017-07-31 2017-11-17 厦门天马微电子有限公司 显示面板和显示装置
CN111427200A (zh) * 2020-04-08 2020-07-17 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及显示装置

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10114263B2 (en) * 2015-12-18 2018-10-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
CN108091677A (zh) * 2017-12-14 2018-05-29 合肥鑫晟光电科技有限公司 阵列基板、显示装置以及阵列基板的制造方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1495481A (zh) * 2002-09-20 2004-05-12 ������������ʽ���� 液晶显示装置和电子设备
CN1540413A (zh) * 2003-04-24 2004-10-27 ������������ʽ���� 半透射型液晶显示装置及具有该装置的电子设备
US20050264731A1 (en) * 2004-05-25 2005-12-01 Hitachi Displays, Ltd. Liquid crystal display apparatus
CN1928661A (zh) * 2006-09-21 2007-03-14 友达光电股份有限公司 半穿透反射式显示器
CN1940665A (zh) * 2005-09-26 2007-04-04 群康科技(深圳)有限公司 液晶显示面板和液晶显示装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3380482B2 (ja) * 1997-12-26 2003-02-24 シャープ株式会社 液晶表示装置
WO2001084226A1 (fr) * 2000-04-28 2001-11-08 Sharp Kabushiki Kaisha Unite d'affichage, procede d'excitation pour unite d'affichage, et appareil electronique de montage d'une unite d'affichage
JP3895952B2 (ja) * 2001-08-06 2007-03-22 日本電気株式会社 半透過型液晶表示装置及びその製造方法
TWI363912B (en) * 2007-06-20 2012-05-11 Au Optronics Corp Display panel and fabricating method thereof, electro-optical device comprising said display panel, and fabricating method thereof
US8125602B2 (en) * 2007-08-22 2012-02-28 Sony Corporation Liquid crystal display panel, electronic apparatus equipped with the same, and method for manufacturing liquid crystal display panel

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1495481A (zh) * 2002-09-20 2004-05-12 ������������ʽ���� 液晶显示装置和电子设备
CN1540413A (zh) * 2003-04-24 2004-10-27 ������������ʽ���� 半透射型液晶显示装置及具有该装置的电子设备
US20050264731A1 (en) * 2004-05-25 2005-12-01 Hitachi Displays, Ltd. Liquid crystal display apparatus
CN1940665A (zh) * 2005-09-26 2007-04-04 群康科技(深圳)有限公司 液晶显示面板和液晶显示装置
CN1928661A (zh) * 2006-09-21 2007-03-14 友达光电股份有限公司 半穿透反射式显示器

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105954953A (zh) * 2016-07-13 2016-09-21 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板和显示装置
CN107357070A (zh) * 2017-07-31 2017-11-17 厦门天马微电子有限公司 显示面板和显示装置
CN107357070B (zh) * 2017-07-31 2020-05-15 厦门天马微电子有限公司 显示面板和显示装置
CN111427200A (zh) * 2020-04-08 2020-07-17 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及显示装置
WO2021203498A1 (zh) * 2020-04-08 2021-10-14 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
US9964801B2 (en) 2018-05-08
US20160313604A1 (en) 2016-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9454034B2 (en) Color filter array substrate, method for fabricating the same and display device
US7570340B2 (en) Transflective LCD device and fabrication method thereof
CN103185981B (zh) 彩色滤光阵列基板及其制备方法和显示装置
US7292298B2 (en) Transflective liquid crystal display device with balanced color purity
WO2019200819A1 (zh) Bps型阵列基板的制作方法及bps型阵列基板
CN104777649A (zh) 显示基板及其制备方法、显示装置
CN103995390B (zh) 显示面板、显示装置及显示面板的制造方法
CN103176307B (zh) 半透半反液晶显示面板以及液晶显示装置
US20180335553A1 (en) Method for manufacturing color filter substrate and method for manufacturing liquid crystal panel
WO2018228109A1 (zh) 一种coa基板及其制作方法、显示面板、显示装置
WO2019033593A1 (zh) 透反式液晶显示装置及其制作方法
WO2014015605A1 (zh) 彩膜基板的制备方法、彩膜基板及半反半透式液晶显示装置
CN104020902A (zh) 一种触摸屏及显示装置
CN1794054B (zh) 液晶显示器件及其制造方法
CN106353944A (zh) 阵列基板及其制造方法、显示面板、显示装置
US6788367B2 (en) Liquid crystal display device
KR101287702B1 (ko) 반사투과형 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
CN101989004B (zh) 一种基板、其制造方法及采用该基板的半反半透lcd
WO2018201545A1 (zh) 光罩及其应用于主动开关阵列基板的制造方法
TWI375839B (en) Liquid crystal panel and method of making the same
US7102716B2 (en) LCD with TFT on upper substrate and color filter on each substrate
CN1321343C (zh) 半透射半反射式液晶显示器的结构
US7212259B2 (en) Liquid crystal display having color filters with recess structures
US7102713B2 (en) Transflective liquid crystal display device having groove in buffer layer and fabricating method thereof
JP2009122601A (ja) 液晶装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
EXSB Decision made by sipo to initiate substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20150715