CN104550104A - 一种金属掩模版清洗装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及OLED技术领域，尤其是提供一种金属掩模版清洗装置，其包括：至少一个清洗槽，其装有用于清洗所述金属掩模版第一药液；至少一个分离槽，用于清洗所述金属掩模版后、含有有机杂质的所述第二药液储存和再生；所述第二药液液面高于所述第一药液液面；装设于所述清洗槽和所述分离槽之间的过滤器，用于使所述第二药液通过所述过滤器而恢复对所述金属掩模版的清洗能力，再生为第一药液。本发明解决了OLED金属掩模版现有直排式清洗方式清洗效果差、清洗周期长、药液不可循环利用等问题，还可根据工艺条件和实际需要，对清洗槽、分离槽的进行不同组合方式调整，保证连续不断的清洗作业，实现避免药液直排浪费的同时提高清洗效率。

Description

一种金属掩模版清洗装置
技术领域
本发明涉及有机发光二极管的技术领域，尤其是指这种OLED金属掩模版的清洗方法。
背景技术
OLED(有机发光二极管)作为新一代的固态自发光显示技术，相较于液晶显示具有超薄、响应度高、对比度高、功耗低等优势，近几年产业化速度突飞猛进。
目前OLED主流的制备技术和方法是蒸镀法，即在真空腔体内加热有机小分子(有机蒸镀材料)，使其升华或者熔融气化成材料蒸汽，透过金属光罩的开孔沉积在玻璃基板上。这些有机小分子的相对分子质量通常在100～1000之间，也有的有机小分子相对分子量接近2000。常见的有机蒸镀材料有：芳香族化合物，例如苯、8-羟基喹啉铝(AIQ)、1,2,4-三唑衍生物(TAZ)、以及PBD、Beq2、DPVBi等；芳香脂、芳香多胺类、三苯胺衍生物，又例如：N，N-双(3-甲基苯基)-N，N-二苯基-1,1-二苯基-4,4-二胺(简称TPD)、N，N-双(1-奈基)-N，N-二苯基-1,1-二苯基-4,4-二胺(简称NPD)等)。而这种OLED金属掩模版具有精细、脆弱、超薄等特点，经过一段时间的蒸镀其金属掩模版上面的有机材料累积到一程度后则需要清洗。
目前金属掩模版清洗工艺普遍采用湿式药液浸泡清洗，清洗后的药液采取直接排放，浪费程度高，清洗效率低。
发明内容
本采用清洗和再生一体化的方式，纯化过滤金属掩模版的清洗药液，解决OLED金属掩模版清洗过程中药液不可以循环利用、清洗效率低等问题，
这种金属掩模版清洗装置包括，
至少一个清洗槽，其装有用于清洗所述金属掩模版第一药液；
至少一个分离槽，用于清洗所述金属掩模版后、含有有机杂质的所述第二药液储存和再生；所述第二药液液面高于所述第一药液液面；
装设于所述清洗槽和所述分离槽之间的过滤器，用于使所述第二药液通过所述过滤器而恢复对所述金属掩模版的清洗能力，再生为第一药液。
优选地，所述过滤器装设有滤网、微滤膜、超滤膜或纳滤膜中至少一种。
优选地，所述第一药液含有环己酮或四氟乙烷；所述有机杂质的相对分子质量为100～2000。
优选地，两个或两个以上的分离槽之间还装设有所述过滤器，用于对所述第二药液进行分级处理。
优选地，所述清洗槽与所述分离槽之间还设有输液组件，用于将清洗槽中清洗金属掩模版后的第二药输液组件至所述分离槽中。
优选地，所述分离槽还装设有增压器，用于对所述第二药液加压，提高所述第二药液通过所述过滤器的效率。
有益效果：
本发明通过提供一清洗装置，解决OLED金属掩模版现有直排式清洗方式清洗效果差、清洗周期长、药液不可循环利用等问题。本发明的清洗装置灵活多变，可根据工艺条件和实际需要，对清洗槽、分离槽的进行不同组合方式调整，保证连续不断的清洗作业，实现避免药液直排浪费的同时提高清洗效率。
附图说明
图1为本发明实施例1的清洗装置结构示意图。
图2为本发明实施例2的清洗装置结构示意图。
具体实施方式
下面，将结合附图对本发明实施例作详细说明。
实施例1
如图1所示，本实施例的OLED金属掩模版采用双槽设计，即具体包括：清洗槽10、分离槽20以及连接于所述清洗槽10、分离槽20之间的过滤器30。
其中，清洗槽10其装有用于清洗所述金属掩模版11第一药液A。在本实施例中，第一药液A的有效成分为环己酮(一般浓度达到98vt％)，其对金属掩模版11具有良好的切入性，与常用的有机蒸镀材料具有良好的相容性，且沸点高、不易挥发等特性使得环己酮成为常用的金属掩模版清洗的主要成分。在实际使用中，为了适应金属掩模版11的构型和清洗方式，在本实施例中清洗槽10设计为“高而窄”的筒状或箱状结构。这种清洗槽10一方面能减缓第一药液A的挥发速度，另一方面使得金属掩模版11在其中进行上下往复运动的清洗过程，始终保证能浸润在第一药液A中。
分离槽20用于储存所述金属掩模版11清洗后、含有有机杂质的第二药液B。金属掩膜板11的有机物质洗脱并进入第一药液A后形成第二药液B，故此，所述第二药液B除了含有环己酮，还含有从金属掩模版11上洗脱下来的有机杂质，即蒸镀在金属掩模版11上面的有机小分子，例如芳香族化合物(例如苯、AIQ、TAZ、PBD、Beq2、DPVBi等)、芳香脂、芳香多胺类、三苯胺衍生物(例如TPD、NPD、NPB等)这些有机小分子的相对分子质量通常在100～1000之间。
过滤器30装设于所述清洗槽10和所述分离槽20之间。通过使第二药液B流经过滤器30后去除有机杂质、保留有效成分，从而达到恢复所述第二药液B对所述金属掩模版11的清洗能力，使第二药液B再生为第一药液A而重新回流至清洗槽10中循环再用。其中，本实施例的过滤器30装设有孔径为10nm以下的纳滤膜(图中未示出)，能适用于分子量1000以下的物质分离提纯，对于一些偶极矩越高的有机分子截留率越低。即，利用这种纳滤膜将第二药液B中的有机杂质截留在分离槽20中，而使绝大部分的环己酮能通过纳滤膜后，恢复清洗能力重新进入到清洗槽10中。这种纳滤膜可方便拆装、更换。
在其他实施例中，还可以有针对性地因应不同有机杂质和药液采用不同的过滤材料，例如滤网、微滤膜、超滤膜、交换树脂或其他高效滤网、半透膜、等过滤效果良好、透过尺寸可控、具有选择透过性地材质。例如，溶解了大量有机杂质的第二药液，其往往呈现凝胶状，甚至有固体析出，此时可以通过滤网进行固液分离，去除大颗粒的固体，再利用微滤膜、超滤膜对不同分子直径的选择透过性来实现有机材料与不同的清洗药液进行分离。
为了使得第二药液B能依靠自身重力驱使其自然流经所述过滤器30，所述第二药液B液面需高于所述第一药液A液面，故此，分离槽20与清洁槽10的设计上应具有落差。进一步地，过滤器30优选装设在分离槽20的底部、清洗槽10的中上部，并高于第一药液A的液面为佳。
仅仅依靠第二药液B自身的重力驱动其通过过滤器30再生效率较为缓慢，为提高第二药液再生效率，也可以在所述分离槽20上方可增设一活塞50作为增压器，用于对所述第二药液B加压，提高所述第二药液B通过所述过滤器30的效率。
进一步地，为了方便地将清洗槽10中使用后的第二药液B移至分离槽20中，所述清洗槽10与所述分离槽20之间设有输液组件40，将清洗槽10中清洗金属掩模版11后的第二药液B输液组件至所述分离槽20中储存。
下面，将介绍本实施例的清洗装置对金属掩模版的清洁步骤，在对一件金属掩模版清洗的过程中，为确保清洗效果也可以采用两套、或两套以上结构相同或相似的清洗装置。
S1：如图1所示安装清洗装置，在清洗槽10中注入适量的第一药液A，保证置入的金属掩模版11即使作上下运动也能完全浸没在第一药液A中。
S2；将通过缆绳12固定的金属掩模版11传递至清洗槽10上方，并缓缓浸入所述清洗槽10的第一药液A液面以下，轻拉缆绳12使金属掩模版11在第一药液A内进行上下往复运动约1小时，通过药液不断浸润、浸泡将金属掩模版上黏附的有机材料去除。
然后将金属掩模版11拉起，通过缆绳12传递至另一套清洗装置(图1中未示出)的清洗槽中，重复上述步骤，彻底清洗去除黏附有机材料。
S3：清洗完成后，此时第一药液A由于有机杂质的进入已转化为第二药液B。取出所述金属掩模版11后，开动输液组件40，使含有有机杂质的第二药液从B清洗槽输送至分离槽20。进入分离槽20的第二药液B开始流向过滤器30，依靠自身重力经过纳滤膜进行再生。纳滤膜截留分子量较大的有机杂质，让绝大部分的环己酮通过，形成再生后的第一药液A重新流入清洗槽10中循环再用。在再生过程中，可在输液组件40停止工作的情况下，开启活塞50对第二药液B施压，促使第二药液B尽快通过过滤器30。
通过过滤器30再生的药液，可通过肉眼初步判断其清洗能力是否得到恢复。本领域技术人员可知，纯净的环己酮为透明无色液体，经过对金属掩膜版的清洗后，由于混有杂质而显示黄色、棕色或棕黑色。通过过滤器的纳滤膜再生后，若药液的颜色恢复至澄清、透明无色则表明其中的有机杂质已去除，能再次用于金属掩模版的清洗。
完成再生后对分离槽20和过滤器30进行清洗，可反复再用。一段时间后，当发现过滤速度大幅降低、或过滤出的药液颜色较深，则表明过滤器的性能降低，更换新的纳滤膜即可。
实施例2
本实施例可以因应实际需要而做出各种变化和调整，尤其是对于含有粉尘较多、颗粒较大的金属掩膜版的清洗方案改进。如图2所示，本实施例的金属掩模版清洗装置，包括清洗槽10，还包括：
第一分离槽21和第二分离槽22，用于储存清洗所述金属掩模版11后、含有有机杂质的所述第二药液B；所述第二药液B液面高于所述第一药液A液面；第二分离槽22中药液的液面高于所述第一分离槽21中药液液面。
所述清洗槽10和所述第一分离槽21之间、所述第一分离槽21和第二分离槽22之间分别装设有第一过滤器31、第二过滤器32，用于使所述第二药液B通过二级过滤而恢复对所述金属掩模版的清洗能力，再生为第一药液A。其中，第一过滤器31中安装有纳滤膜；第二过滤器32中安装有滤网、微滤膜等能截留粉尘的材质。
在所述清洗槽10与所述第二分离槽22之间安装输液组件40。
具体清洗步骤为：完成清洗的第二药液B可先通过输液组件40输送至第二分离槽22中，经过第二过滤器32过滤大颗粒的粉尘。此时经过了第二分离槽22初步过滤后的第二药液B继续流入第一分离槽21中，通过第一过滤器31过滤有机杂质，再生为第一药液A。当然，在其他实施例中，还可以在清洗槽上方并列安装若干个分离槽，加快第二药液再生的速度。本领域技术人员，还可以通过多个清洗槽、分离槽的多种组合方式，保证连续不断的清洗作业，实现避免药液直排浪费的同时提高清洗效率。

Claims (6)

1.一种金属掩模版清洗装置，其特征在于，包括
至少一个清洗槽(10)，其装有用于清洗所述金属掩模版(11)第一药液(A)；
至少一个分离槽(20)，用于清洗所述金属掩模版(11)后、含有有机杂质的所述第二药液(B)储存和再生；所述第二药液(B)液面高于所述第一药液(A)液面；
装设于所述清洗槽(10)和所述分离槽(20)之间的过滤器(30)，用于使所述第二药液(B)通过所述过滤器(30)而恢复对所述金属掩模版(11)的清洗能力，再生为第一药液(A)。
2.根据权利要求1所述金属掩模版清洗装置，其特征在于，所述过滤器(30)装设有滤网、微滤膜、超滤膜或纳滤膜中至少一种。
3.根据权利要求2所述金属掩模版清洗装置，其特征在于，所述第一药液(A)含有环己酮或四氟乙烷；所述有机杂质的相对分子质量为100～2000。
4.根据权利要求1所述金属掩模版清洗装置，其特征在于，两个或两个以上的分离槽之间还装设有所述过滤器，用于对所述第二药液(B)进行分级处理。
5.根据权利要求1或4所述金属掩模版清洗装置，其特征在于，所述清洗槽(10)与所述分离槽(20)之间还设有输液组件(40)，用于将清洗槽(10)中清洗金属掩模版(11)后的第二药液(B)输送至所述分离槽(20)中。
6.根据权利要求1或4所述金属掩模版清洗装置，其特征在于，所述分离槽(20)还装设有增压器，用于对所述第二药液(B)加压，提高所述第二药液(B)通过所述过滤器(30)的效率。
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