CN104731432A - 白色电容式触摸屏及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种白色电容式触摸屏及其制备方法。一种白色电容式触摸屏，包括依次层叠的基板、五氧化二铌层、白色遮挡层、黑色遮挡层、二氧化硅层、第一导电层、第一绝缘层、第二导电层、金属层及第二绝缘层。该白色电容式触摸屏的反射色度得到改善且成本较低。

Description

白色电容式触摸屏及其制备方法

技术领域

本发明涉及触摸屏领域，尤其涉及一种白色电容式触摸屏及其制备方法。

背景技术

目前，白色电容式触摸屏(OGS)相比白色盖板，往往颜色效果欠佳。原因在于，在白色OGS中一般具有两层绝缘层，而绝缘层在制备过程中需要烘烤形成，也就是说在白色OGS的制备过程中都需要经过至少两道高温烘烤，而高温烘烤会使得白色OGS的反射色度发生变化，为此，制作白色OGS往往需要选取耐高温的白色遮光材料，而这样做会导致白色OGS的制备成本过高，且材料的选取受到限制，制约了白色OGS的发展。

发明内容

鉴于此，有必要提供一种反射色度得到改善且成本较低的白色电容式触摸屏。

此外，还提供一种能够制备出反射色度得到改善且成本较低的白色电容式触摸屏的制备方法。

一种白色电容式触摸屏，包括依次层叠的基板、五氧化二铌层、白色遮挡层、黑色遮挡层、二氧化硅层、第一导电层、第一绝缘层、第二导电层、金属层及第二绝缘层。

在其中一个实施例中，所述五氧化二铌层的厚度为50～200埃米。

在其中一个实施例中，所述白色遮挡层的材料为白色光刻胶；所述白色遮挡层的厚度为10～20微米。

在其中一个实施例中，所述黑色遮挡层的材料为黑色光刻胶；所述黑色遮挡层的厚度为1～3微米。

在其中一个实施例中，所述二氧化硅层的厚度为300～500埃米。

在其中一个实施例中，所述第一绝缘层的材料为OC绝缘胶；所述第一绝缘层的厚度为1～3微米。

在其中一个实施例中，所述第二绝缘层的材料均为OC绝缘胶；所述第二绝缘层的厚度为1～3微米。

在其中一个实施例中，所述第一导电层的厚度为200～1500埃米；所述第二导电层的厚度为200～900埃米。

在其中一个实施例中，所述金属层为钼铝钼层，且所述金属层的厚度为2000～4000埃米。

一种白色电容式触摸屏的制备方法，包括如下步骤：

在基板上依次形成五氧化二铌层、白色遮挡层、黑色遮挡层、二氧化硅层及第一导电层；

在所述第一导电层上涂覆绝缘材料，并经200～250℃烘烤30～60分钟，形成第一绝缘层；

在所述第一绝缘层上依次形成第二导电层及金属层；

在所述金属层上涂覆绝缘材料，并经200～250℃烘烤30～60分钟，形成第二绝缘层。

由于五氧化二铌层和二氧化硅层直接层叠颜色偏黄，当白色遮光层在高温时发生黄变，反射色度不能得到调节，白色遮光层的黄变能够被人眼识别。而上述白色电容式触摸屏通过在白色遮光层和基板之间形成五氧化二铌层，并在黑色遮光层上设置二氧化硅层，以使白色遮光层位于五氧化二铌层上，二氧化硅层位于黑色遮光层上，能够使白色遮光层在两道高温烘烤后基本不发生黄化，这是因为五氧化二铌层偏蓝，当白色遮光层在高温时发生黄变，五氧化二铌层能够起到抵消的作用，从而调节视觉效果，使得白色电容式触摸屏高温烘烤前后的反射色差在0.5以下，即高温烘烤前后产品色度基本无变化，而无需使用昂贵的白色遮光材料，就使白色电容式触摸屏的反射色度得到改善，成本较低，因此，上述白色电容式触摸屏的反射色度得到改善且成本较低。

附图说明

图1为一实施方式的白色电容式触摸屏的结构示意图；

图2为一实施方式的白色电容式触摸屏的制备流程图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

如图1所示，一实施方式的白色电容式触摸屏100，包括依次层叠的基板110、五氧化二铌层120、白色遮挡层130、黑色遮挡层140、二氧化硅层150、第一导电层160、第一绝缘层170、第二导电层180、金属层190及第二绝缘层195。

其中，基板110为玻璃基板。优选的，基板110的厚度为0.3～1.1mm。

五氧化二铌层120的厚度为50～200埃米。

白色遮挡层130的材料为白色光刻胶，例如，新应材公司的白色光刻胶SPW1000。其中，白色光刻胶是一种包含二氧化钛、高分子树脂、感光剂的混合物，能够起到遮光的作用。

其中，白色遮挡层130的厚度为10～20微米。

黑色遮挡层140的材料为黑色光刻胶，例如TOK公司的的黑色光刻胶BK110 T-2。其中，黑色光刻胶是一种包含炭黑、高分子树脂、感光剂的混合物，能够起到遮光的作用。

黑色遮挡层140的厚度为1～3微米。

二氧化硅层150的厚度为300～600埃米。

第一导电层160的材料优选为ITO。可以理解，第一导电层160的材料也可以为其它导电材料，例如AZO等。第一导电层160的厚度为200～1500埃米。

第一绝缘层170的材料为OC绝缘胶。第一绝缘层170的厚度为1～3微米。

第二导电层180的材料优选为ITO。可以理解，第二导电层180的材料还可以为其它导电材料，例如AZO等。

其中，第二导电层180的厚度为200～900埃米。

其中，金属层190为钼铝钼层。金属层190的厚度为2000～4000埃米。

第二绝缘层195的材料为OC绝缘胶。第二绝缘层195的厚度为1～3微米。

由于五氧化二铌层120和二氧化硅层150直接层叠颜色偏黄，当白色遮光层130在高温时发生黄变，反射色度不能得到调节，白色遮光层的黄变能够被人眼识别。而上述白色电容式触摸屏100通过在白色遮光层130和基板110之间形成五氧化二铌层120，并在黑色遮光层上设置二氧化硅层150，以使白色遮光层130位于五氧化二铌层120上，二氧化硅层120位于黑色遮光层140上，能够使白色遮光层130在两道高温烘烤后基本不发生黄化，这是因为五氧化二铌层120偏蓝，当白色遮光层130在高温时发生黄变，五氧化二铌层120能够起到抵消的作用，从而调节视觉效果，使得白色电容式触摸屏高温烘烤前后的反射色差在0.5以下，即高温烘烤前后产品色度基本无变化，而无需使用昂贵的白色遮光材料，就使白色电容式触摸屏100的反射色度得到改善，成本较低，因此，上述白色电容式触摸屏100的反射色度得到改善且成本较低。

如图2所示，一实施方式的白色电容式触摸屏的制备方法，可以用于制备上述白色电容式触摸屏。该白色电容式触摸屏的制备方法包括如下步骤：

步骤S210：在基板上依次形成五氧化二铌层、白色遮挡层、黑色遮挡层、二氧化硅层及第一导电层。

其中，基板为玻璃基板。优选的，基板的厚度为0.3～1.1mm。

其中，五氧化二铌层的厚度为50～200埃米。其中，形成五氧化二铌层的方法为真空溅镀。

白色遮挡层的材料为白色光刻胶，例如，新应材公司的白色光刻胶SPW1000。其中，白色光刻胶是一种包含二氧化钛、高分子树脂、感光剂的光刻胶，能够起到遮光的作用。其中，形成白色遮挡层的方法为光刻。

其中，白色遮挡层的厚度为10～20微米。

黑色遮挡层的材料为黑色光刻胶，例如TOK公司的黑色光刻胶BK110 T-2。其中，黑色光刻胶是一种包含炭黑、高分子树脂、感光剂的光刻胶，能够起到遮光的作用。形成黑色遮光层的方法为光刻。

黑色遮挡层的厚度为1～3微米。

其中，二氧化硅层的厚度为300～600埃米。形成二氧化硅层的方法为真空溅镀。

其中，第一导电层的材料优选为ITO。可以理解，第一导电层的材料也可以为其它导电材料，例如AZO等。

其中，第一导电层的厚度为200～1500埃米。

形成第一导电层的方法为真空溅镀。

步骤S220：在第一导电层上涂覆绝缘材料，并经200～250℃烘烤30～60分钟，形成第一绝缘层。

其中，第一绝缘层的材料为OC绝缘胶。其中，第一绝缘层的厚度为1～3微米。

步骤S230：在第一绝缘层上依次形成第二导电层及金属层。

其中，第二导电层的材料优选为ITO。可以理解，第二导电层的材料也可以为其它导电材料，例如AZO等。

其中，第二导电层的厚度为200～900埃米。

形成第二导电层的方法为真空溅镀。

其中，金属层优选为钼铝钼层。

且金属层的厚度为2000～4000埃米。

形成金属层的方法为真空溅镀。

步骤S240：在金属层上涂覆绝缘材料，并经200～250℃烘烤30～60分钟，形成第二绝缘层。

其中，步骤S240中，第二绝缘层材料为OC绝缘胶。

第二绝缘层的厚度为1～3微米。

上述白色电容式触摸屏的制备方法操作简单，且制备出的白色电容式触摸屏的反射色度得到了改善且较低的成本。

以下为具体实施例部分：

实施例1

本实施例的白色电容式触摸屏的制备如下：

(1)提供玻璃基板，在厚度为0.3mm的玻璃基板的一个表面上依次真空溅镀形成厚度为50埃米的五氧化二铌层、光刻形成厚度为1微米的白色遮挡层、光刻形成厚度为3微米的黑色遮挡层、真空溅镀形成厚度为600埃米的二氧化硅层及真空溅镀形成厚度为200埃米的第一ITO导电层，其中，白色遮挡层的材料为白色BM，黑色遮光层的材料为黑色BM。

(2)在第一导电层上涂覆OC绝缘胶，并经250℃烘烤30分钟，形成厚度为1微米的第一绝缘层。

(3)在第一绝缘层上真空溅镀依次形成厚度为200微米的第二ITO导电层及厚度为4000埃米的钼铝钼层。

(4)在钼铝钼层上涂覆OC绝缘胶，并经200℃烘烤60分钟，形成厚度为3微米的第二绝缘层。

在CIEI1976L*A*B*色空间下的反射色度来评价颜色，其中，L*为亮度；其a*：负为绿色方向，正为红色方向；b*：负为蓝色方向，正为黄色方向，用ΔE*_ab评价反射色差，其中， ${\mathrm{\ΔE}*}_{\mathrm{ab}}=\sqrt{{({L*}_1-{L*}_2)}^2+{({a*}_1-{a*}_2)}^2+{({b*}_1-{b*}_2)}^2)},$ (L₁*、a₁*、b₁*代表步骤(1)的得到的半成品的反射色度，L₂*、a₂*、b₂*代表最终得到的白色电容式触摸屏的反射色度，即经过高温烘烤后产品的反射色度)。当ΔE*_ab＞1时，即反射色差不能被接受，不合格。通过上述方法测试本实施的白色电容式触摸屏得到反射色差ΔE*_ab，本实施例的步骤(1)得到的半成品和最终的白色电容式触摸屏成品的反射色度的L*、a*、b*值及反射色差ΔE*_ab值见表1。

实施例2

本实施例的白色电容式触摸屏的制备如下：

(1)提供玻璃基板，在厚度为1.1mm的玻璃基板的一个表面上依次真空溅镀形成厚度为200埃米的五氧化二铌层、光刻形成厚度为3微米的白色遮挡层、光刻形成厚度为1微米的黑色遮挡层、真空溅镀形成厚度为300埃米的二氧化硅层及真空溅镀形成厚度为1500埃米的第一ITO导电层，其中，白色遮挡层的材料为白色光刻胶，黑色遮光层的材料为黑色光刻胶。

(2)在第一导电层上涂覆OC绝缘胶，并经200℃烘烤60分钟，形成厚度为3微米的第一绝缘层。

(3)在第一绝缘层上真空溅镀依次形成厚度为900微米的第二ITO导电层及厚度为2000埃米的钼铝钼层。

(4)在钼铝钼层导电层上涂覆OC绝缘胶，并经250℃烘烤30分钟，形成厚度为1微米的第二绝缘层。

采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的步骤(1)得到的半成品和最终的白色电容式触摸屏成品的反射色度的L*、a*、b*值及反射色差ΔE*_ab值见表1。

对比例1

对比例1的白色电容式触摸屏为依次层叠的玻璃基板、50埃米的五氧化二铌层、厚度为600埃米的二氧化硅层、厚度为1微米的白色遮挡层、厚度为3微米的黑色遮挡层、厚度为200埃米的第一ITO导电层、厚度为1微米的第一OC绝缘层、厚度为200微米的第二ITO导电层、厚度为4000埃米的钼铝钼层及厚度为3微米的第二OC绝缘层，其中，白色遮挡层的材料为白色光刻胶，黑色遮挡层的材料为黑色光刻胶。

采用实施例1相同的测试方法，得到对比例1的形成有层叠的玻璃基板、五氧化二铌层、二氧化硅层、白色遮挡层、黑色遮挡层及第一ITO导电层的半成品和最终的白色电容式触摸屏成品的反射色度的L*、a*、b*值及反射色差ΔE*_ab值见表1。

对比例2

对比例2的白色电容式触摸屏的结构与实施例1的白色电容式触摸屏的结构和制备过程基本相同，区别仅在于对比例2的白色电容式触摸屏的结构中没有五氧化二铌层，白色遮挡层直接层叠于玻璃基板上，即对比例2的白色电容式触摸屏的结构为依次层叠的玻璃基板、白色遮挡层、黑色遮挡层、二氧化硅层、第一ITO导电层、第一OC绝缘层、第二ITO导电层、钼铝钼层及第二OC绝缘层，其中，白色遮挡层的材料为白色光刻胶，黑色遮挡层的材料为黑色光刻胶。

采用实施例1相同的测试方法，得到对比例2的层叠有玻璃基板、白色遮挡层、黑色遮挡层、二氧化硅层及第一ITO导电层的半成品和最终的白色电容式触摸屏成品的反射色度的L*、a*、b*值及反射色差ΔE*_ab值见表1。

表1表示的是实施例1～2及对比例1～2的白色电容式触摸屏的反射色度的L*、a*、b*值及反射色差ΔE*_ab值。

表1

从表1中可以看出，实施例1～2的白色电容式触摸屏的反射色差均小于0.5，而对比例1～2的白色电容式触摸屏的反射色差大于0.5，显然，实施例1～2的白色电容式触摸屏具有更小的反射色差，即对白色电容式触摸屏的反射色度基本没有影响，这是因为五氧化二铌层偏蓝，在白色遮光层变黄时，五氧化二铌层能够起到抵消的作用，从而减少b*的变化量。

且从表1中可以看出，实施例1具有远小于对比例2的白色电容式触摸屏的反射色差。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种白色电容式触摸屏，其特征在于，包括依次层叠的基板、五氧化二铌层、白色遮挡层、黑色遮挡层、二氧化硅层、第一导电层、第一绝缘层、第二导电层、金属层及第二绝缘层。

2.根据权利要求1所述的白色电容式触摸屏，其特征在于，所述五氧化二铌层的厚度为50～200埃米。

3.根据权利要求1所述的白色电容式触摸屏，其特征在于，所述白色遮挡层的材料为白色光刻胶；所述白色遮挡层的厚度为10～20微米。

4.根据权利要求1所述的白色电容式触摸屏，其特征在于，所述黑色遮挡层的材料为黑色光刻胶；所述黑色遮挡层的厚度为1～3微米。

5.根据权利要求1所述的白色电容式触摸屏，其特征在于，所述二氧化硅层的厚度为300～500埃米。

6.根据权利要求1所述的白色电容式触摸屏，其特征在于，所述第一绝缘层的材料为OC绝缘胶；所述第一绝缘层的厚度为1～3微米。

7.根据权利要求1所述的白色电容式触摸屏，其特征在于，所述第二绝缘层的材料为OC绝缘胶；所述第二绝缘层的厚度为1～3微米。

8.根据权利要求1所述的白色电容式触摸屏，其特征在于，所述第一导电层的厚度为200～1500埃米；所述第二导电层的厚度为200～900埃米。

9.根据权利要求1所述的白色电容式触摸屏，其特征在于，所述金属层为钼铝钼层，且所述金属层的厚度为2000～4000埃米。

10.一种白色电容式触摸屏的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

在基板上依次形成五氧化二铌层、白色遮挡层、黑色遮挡层、二氧化硅层及第一导电层；

在所述第一导电层上涂覆绝缘材料，并经200～250℃烘烤30～60分钟，形成第一绝缘层；

在所述第一绝缘层上依次形成第二导电层及金属层；

在所述金属层上涂覆绝缘材料，并经200～250℃烘烤30～60分钟，形成第二绝缘层。