CN104714683A - 触控面板 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种触控面板包括一第一基板以及一触控感测结构。触控感测结构位于第一基板的一侧。触控感测结构包括一第一导电层、一第二导电层以及一绝缘层。第一导电层包括多个第一电极、多个连接部以及多个第二电极。各连接部串接相邻两个第一电极以形成多条第一电极串列。第二导电层包括多条桥接线。各桥接线串接相邻两个第二电极以形成多条第二电极串列。绝缘层配置在桥接线与连接部之间。触控面板上设置有多个散射图案。散射图案位于桥接线与第一基板之间，且各散射图案在第一基板上的正投影面积重叠于其中一条桥接线在第一基板上的正投影面积。
Description
技术领域
本发明是有关于一种触控面板，且特别是有关于一种电容式的触控面板。
背景技术
在现今的信息社会下，许多信息产品已由传统的键盘或鼠标等输入装置，转变为使用触控面板作为输入装置。一般而言，触控面板主要可分为电阻式触控面板与电容式触控面板。以电容式触控面板为例，其膜层结构包括一第一导电层、一第二导电层以及一绝缘层。第一导电层包括多个第一电极、多个连接部以及多个第二电极。各连接部串接相邻两个第一电极以形成多条第一电极串列。第二导电层包括多条桥接线，且各桥接线串接相邻两个第二电极以形成多条第二电极串列。绝缘层配置在桥接线与连接部之间，使第一电极串列绝缘于第二电极串列。其中，感测垫的材质通常选用光穿透率佳的透明导电材质，而桥接线的材质通常选用导电性佳的金属。
然而，金属的反射率较大，容易反射外界的光线使触控面板产生亮点而使使用者观看触控面板时具有可视性问题。因此如何改善此种可视性问题是值得探讨的技术。
发明内容
本发明提供一种触控面板，其具有良好的可视性。
第一方面，本发明的触控面板包括一第一基板以及一触控感测结构。触控感测结构设置在第一基板上。触控感测结构包括一第一导电层、一第二导电层、一绝缘层以及多个散射图案。第一导电层包括多个第一电极、多个连接部以及多个第二电极。各连接部沿一第一方向串接相邻两个第一电极以形成多条第一电极串列。多个第二电极，配置在第一电极之间。第二导电层包括多条桥接线，且各桥接线沿一第二方向串接相邻两个第二电极以形成多条第二电极串列，其中第一方向与第二方向相交。绝缘层至少配置在这些桥接 线与这些连接部之间。各散射图案在第一基板上的正投影面积重叠于其中一条桥接线在第一基板上的正投影面积的至少80％以上。
在本发明的一实施例中，上述的第一基板包括至少一凹陷部，邻近于触控感测结构，且散射图案设置在凹陷部的表面。
在本发明的一实施例中，上述的凹陷部的表面粗糙度为0.1μm至1.9μm。
在本发明的一实施例中，上述的触控面板，还包括一对位结构，设置在第一基板上，且与凹陷部同时制作。
在本发明的一实施例中，上述的触控面板还包括至少一突出部。突出部配置在第一基板上，且位于第一基板与触控感测结构之间，散射图案设置在突出部的表面。
在本发明的一实施例中，上述的突出部的表面粗糙度为0.1μm至1.0μm。
在本发明的一实施例中，上述的散射图案设置在桥接线的表面。
在本发明的一实施例中，上述的桥接线的表面粗糙度为0.1μm至1.0μm。
在本发明的一实施例中，上述的各散射图案包括多个凹部区以及多个凸部区，且凹部区占各散射图案的密度的10％至50％。
在本发明的一实施例中，上述的凹部区与凸部区在第一基板的正投影包括多边形、圆形以及椭圆形。
在本发明的一实施例中，上述构成散射图案的结构在凸部区的凸出高度不同或相同。
在本发明的一实施例中，上述的触控面板还包括一第二基板，设置在该触控感测结构上。
在本发明的一实施例中，上述的第二导电层的材质为金属。
在本发明的一实施例中，上述的第一导电层由透明导电材质、金属网格、纳米金属丝或上述的复合叠层所构成。
在本发明的一实施例中，上述的第一导电层配置在第一基板与第二导电层之间。
在本发明的一实施例中，上述的第二导电层配置在第一基板与第一导电 层之间。
在本发明的一实施例中，上述的第一基板为覆盖板。
在本发明的一实施例中，上述的触控面板还包含一装饰层，设置在第一基板的周缘上。
在本发明的一实施例中，上述的第二基板为覆盖板。
在本发明的一实施例中，上述的触控面板还包含一装饰层，设置在第二基板的周缘上。
在本发明的一实施例中，上述的散射图案设置在绝缘层的表面。
在本发明的一实施例中，上述的散射图案设置在第一基板的表面。
第二方面，本发明的触控面板，包括：
一基板；
一金属网格电极，配置在该基板上，且该金属网格电极包括多个细线，该些细线彼此交错而形成多个开口；
一散射层，该散射层设置在该金属网格电极的一侧，且该基板位于该金属网格电极的该侧，其中该金属网格电极的该些细线在该基板上的正投影面积重叠于该散射层在该基板上的正投影面积。
基于上述，本发明的触控面板包括多个散射图案，其中各散射图案在第一基板上的正投影面积重叠于其中一条桥接线在第一基板上的正投影面积，而各桥接线都有与其对应的一散射图案。如此，各桥接线会被对应的散射图案遮蔽，当外界光线照射触控面板时，散射图案可先散射光线而降低被桥接线反射的反射光的强度。如此一来，使用者不容易察觉到桥接线的存在，使触控面板具有良好的可视性。
为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详细说明如下。
附图说明
图1是本发明的实施例一的一种触控面板的上视示意图；
图2是图1的触控面板沿线段AA’的剖面示意图；
图3是图2的散射图案的上视示意图；
图4是图3的散射图案沿线段BB’的剖面示意图；
图5是散射图案的另一种实施方式；
图6是本发明的实施例二的一种触控面板的示意图；
图7是本发明的实施例三的一种触控面板的示意图；
图8是本发明的实施例四的一种触控面板的示意图；
图9是本发明的实施例五的一种触控面板的示意图；
图10是本发明的实施例六的一种触控面板的示意图；
图11是本发明的实施例七的一种触控面板的示意图；
图12是本发明的实施例八的一种触控面板的示意图；
图13为本发明一实施例的金属网格电极的局部上视示意图；
图14A为本发明一实施例的金属网格电极配置在基板上的示意图；
图14B为本发明另一实施例的金属网格电极配置在基板上的示意图一；
图14C为本发明另一实施例的金属网格电极配置在基板上的示意图二；
图14D为本发明另一实施例的金属网格电极配置在基板上的示意图三；
图15为本发明又一实施例的金属网格电极配置在基板上的示意图；
图16为本发明一实施例的单层式触控面板的示意图。
附图标记说明：
100、200、300、400、500、600、700、800、900：触控面板；
120、320、510：第一基板；
124：凹陷部；
120a：第一表面；
120b：第二表面；
124a、320a、380a、520a、5442a、6442a、746a：表面；
130：连接线；
130a：第一连接线；
130b：第二连接线；
140、240、340、440、540、640：触控感测结构；
142、242、342、442、542、642：第一导电层；
1422、902：第一电极；
1424：连接部；
1426、904：第二电极；
144、244、344、444、544、644：第二导电层；
1442、3442、5442、6442：桥接线；
146、246、346、446、546、646、746：绝缘层；
150：接垫区；
160、160a、360、860：散射图案；
162、162a：凹部区；
164、164a：凸部区；
170：装饰层；
180、580：保护层；
380：突出部；
520：第二基板；
530：光学胶；
600：金属网格电极；
602：细线；
604：开口；
700A、700B、700C、700D：散射层；
702：散射粒子；
704：基质；
706：散射图案；
800：散射凸起；
A-A’：剖线；
S1：第一电极串列；
S2：第二电极串列；
D1：第一方向；
D2：第二方向；
L：光线；
h1、h2、h3、h4、h5、h6、h7、h8、h9、h10、h11、h12、h13：距离；
ha：高度；
SUB：基板；
W602、W706：宽度；
W800：直径；
X：导体；
Y：法线；
Θ1：入射角；
Θ2：反射角。
具体实施方式
图1是本发明的实施例一的一种触控面板的上视示意图。图2是图1的触控面板沿线段AA’的剖面示意图。请同时参考图1及图2，触控面板100包括一第一基板120以及一触控感测结构140。第一基板120可为独立于显示器外的基板，或是整合于显示器内的元件基板，其中独立于显示器外的基板例如是外加的覆盖板(Cover lens)，覆盖板为高机械强度的硬质基板，例如可为强化玻璃或是聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)与聚碳酸酯(PC)的复合塑胶基板；而整合于显示器内的元件基板例如是液晶显示器的彩色滤光基板、有机发光二极管显示器的封装盖板等，但不以此为限。触控感测结构140位于第一基板120的一侧(例如第一表面120a所在的一侧)，且第一基板120具有承载以及保护触控感测结构140的功能。
触控感测结构140包括一第一导电层142、一第二导电层144以及一绝缘层146。第一导电层142包括多个第一电极1422、多个连接部1424以及多个第二电极1426。各连接部1424沿一第一方向D1串接相邻两个第一电极1422以形成多条第一电极串列S1。第二导电层144包括多条桥接线1442，且各桥接线1442沿一第二方向D2串接相邻两个第二电极1426以形成多条第二电极串列S2，其中第一方向D1与第二方向D2相交。绝缘层146至少配置在桥接线1442与连接部1424之间使第一电极串列S1绝缘于第二电极串列S2，其中绝缘层146可为图案化的绝缘层或具导接孔洞的绝缘层结构。
触控面板100还包括配置在第一基板120上的多条连接线130以及一接垫区150，其中连接线130连接在触控感测结构140以及接垫区150之间以传输触控感测结构140的信号。详细而言，连接线130包括多条第一连接线130a以及多条第二连接线130b，其中各第一连接线130a连接在第一电极串列S1以及接垫区150之间，且第二连接线130b连接在第二电极串列S2以及 接垫区150之间。在本实施例中，触控面板100还包括一装饰层170，配置在第一基板120的四周以遮蔽连接线130。装饰层170以及触控感测结构140配置在第一基板120的同一侧(例如第一表面120a所在的一侧)，装饰层170设置在第一基板120的周缘上且可选择性地通过图案化定义出图腾、符号或文字。
本实施例的触控感测结构140是制作在第一基板120上，也就是采用单片玻璃式(One Glass Solution，简称OGS)的制作方式。触控感测结构140是由透明导电材质、金属、纳米金属丝或上述材料的复合叠层所构成，其中透明导电材质包括氧化铟锡(indium tin oxide,简称ITO)、氧化铟锌(indium zinc oxide,简称IZO)、氧化铝锌(aluminum zinc oxide,简称AZO)，而金属包括银(Ag)、铝(Al)、铜(Cu)、铬(Cr)、钛(Ti)、钼(Mo)的其中至少一者、上述材料的复合叠层或上述材料的合金所构成。举例而言，复合叠层为钼/铝/钼或氧化铟锡/银/氧化铟锡的三层结构。在其他实施例中，触控感测结构140可图案化而形成为网格状。
在本实施例中，第一基板120邻近于触控感测结构140的第一表面120a具有多个凹陷部124(图2的剖面图中仅示出其中一个)，其中散射图案160设置在凹陷部124的表面。详细而言，各凹陷部124对应设置在其中一条桥接线1442，且凹陷部124用来构成散射图案160的表面粗糙度为0.1μm至1.9μm。本实施例的凹陷部124是制作在第一基板120的第一表面120a上，其制作方法例如为物理性研磨、雷射蚀刻或是蚀刻膏网印。在此需说明的是，本实施例的第一基板120上可另外设置有多个对位结构(未示出)。对位结构与凹陷部124可同时制作在第一基板120上，且对位结构可提供后续制作的膜层作为对位参考。也就是说，凹陷部124的制作可以不需要额外的制作步骤而是与既有的对位结构整合于相同步骤中制作。
在本实施例中，由于第二导电层144的材质为金属，这往往导致桥接线1442容易被使用者察觉。不过，在本实施例中，触控面板100上所设置的多个散射图案160(图2的剖面图中仅示出其中一个)位于桥接线1442与第一基板120之间。各散射图案160在第一基板120上的正投影面积至少重叠于其中一条桥接线1442在第一基板120上的正投影面积，在本实施例中，各散射图案160在第一基板120上的正投影面积是等于其中一条桥接线1442在第一 基板120上的正投影面积。换言之，各桥接线1442都有与其对应的散射图案160，且各桥接线1442被对应的散射图案160遮蔽，即散射图案160都位于对应的桥接线1442的邻近于第一基板120的一侧。因此，当外界光线L照射触控面板100时，散射图案160可先散射光线L以避免光线L被桥接线1442反射而产生明显的反射光，使本实施例的触控面板100具有良好的可视性。
基于上述，在本实施例中，各桥接线1442在第一基板120上的正投影落在其中一散射图案160在第一基板120上的正投影之内。换言之，各桥接线1442的正投影的面积小于对应的散射图案160的正投影的面积，使散射图案160可有效遮蔽桥接线1442。
图3是图2的散射图案的上视示意图。请参考图3，通过前述的制作方法可在第一基板120的第一表面120a上产生多个凹部区162以及相对于凹部区162的多个凸部区164，其中凹部区162占各散射图案160的密度的10％至50％。此外，本实施例是以凹部区162与凸部区164在第一基板120的正投影为不规则形状为例，然而凹部区162与凸部区164在第一基板120的正投影可包括多边形、圆形以及椭圆形。通过位于凹部区162以及位于凸部区164的结构之间具有相对高度差可有效散射来自外界的光线。
图4是图3的散射图案沿线段BB’的剖面示意图。图5是散射图案的另一种实施方式。请参考图4，形成散射图案160的结构在凸部区164的凸出高度并不相同，并且凹部区162的凹入深度也可以彼此不同。在本实施例中，凹部区162以及凸部区164的高度可以由结构表面至第一基板120的一第二表面120b的距离h1、距离h2、距离h3、距离h4、距离h5、距离h6、距离h7、距离h8、距离h9、距离h10、距离h11、距离h12和距离h13来表示。在本实施例中，第二表面120b与图2的第一表面120a是分别位于第一基板120的相对两侧。当然，形成散射图案160的结构在凸部区164的凸出高度也可以相同，如图5所示，散射图案160a中的各凸部区164a可以具有相同的高度ha。
下述实施例沿用前述实施例的元件标号与部分内容，其中采用相同的标号来表示相同或近似的元件，并且省略了相同技术内容的说明。关于省略部分的说明可参考前述实施例，下述实施例不再重复赘述。图6是本发明的实施例二的一种触控面板的示意图，图6的实施例与图2的实施例相似，两者 的差别主要在于，触控面板200的触控感测结构240的制作步骤包括依序在第一基板120上制作第二导电层244、绝缘层246以及第一导电层242，其中第二导电层244位于第一基板120以及绝缘层246之间。接着，制作一保护层180覆盖在触控感测结构240上以保护触控感测结构240。换言之，相较于图2的实施例，本实施例改变第一导电层242与第二导电层244的制作顺序，使得第二导电层244配置在第一基板120与第一导电层242之间。在本实施例中，散射图案在第一基板120上的正投影面积大于桥接线1442在该第一基板120上的正投影面积。
图7是本发明的实施例三的一种触控面板的示意图。图7的实施例与图2的实施例相似，两者的差别主要在于，图2的实施例中，散射图案160是由凹陷于第一基板120的凹陷部124所构成，而在本实施例中，散射图案360是设置于突出部380的表面。
如图7中所示，突出部380位于第一基板320的一侧(例如表面320a所在的一侧)，且位于第一基板320与桥接线1442之间。各突出部380分别对应设置于桥接线3442，其中各突出部380邻近于触控感测结构340的一表面380a用来构成散射图案360的表面粗糙度为0.1μm至1.0μm。在本实施例中，各散射图案360在第一基板320上的正投影面积是等于其中一条桥接线3442在第一基板320上的正投影面积。如此，触控面板300的各桥接线3442被对应的突出部380遮蔽，当光线L照射触控面板300时，表面380a可先散射光线L以避免光线L被桥接线3442反射而产生明显的反射光。在本实施例中，突出部380是制作在第一基板320的表面320a上，制作方法例如为压印、转印、粘合、将树脂粒子的表面粗糙化或是以化学材料进行喷涂。
图8是本发明的实施例四的一种触控面板的示意图。图8的实施例与图7的实施例相似，两者的差别主要在于，图7的触控面板300的触控感测层340的制作步骤包括依序在第一基板320上制作第一导电层342、绝缘层346以及第二导电层344，而图8的触控面板400的触控感测结构440的制作步骤则包括在第一基板320上依序制作第二导电层444、绝缘层446以及第一导电层442。如图8中所示，本实施例的第二导电层444是配置在第一基板320以及第一导电层442之间，且散射图案在第一基板320上的正投影面积大于桥接线在该第一基板320上的正投影面积。
图9是本发明的实施例五的一种触控面板的示意图。触控面板500包括一第一基板510、一触控感测结构540、一第二基板520以及一光学胶530。如图9中所示，触控感测结构540是制作在第一基板510上，接着保护层580覆盖于触控感测结构540以保护触控感测结构540，然后以光学胶530将触控感测结构540粘合于第二基板520。
在本实施例中，触控面板500的各桥接线5442具有一粗糙表面5442a，且粗糙表面5442a面向第二基板520的表面520a，其中粗糙表面5442a的表面粗糙度为0.1μm至1.0μm以构成散射图案。前述的实施例是将散射图案制作在第一基板上，例如在第一基板制作凹陷部或在第一基板制作凸出的突出部。相较于此，本实施例的散射图案则是直接制作在桥接线5442上，制作方法例如在桥接线5442的表面5442a进行为黄光蚀刻、雷射光蚀刻或是蚀刻膏网印。如此，当外界光线L照射在触控面板500的桥接线5442时，粗糙表面5442a会使光线L发散地反射出去而不会产生明显的反射光。据此，本实施例的触控面板500具有良好的可视性。
在此需说明的是，本实施例的散射图案是以二次蚀刻的方式形成，因为在形成桥接线5442时，会先在保护层580上沉积一层导电膜层，例如一金属层。接着，蚀刻金属层产生桥接线5442，此时桥接线5442的表面5442a仍为平整状态。然后，在桥接线5442的表面5442a进行二次蚀刻使表面5442a产生适当的表面粗糙度。
图10是本发明的实施例六的一种触控面板的示意图。图10的实施例与图9的实施例相似，两者的差别主要在于，图9的实施例中，第一导电层542配置在第一基板510与第二导电层544之间，而图10的实施例中，第二导电层644配置在第一基板510与第一导电层642之间。换言之，第一导电层642与第二导电层644的制作顺序为可交换。此外，在图9的实施例与图10的实施例中，第一基板510为塑胶薄膜基板，且第二基板520为覆盖板。值得一提的是，本实施例的第二基板520可包括一装饰层(未示出)，设置在第二基板520的周缘上且可选择性地通过图案化定义出图腾、符号或文字。此部分的说明可参考图1的实施例，故在此不再赘述。
图11是本发明的实施例七的一种触控面板的示意图。图11的实施例与图2的实施例相似，两者的差别主要在于，图11的实施例中，散射图案设置 在绝缘层746的表面746a，如此同样可以达到散射光线L的功能。在本实施例中，散射图案在第一基板120上的正投影面积约略小于桥接线1442在该第一基板120上的正投影面积。换句话说，当未被散射图案所遮蔽的桥接线面积大于一定面积时，被桥接线反射的反射光即可被人眼所见，因此当散射图案在第一基板上的正投影面积重叠桥接线在该第一基板上的正投影面积的至少80％以上时，由于未被散射图案所遮蔽的桥接线所形成的反射光强度较不明显而可让使用者不容易察觉。图12是本发明的实施例八的一种触控面板的示意图。图12的实施例与图2的实施例相似，两者的差别者要在于，图12的实施例中，散射图案860直接配置在第一基板120的第一表面120a。在制作时，可采用例如物理性研磨、雷射蚀刻或是蚀刻膏网印在第一基板120的第一表面120a上直接形成多个略为凹陷于第一表面120a散射图案860。值得一提的是，图1、图6至图8以及图11至图12的实施例中，仅示出触控面板包括一第一基板。然而这些实施例的触控面板也可以像图9以及图10的实施例一样包括一第二基板以及一光学胶层，且触控感测元件经由光学胶层贴附于第二基板。
在上述实施例中，触控感测结构140可以是由透明导电材质、金属、纳米金属丝或上述材料的复合叠层所构成。当触控感测结构采用金属材料制作时，可以将金属材料制作成网格状以实现触控感测结构。举例而言，第一电极1422、第二电极1426与连接部1424可以由图13的金属网格电极600来制作。由图13可知，金属网格电极600包括多条细线602并且这些细线602相互交错而形成多个开口604，其中金属网格电极600的材质为金属且细线602的宽度W602范围为0.05至20微米(μm)。为了降低金属的反射性质，以避免使用者察觉到明显的金属图案，可以在金属网格电极600与使用者之间设置上述的散射图案，或是在金属网格电极600与使用者之间设置散射元件。以下将提出数个实施方式说明散射元件的设置，但本发明不以此为限。
图14A为本发明一实施例的金属网格电极配置在基板上的示意图。请参照图14A，图14A为图13中沿剖线A-A’切开的图示，金属网格电极600配置在基板SUB上，且散射层700A设置在金属网格电极600与基板SUB之间。在此，金属网格电极600配置在基板SUB上的结构可以构成具有触控感测功能的触控面板，而导体X(如使用者手指)使用触控面板时，散射层700A 与基板SUB都位于金属网格电极600的同一侧。如此一来，散射层700A将会位于导体X与金属网格电极600之间。
散射层700A的厚度T可以由0.5微米至30微米，其包括多个散射粒子702分布于基质704中。散射粒子702的材质可以为金属氧化物，例如氧化钛(TiO2)、氧化锆(ZrO2)、氧化铝(Al2O3)、氧化硅(SiO2)等。散射粒子702的粒径可以为0.3微米至10微米。基质704的材质可以为树脂材料，例如压克力树脂、聚亚酰胺树脂、环氧树脂、酚醛树脂等。同时，散射粒子702在散射层700A可以占有25％重量百分比。
进一步来说，散射层700A可以利用涂布的方式先涂布在基板SUB的整个上表面上，再将其对应于金属网格电极600图案化。因此，散射层700A可以具有多个对应于细线602的散射图案706。在本实施例中，散射图案706的宽度W706可以大致等于细线602的宽度W602，使得金属网格电极600的细线602在基板SUB上的正投影面积重叠于散射层700A的散射图案706在基板SUB上的正投影面积，但本发明不以此为限。
图14B为本发明另一实施例的金属网格电极配置在基板上的示意图一。图14C为本发明另一实施例的金属网格电极配置在基板上的示意图二。图14D为本发明另一实施例的金属网格电极配置在基板上的示意图三。图14B、14C、14D为图13中沿剖线A-A’切开的图示。请先参照图14B，本实施例不同于图14A之处主要在于，本实施例的散射层700B为整面分布于基板SUB上，其余构件皆可参照图14A的相关描述。由图14B可知，散射层700B可不需任何图案化步骤，而有助于简化制作流程。另外，请参照图14C，在本实施例中，散射层700C与金属网格电极600分别位于基板SUB的相对两侧。不过，导体X在使用图14C的构件所构成的触控面板时，散射层700C仍是位于导体X与金属网格电极600之间，且金属网格电极600的细线602在基板SUB上的正投影面积重叠于散射层700B在基板SUB上的正投影面积。因此，金属网格电极600虽以金属制作而成，导体X不容易察觉到金属网格电极600的轮廓。在图14D中，散射层700D的设置方式大致相同于散射层700C，不过散射层700D图案化成多个散射图案706，且各个散射图案706对应于金属网格电极600。
在图14A至图14D中，为了简化图，以各元件连续堆叠来表示，但是本 发明不以此为限。在其他的实施例中，上下堆叠的两个元件之间可以插入其他的构件。另外，上述方式是以涂布层状的散射层在使用者与金属网格电极之间来改善金属网格电极因为反射特性而容易被使用者察觉的现象，但本发明不以此为限。图15为本发明又一实施例的金属网格电极与散射构件配置在基板上的示意图。请参照图15，在本实施例中，基板SUB上设置有多个散射凸起800，而金属网格电极600的细线602则是配置在这些散射凸起800上。细线602顺应着散射凸起800的表面设置，使得基板SUB与散射凸起800位于金属网格电极600的同一侧。在本实施例中，这些散射凸起800的直径W800小于等于细线602的宽度W602，且各个散射凸起800为圆弧状的凸起结构。同时，金属网格电极600在基板SUB上的正投影面积重叠于散射凸起800在基板SUB上的正投影面积。如此一来，散射凸起800可以形成前述实施例所记载的散射图案。此外，导体X操作上述构件所构成的触控面板时，散射凸起800位于金属网格电极600与基板SUB之间，而有助于避免导体X明显的察觉到金属网格电极600的轮廓。散射凸起800的材质可以是压克力树脂、聚亚酰胺树脂、环氧树脂或有机材料等。图15中光线沿入射角Θ1入射，沿法线Y方向的反射角Θ2。
进一步来说，图13、图14A～14D与图15描述的金属网格电极600可以应用于单层式触控面板中。图16为本发明一实施例的单层式触控面板的示意图。请参照图16，触控面板900包括多个第一电极902与多个第二电极904，其中第一电极902与第二电极904由配置于基板SUB上的金属网格电极600所构成，且金属网格电极600的配置可以参照图14A～14D与图15的描述。另外，第一电极902与第二电极904各自具有梳状轮廓。每一个第一电极902都与数个第二电极904对应设置而构成一个感测单元，其中每个感测单元的第一电极902可以作为驱动电极用以传递驱动信号而对应的第二电极904可以作为读取电极用以传递感测信号。值得一提的是，图16中第一电极902与第二电极904的外轮廓仅是举例说明之用，并非用以限定本发明。在其他的实施例中，单层式的触控面板可以采用其他的电极轮廓来实现。
综上所述，本发明的触控面板包括多个散射图案，其中各散射图案在第一基板上的正投影面积至少重叠于其中一条桥接线在第一基板上的正投影面积，而各桥接线都有与其对应的散射图案。如此，各桥接线会被对应的散射 图案遮蔽，当外界光线照射触控面板时，散射图案可先散射光线而降低被桥接线反射的反射光的强度。如此一来，使用者不容易察觉到桥接线的存在，使触控面板具有良好的可视性。
此外，散射图案可选择制作在第一基板上，例如制作在第一基板的凹陷部或是制作凸出于第一基板的突出部，或是选择制作在桥接线上，例如制作在桥接线面对第一基板的表面上，且制作在不同元件上的散射图案可选择采用不同的制作方法。再者，触控感测结构的第一导电层与第二导电层的制作顺序为可交换，如此使触控面板还兼具良好的制作弹性。
进一步来说，本发明实施例的触控面板可以采用金属网格电极来制作电极，且在金属网格电极的一侧设置散射层或是散射凸起，通过利用散射层或是散射凸起来降低使用者察觉到金属网格电极轮廓的可能性。此时，触控面板中的电极可以选择设置为单层式电极或是由两个导电层所构成。无论电极的型态为何，在散射层与散射凸起的设置之下，金属材质的构件都不容易被使用者察觉因此将这样的触控面板设置于显示面板与使用者之间可以让显示品质维持良好。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
Claims (34)
1.一种触控面板，其特征在于，包括：
一第一基板；
一触控感测结构，设置在该第一基板上，该触控感测结构包括：
一第一导电层，该第一导电层包括：
多个第一电极；
多个连接部，各该连接部沿一第一方向串接相邻两个第一电极以形成多条第一电极串列，以及；
多个第二电极，配置在该些第一电极之间；
一第二导电层，包括多条桥接线，各该桥接线沿一第二方向串接相邻两个第二电极以形成多条第二电极串列，其中该第一方向与该第二方向相交；以及
一绝缘层，至少配置在该些桥接线与该些连接部之间；以及
多个散射图案，各该散射图案在该第一基板上的正投影面积重叠于各该桥接线在该第一基板上的正投影面积的至少80％以上。
2.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该第一基板包括至少一凹陷部，邻近于该触控感测结构，且该些散射图案设置在该凹陷部的表面。
3.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，该些凹陷部的表面粗糙度为0.1μm至1.9μm。
4.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，还包括一对位结构，设置在该第一基板上，且与该凹陷部同时制作。
5.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，还包括至少一突出部，配置在该第一基板上，且位于该第一基板与该触控感测结构之间，该些散射图案设置在该突出部的表面。
6.根据权利要求5所述的触控面板，其特征在于，该些突出部的表面粗糙度为0.1μm至1.0μm。
7.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该些散射图案设置在该些桥接线的表面。
8.根据权利要求7所述的触控面板，其特征在于，该些桥接线的表面粗糙度为0.1μm至1.0μm。
9.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，各该散射图案包括多个凹部区以及多个凸部区，且该些凹部区占各该散射图案的密度的10％至50％。
10.根据权利要求9所述的触控面板，其特征在于，该些凹部区与该些凸部区在该第一基板的正投影包括多边形、圆形以及椭圆形。
11.根据权利要求9所述的触控面板，其特征在于，构成该些散射图案的结构在该些凸部区的凸出高度不同或相同。
12.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，还包括一第二基板，设置在该触控感测结构上。
13.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该第二导电层的材质为金属。
14.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该第一导电层由透明导电材质、金属、纳米金属丝或上述的复合叠层所构成。
15.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该第一导电层配置在该第一基板与该第二导电层之间。
16.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该第二导电层配置在该第一基板与该第一导电层之间。
17.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该第一基板为覆盖板。
18.根据权利要求17所述的触控面板，其特征在于，还包含一装饰层，设置在该第一基板的周缘上。
19.根据权利要求12所述的触控面板，其特征在于，该第二基板为覆盖板。
20.根据权利要求19所述的触控面板，其特征在于，还包含一装饰层，设置在该第二基板的周缘上。
21.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该些散射图案设置在该绝缘层的表面。
22.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该些散射图案设置在该第一基板的表面。
23.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该第一导电层以及该第二导电层的材质为金属，且图案化而形成为网格状。
24.根据权利要求23所述的触控面板，其特征在于，该些散射图案在该第一基板上的正投影面积重叠于各该第一导电层以及该第二导电层在该第一基板上的正投影面积。
25.一种触控面板，其特征在于，包括：
一基板；
一金属网格电极，配置在该基板上，且该金属网格电极包括多个细线，该些细线彼此交错而形成多个开口；
一散射层，该散射层设置在该金属网格电极的一侧，且该基板位于该金属网格电极的该侧，其中该金属网格电极的该些细线在该基板上的正投影面积重叠于该散射层在该基板上的正投影面积。
26.根据权利要求25所述的触控面板，其特征在于，该散射层包括一基质与分布于该基质中的多个散射粒子。
27.根据权利要求25所述的触控面板，其特征在于，该散射层位于该基板与该金属网格电极之间。
28.根据权利要求25所述的触控面板，其特征在于，该基板位于该金属网格电极与该散射层之间。
29.根据权利要求25所述的触控面板，其特征在于，该散射层包括多个散射图案，且该些散射图案对应于该些细线而设置，使得该些细线在该基板上的正投影面积重叠于该些散射图案在该基板上的正投影面积。
30.根据权利要求26所述的触控面板，其特征在于，该些散射粒子的材质为氧化钛、氧化锆、氧化铝、氧化硅或其组合。
31.根据权利要求26所述的触控面板，其特征在于，该些散射粒子的粒径介于0.3微米至10微米。
32.根据权利要求26所述的触控面板，其特征在于，该基质的材质包括压克力树脂、聚亚酰胺树脂、环氧树脂、酚醛树脂或其组合。
33.根据权利要求26所述的触控面板，其特征在于，该基质的厚度介于0.5微米至30微米。
34.根据权利要求26所述的触控面板，其特征在于，该些散射粒子在该散射层占有25％重量百分比。
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| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
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