CN104487394A - 精细加工方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供对于任意基材均可简便地在表面形成精细的周期结构的精细加工方法。在基材11上涂布玻璃前体12，对玻璃前体12照射短脉冲激光。通过照射短脉冲激光，玻璃前体12活化，发生热反应，可简便地在表面形成精细的周期结构。此外，通过在基材上形成精细的周期结构后进行氧化处理，可在维持精细周期结构的状态下改善表面的颜色。

Description

精细加工方法
技术领域
本发明涉及在表面形成精细的周期结构的精细加工方法。
背景技术
目前，作为纳米结构的加工方法，报告了通过照射短脉冲激光在金属表面(参照专利文献1、2和非专利文献1)或半导体表面(参照专利文献3和非专利文献2)加工纳米结构的方法。在该方法中，在被激光照射的目标物上产生表面波，使该表面波与激光干涉，由此可加工光的波长程度的大小的周期结构。
图21~图23为用于说明通过照射短脉冲激光在金属表面形成周期结构的方法的截面图。若如图21所示地对金属材料101照射短脉冲激光，则表面吸收激光，由此如图22所示地产生电子的疏密分布，产生具有波长程度的周期的表面等离激元。然后，如图23所示地在电子密度高的部位产生库仑爆炸，在金属材料101上形成精细的周期结构。
这样的加工方法可简便地得到周期结构，虽然可进行大面积的精细加工，但对玻璃等透过激光的材料的精细加工因不产生表面波而无法进行。
作为对玻璃的纳米结构加工方法，报告了可通过光刻法进行加工(例如参照专利文献4)。但是，需要通过抗蚀剂成膜或曝光的方法维持精度。另外，由于加工目标物需要为不具有曲率的平面，所以加工目标物的用途受到限制。此外，在加工目标物大型化的情况下，装置变得非常贵。
另外，在专利文献5中记载了在表面附着颜料后对玻璃进行孔穴加工，但必须除去颜料。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2006-235195号公报
专利文献2：日本特开2010-152296号公报
专利文献3：日本特开2003-211400号公报
专利文献4：日本特开2006-346748号公报
专利文献5：日本特开2002-028799号公报
非专利文献
非专利文献1：K. okamuro等人 PhysRevB 82 165417 2010
非专利文献2：G. Miyagi, ApplPhysA 80 17 2005。
发明内容
发明所要解决的课题
本发明鉴于这样的目前的实际情况而提出，提供对于任意基材均可简便地在表面形成精细的周期结构的精细加工方法。
解决课题的手段
本发明人进行了深入研究，结果发现：通过在基材上涂布吸收光的玻璃前体，对于任意基材均可简便地在表面形成精细的周期结构。此外，发现：通过在基材上形成精细的周期结构后进行氧化处理，可在维持精细周期结构的状态下改善表面的颜色(色味)。
即，本发明所涉及的精细加工方法的特征在于，具有：在基材上涂布玻璃前体的涂布工序和对所述玻璃前体照射短脉冲激光的照射工序。
另外，本发明所涉及的精细加工方法的特征在于，具有：对涂布于基材上的玻璃前体照射短脉冲激光的照射工序和氧化处理所述照射工序后的玻璃前体的氧化处理工序。
发明的效果
根据本发明，无需光刻法等复杂的方法而用照射短脉冲激光的简便方法，对于任意基材均可在表面形成精细的周期结构。此外，通过在基材上形成精细的周期结构后进行氧化处理，可在维持精细周期结构的状态下改善表面的颜色。
附图说明
图1为示出涂布工序的概要的截面图。
图2为示出照射工序的概要的截面图。
图3为示出精细加工的概要的截面图。
图4为示出射出短脉冲激光的光学装置的概要的图。
图5为示出通过TEM-EDS得到的有色成型体的截面Si分布的照片。
图6为示出通过TEM-EDS得到的有色成型体的截面的O分布的照片。
图7为实施例1的加工表面的SEM照片。
图8为实施例1的加工表面的元素分析数据。
图9为实施例2的加工表面的SEM照片。
图10为实施例3的加工表面的SEM照片。
图11为实施例3的加工表面的元素分析数据。
图12为比较例1的加工表面的SEM照片。
图13为示出样品1~3的反射率的曲线图。
图14为示出样品1的截面图。
图15为示出样品2的截面图。
图16为示出样品3的截面图。
图17为示出实施例1的热处理的温度概况的图。
图18为在白纸上放置实施例3的热处理前和热处理后的样品时的照片。
图19为在黑纸上放置实施例3的热处理前和热处理后的样品时的照片。
图20为在黑纸上放置比较例1的热处理前和热处理后的样品时的照片。
图21为示出对金属表面照射激光的概要的截面图。
图22为示出金属表面吸收激光的概要的截面图。
图23为示出金属表面的精细加工的概要的截面图。
具体实施方式
以下，对于本发明的实施方式，在参照附图的同时按照下列顺序详细地进行说明。
1. 精细加工方法
1.1 第1实施方式
1.2 第2实施方式
2. 结构体
3. 实施例
<1. 精细加工方法>
[第1实施方式]
作为本发明的第1实施方式示出的精细加工方法具有：在基材上涂布玻璃前体的涂布工序和对所述玻璃前体照射短脉冲激光的照射工序。以下，对各工程进行说明。
图1为示出涂布工序的概要的截面图。在该涂布工序中，在基材11上涂布玻璃前体12。
作为基材11，无特殊限制，透明材料或不透明材料均可使用。在本实施方式中，使用透过激光的透明材料，特别是适合使用与玻璃前体12转化的玻璃同质的玻璃。
作为玻璃前体12，使用具有胺基等非共享电子对、具有光吸收能力的分子结构的材料。作为玻璃前体12的具体实例，可列举出全氢聚硅氮烷(PHPS)、甲基氢聚硅氮烷(MHPS)等以-(SiH2NH)-为基本单元的聚硅氮烷。在本实施方式中，特别优选使用转化为具有优异的光学特性的二氧化硅(SiO2)的全氢聚硅氮烷。
另外，玻璃前体12可添加有钯、胺等催化剂。另外，作为玻璃前体12的溶剂，可使用二甲苯、二丁基醚等。另外，作为玻璃前体12的涂布方法，可适宜使用辊式涂布、流动涂布、喷雾涂布、涂抹等。另外，玻璃前体12的涂布厚度优选为100nm~5μm左右。在玻璃前体12的涂布厚度低于100nm的情况下，难以在表面形成精细的周期结构；另外，在玻璃前体12的涂布厚度超过5μm的情况下，有在表面产生裂纹之虞。
图2为示出照射工序的概要的截面图。在该照射工序中，对玻璃前体12照射短脉冲激光。通过照射短脉冲激光，玻璃前体12的非共享电子对活化，发生热反应，可如图3所示简便地在表面形成精细的周期结构13。另外，由于残存于基材上11的玻璃前体12通过照射短脉冲激光转化为玻璃，所以可作为玻璃皮膜起作用。
图4为示出射出短脉冲激光的光学装置的概要的图。激光器本体20例如射出在垂直方向上线偏振的激光，使用波长板21 (λ/2波长板)，旋转偏振方向，由此可得到所希望的方向的线偏振光。另外，通过使用λ/4波长板代替λ/2波长板，可得到圆偏振光。另外，在本装置中，使用具有四边形的开口的孔眼22，将激光的一部分排出。由于激光的强度分布变为高斯分布，所以这使得通过仅使用其中央附近，得到面内强度分布均匀的激光。另外，在本装置中，使用直交的2片柱面透镜23，将激光集中，由此可产生所希望的射束大小。
使用这样的装置，以规定的流量对玻璃前体12照射规定波长的超短脉冲激光，由此可在激光照射区域形成比该规定波长小的大小的周期结构。
流量(fluence)为用每1脉冲的激光的能量E (J)除以照射截面积S (cm2)而得到的能量密度E/S (J/cm2)。虽然规定的流量的范围因材料而不同，但优选为0.01J/cm2~1.0J/cm2左右，更优选为0.05J/cm2~0.5J/cm2。另外，虽然照射脉冲数取决于流量或周期结构的加工深度，但优选为50以上。另外，脉冲宽度(脉冲持续时间)优选短的脉冲宽度，优选为0.01皮秒~100皮秒左右，更优选为0.01皮秒~5皮秒。另外，考虑加工时间，脉冲频率优选为1kHz以上。另外，波长例如可根据所希望的周期结构选择800nm、400nm、266nm等。
另外，射束斑优选为四边形形状。该射束斑的形状调整例如可通过孔眼22或柱面透镜23等来进行。另外，射束斑的强度分布优选尽可能均匀。由此，可使形成的凹凸的深度等的面内分布均匀。在射束斑的大小将四边形的x轴方向和y轴方向分别计为Lx、Ly，将激光的扫描方向计为y轴方向，将Lx的大小计为周期结构的形成区域的1/N (N为自然数)时，可通过N次扫描形成周期结构。Ly的大小可通过支架速度或激光强度、脉冲频率等适宜确定，例如为30~500μm左右。
另外，在照射工序后，优选进行将在表面形成有周期结构的成型体加热的煅烧工序。作为加热温度，优选为200℃~1600℃左右。通过这样进行煅烧，可提高成型体的致密性，提高耐热性和透光性。
根据第1实施方式的精细加工方法，可无需光刻法等复杂的方法而通过照射短脉冲激光的简便的方法，在表面形成纳米周期结构。另外，由于可在常温常压下进行加工，所以可对大面积目标物或自由曲面目标物进行加工，可应用于各种领域。
[第2实施方式]
作为本发明的第2实施方式示出的精细加工方法具有：在基材上涂布玻璃前体的涂布工序，对所述玻璃前体照射短脉冲激光的照射工序，和氧化处理通过照射工序形成的精细的周期结构的氧化处理工序。
由于涂布工序和照射工序与上述的第1实施方式相同，所以在此处省略说明。
在氧化处理工序中，氧化处理在表面形成有周期结构的成型体。由此，可改善通过照射短脉冲激光形成的精细周期结构的有色部分的颜色。作为氧化处理，可列举出退火处理、照射紫外线、等离子体处理、电晕处理、涂布氧化剂等。
此处，对精细周期结构的有色部分进行叙述。在对玻璃前体照射短脉冲激光制备的精细周期结构中，有时会产生有色部分。本研究人通过截面元素分析查明该有色部分为Si或SiO。
图5为示出通过TEM-EDS (透射型电子显微镜)得到的有色成型体的截面的Si分布的照片，图6为示出通过TEM-EDS得到的有色成型体的截面的O分布的照片。由有色成型体的Si分布和O分布可知：在精细周期结构的有色部分中存在Si析出、O缺失的Si或SiO的部分。考虑其原因在于：在PHPS (全氢聚硅氮烷)通过与H2O的反应转化为SiO2时，由于通过用短脉冲激光的加工引起的急剧的能量反应，来源于H2O的O不足，结果Si或SiO析出。在下列化学式(1)中示出PHPS通过与H2O的反应转化为SiO2的转化反应，在下列化学式(2)和化学式(3)中示出PHPS通过短脉冲激光分别转化为Si和SiO的转化反应：
-(SiH2NH)- + 2H2O → SiO2 + NH3 + 2H2　(1)
-(SiH2NH)- + E → Si + NH3  (2)
-(SiH2NH)- + E + H2O → SiO + NH3 + H2　(3)。
在本实施方式中，通过氧化处理使有色部分的Si或SiO反应为SiO2，使有色部分变为无色。在下列化学式(4)和化学式(5)中分别示出Si和SiO的氧化反应：
Si + O2 → SiO2　(4)
2SiO + O2 → 2SiO2　(5)。
在本实施方式中，在上述的氧化处理中，也优选使用简便的退火处理。退火处理的温度只要是转化为SiO2的条件即可，优选为200℃以上且1600℃以下，更优选为300℃以上且550℃以下。若设为过高温度，则会导致裂缝的产生。另外，在冷却时优选进行缓慢冷却。若进行急剧的冷却，则有时会产生裂缝。
另外，退火处理优选在氧气氛下进行。由此，可确实地使有色部分变为无色。需说明的是，在氧不存在的气氛下，有色部分有时也会变为透明，其原因在于：在加工的精细周期结构中有时会独立存在氧原子·氧分子。
通过这样退火处理对玻璃前体照射短脉冲激光而制备的精细周期结构，可使有色部分变为无色。另外，可提高具有精细周期结构的成型体的致密性，提高耐热性和透光性。
根据本实施方式的精细加工方法，可无需光刻法等复杂的方法而通过照射短脉冲激光的简便的方法，在表面形成纳米周期结构。另外，由于可在常温常压下进行加工，所以可对大面积目标物或自由曲面目标物进行加工。此外，由于具有精细周期结构的结构体的透明性提高，所以使得可应用于各种领域。
<2. 结构体>
接着，对通过上述的精细加工方法形成有周期结构的结构体进行说明。本实施方式的结构体周期性地在表面具有间距宽度为50~1000nm和深度为10~1000nm的线状凸起或点状凸起。另外，由于这样的凹凸形状在间距、角度这两方面具有适度的波动，所以例如可抑制干涉光的产生。
特别优选使用二氧化硅(SiO2)作为基材11，使用转化为二氧化硅的全氢聚硅氮烷作为玻璃前体12，由此可比目前简便地在玻璃表面形成周期结构。另外，形成有周期结构的结构体在相当于可见光的波长范围的300nm~800nm的范围内可实现1%以下的反射率。因此，可应用于汽车的挡风玻璃、太阳能发电的吸热管的表面玻璃、具有防反射功能的光学元件等。
在例如应用于汽车的挡风玻璃的情况下，可通过在表面形成周期结构提高与水的接触角，使接触角为90度以上、更优选为110度以上且130度以下，由此可得到优异的疏水性。另外，通过适当地改变周期结构的深度，可降低与水或油的接触角，使接触角为30度以下、更优选为15度以下，由此可得到优异的亲水性。另外，通过使周期结构的间距宽度为350nm以下，可赋予相对于可见光线的防反射功能。
另外，在例如应用于薄膜型太阳能发电的基板玻璃的情况下，通过形成具有间距为0.5μm左右的精细格子的周期结构，可有效地吸收太阳光线的峰值波长的0.5μm附近的光。
另外，在例如应用于具有防反射功能的光学元件的情况下，通过形成比入射光的波长短的周期性的结构，在可赋予防反射功能的同时，通过该周期的适度的波动，可抑制干涉色的产生。
另外，在例如应用于太阳能发电的吸热管的表面玻璃的情况下，由于可见光的波长范围的反射率低，所以可得到优异的热吸收性能。另外，相对于使用不耐热的UV压印的表面形状形成方法，可得到优异的耐热性。
实施例
<3. 实施例>
[第1实施例]
以下对本发明的第1实施例进行详细说明。在第1实施例中，在基材上涂布玻璃前体，照射短脉冲激光，使用场发射型扫描电子显微镜(FE-SEM：Field Emission-Scanning Electron Microscope，日立制作所制S-4700型)对精细结构进行表面观察和元素分析。需说明的是，本发明并不限定于这些实施例。
[实施例1]
使用玻璃作为基材，使用全氢聚硅氮烷作为玻璃前体。在玻璃上涂布全氢聚硅氮烷，从全氢硅氮烷侧照射短脉冲激光。照射条件设为：流量为0.2J/cm2，照射脉冲数为70，脉冲宽度为200fs，频率为1kHz，波长为390nm，射束斑为300μm×120μm。
由图7所示的SEM照片可确认：形成周期为100nm左右的精细结构。另外，由图8所示的元素分析数据可确认：表面的全氢聚硅氮烷全部变为二氧化硅(SiO2)。
[实施例2]
将短脉冲激光照射条件的照射脉冲数设为150，除此之外，与实施例1相同地进行精细加工。由图9所示的SEM照片可确认：形成周期为100nm左右的精细结构。
[实施例3]
将短脉冲激光照射条件的照射脉冲数设为300，除此之外，与实施例1相同地进行精细加工。由图10所示的SEM照片可确认：形成周期为100nm左右的精细结构。另外，由图11所示的元素分析数据可确认：表面的全氢聚硅氮烷全部变为二氧化硅(SiO2)。需说明的是，由于Pt和Pd为SEM测定用的溅射成分，所以可忽略。
[比较例1]
在玻璃上未涂布全氢聚硅氮烷，除此之外，与实施例1相同地进行精细加工。由图12所示的SEM照片可确认：未形成精细结构。
由以上结果可知：通过在基材上涂布玻璃前体，照射短脉冲激光，从而可形成周期性的精细结构。另外，可知：若增加脉冲数，则周期结构的深度变深。另外，可知：玻璃前体通过照射短脉冲激光而完全转化为二氧化硅。
[反射率的测定]
接着，对于由光学用途的白色玻璃构成的样品1、具有防反射膜的样品2和在表面形成有周期性的精细结构的样品3，测定反射率和浊度。反射率的测定使用反射测定系统(日本分光(株)制，V-670)，对于波长为300~800nm的范围进行。浊度的测定使用浊度计(村上色彩技术研究所社制，HM-150)，依据JIS K 7136，通过用散射光透过率的值除以总光线透过率的值来计算。
图13为示出样品1~3的反射率的曲线图。如图14所示，样品1为由SiO2构成的光学用途的白色玻璃。样品1的反射率在波长为300~800nm的范围内显示4%以上的值，波长为550nm时的反射率为4.37%。另外，样品1的浊度为0.2。
如图15所示，样品2是在由PET (聚对苯二甲酸乙二醇酯)构成的基材上层压Dry-AR (Anti-Reflection (防反射))层而成。Dry-AR层通过干式制法形成多层膜，通过利用光学干涉，降低反射强度。另外，对形成有Dry-AR层的PET基材的相反侧的面实施AG (Anti-Glare(防眩))加工，利用在表面形成的凹凸，使光散射。样品2的反射率在波长为450~700nm的范围内显示1%以下的值，波长为550nm时的反射率为0.21%。但是，波长超过700nm时的反射率超过1%，另外波长低于450nm时的反射率超过1%，波长为400nm时的反射率为10%左右。另外，样品2的浊度为3.0。
如图16所示，样品3在由SiO2构成的光学用途的白色玻璃表面形成具有周期性的精细结构的防反射膜。该样品3如下制备：在白色玻璃基材上将全氢聚硅氮烷涂布于玻璃上，从全氢硅氮烷侧照射短脉冲激光。照射条件设为：流量为0.2J/cm2，照射脉冲数为70，脉冲宽度为200fs，频率为1kHz，波长为390nm，射束斑为300μm×120μm。另外，将该成型体于550℃的温度下进行1小时的煅烧。样品3的反射率在波长为300~800nm的范围内显示1%以下的值，波长为550nm时的反射率为0.52%。另外，样品3的浊度为2.2。
根据以上结果，由于在玻璃表面形成有周期性的精细结构的样品3在宽波段范围内显示低反射率，所以作为透镜等光学元件的防反射膜有用。
[第2实施例]
以下对本发明的第2实施例进行详细说明。在第2实施例中，在基材上涂布玻璃前体，照射短脉冲激光形成精细结构，从而制备样品，进行热处理(退火)作为样品的氧化处理。需说明的是，本发明并不限定于这些实施例。
[各样品的评价]
各样品的总光线透过率使用浊度计(村上色彩技术研究所社制，HM-150)，依据JIS K 7136进行测定。另外，使用反射测定系统(日本分光(株)制，V-670)，测定波长为550nm时各样品的反射率。各样品的颜色和裂纹的有无通过目视观察样品表面进行评价。
[实施例11]
使用玻璃作为基材，使用全氢聚硅氮烷作为玻璃前体。在玻璃上涂布全氢聚硅氮烷，从全氢硅氮烷侧照射短脉冲激光，制备在基材上形成有精细结构的样品。照射条件设为：流量为0.2J/cm2，照射脉冲数为70，脉冲宽度为200fs，频率为1kHz，波长为390nm，射束斑为300μm×120μm。
在将实施例11的样品于室温下干燥24小时后，在大气气氛下，在600℃、1小时的退火条件下进行热处理。图17为示出实施例1的热处理的温度概况的图。在大气气氛下，用60分钟从室温升温至600℃，在将600℃维持1小时后，通过放冷降温至室温。热处理后的样品的总光线透过率为92.1%，反射率(550nm)为0.5%。另外，样品的颜色为透明，在样品表面确认有裂缝。
[实施例12]
在大气气氛下，在550℃、2小时的退火条件下进行热处理，除此之外，与实施例11相同地进行样品处理。热处理后的样品的总光线透过率为92.0%，反射率(550nm)为0.5%。另外，样品的颜色为透明，在样品表面确认有裂缝。
[实施例13]
在大气气氛下，在550℃、1小时的退火条件下进行热处理，除此之外，与实施例11相同地进行样品处理。热处理后的样品的总光线透过率为92.1%，反射率(550nm)为0.5%。另外，样品的颜色为透明，在样品表面未确认有裂缝。
图18为在白纸上放置实施例13的热处理前和热处理后的样品时的照片，图19为在黑纸上放置实施例13的热处理前和热处理后的样品时的照片。如图18和图19所示，热处理前的褐色通过热处理而变为透明。
[实施例14]
在大气气氛下，在500℃、2小时的退火条件下进行热处理，除此之外，与实施例11相同地进行样品处理。热处理后的样品的总光线透过率为92.1%，反射率(550nm)为0.5%。另外，样品的颜色为透明，在样品表面未确认有裂缝。
[实施例15]
在大气气氛下，在500℃、1小时的退火条件下进行热处理，除此之外，与实施例11相同地进行样品处理。热处理后的样品的总光线透过率为92.1%，反射率(550nm)为0.5%。另外，样品的颜色为透明，在样品表面未确认有裂缝。
[实施例16]
在大气气氛下，在400℃、2小时的退火条件下进行热处理，除此之外，与实施例11相同地进行样品处理。热处理后的样品的总光线透过率为90.5%，反射率(550nm)为0.5%。另外，样品的颜色为淡褐色，在样品表面未确认有裂缝。
[实施例17]
在大气气氛下，在300℃、2小时的退火条件下进行热处理，除此之外，与实施例11相同地进行样品处理。热处理后的样品的总光线透过率为89.4%，反射率(550nm)为0.7%。另外，样品的颜色为淡褐色，在样品表面未确认有裂缝。
[比较例11]
在氮气氛下，在500℃、1小时的退火条件下进行热处理，除此之外，与实施例11相同地进行样品处理。热处理后的样品的总光线透过率为88.5%，反射率(550nm)为0.7%。另外，样品的色调为淡褐色，在样品表面未确认有裂缝。
图20为在黑纸上放置比较例11的热处理前和热处理后的样品时的照片。如图20所示，由于在气氛中氧不足，所以热处理前的褐色未通过热处理而变为透明。
[比较例12]
不进行热处理，除此之外，与实施例11相同地进行样品处理。样品的总光线透过率为87.5%，反射率(550nm)为0.8%。另外，样品的颜色为褐色，在样品表面未确认有裂缝。
在表1中示出实施例11~16和比较例11、12的评价结果。
如实施例11~16所示，可知：通过进行氧化处理，可在维持精细周期结构的状态下提高表面的透明性。另外，如实施例14~17那样，可知：通过将退火温度设为300℃~550℃，可抑制表面的裂纹。
标记说明
11　基材，12　玻璃前体，13　周期结构，20　激光器本体，21　波长板，22　孔眼，23　柱面透镜，24　线性支架，30　样品，101　金属材料。

Claims (13)

1. 精细加工方法，其中，所述方法具有：
在基材上涂布玻璃前体的涂布工序，和
对所述玻璃前体照射短脉冲激光的照射工序。
2. 权利要求1的精细加工方法，其中，所述玻璃前体为聚硅氮烷。
3. 权利要求2的精细加工方法，其中，所述基材为玻璃。
4. 权利要求3的精细加工方法，其中，所述短脉冲激光的射束斑为四边形形状。
5. 权利要求1~4中任一项的精细加工方法，其中，所述短脉冲激光的脉冲宽度为0.01皮秒~100皮秒。
6. 权利要求1~5中任一项的精细加工方法，其中，所述方法具有加热所述照射工序后的基材的煅烧工序。
7. 防反射膜，其中，所述防反射膜在玻璃表面具有精细的周期结构，300~800nm波长下的反射率为1%以下。
8. 权利要求7的防反射膜，其中，所述玻璃表面由玻璃前体形成。
9. 制备精细加工品的精细加工方法，其中，所述方法具有：
对涂布于基材上的玻璃前体照射短脉冲激光的照射工序，和
氧化处理通过所述照射工序形成的精细的周期结构的氧化处理工序。
10. 权利要求9的精细加工方法，其中，所述玻璃前体为聚硅氮烷。
11. 权利要求10的精细加工方法，其中，所述基材为玻璃。
12. 权利要求9~11中任一项的精细加工方法，其中，所述氧化处理为热处理。
13. 权利要求12的精细加工方法，其中，所述热处理在氧气氛下进行。
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