CN104447764A - 吡咯并吡咯二酮衍生物及其合成方法 - Google Patents
吡咯并吡咯二酮衍生物及其合成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104447764A CN104447764A CN201410844017.5A CN201410844017A CN104447764A CN 104447764 A CN104447764 A CN 104447764A CN 201410844017 A CN201410844017 A CN 201410844017A CN 104447764 A CN104447764 A CN 104447764A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- formula
- derivative
- branched alkyl
- compound
- phenyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 0 *C(NC(C1=C(*)N2)=O)=C1C2=O Chemical compound *C(NC(C1=C(*)N2)=O)=C1C2=O 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
- C07D487/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D487/04—Ortho-condensed systems
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
本发明涉及一种吡咯并吡咯二酮衍生物及其合成方法,所述吡咯并吡咯二酮衍生物为式Ⅰ所示化合物。制备式Ⅰ所示化合物的方法,包括①由丁二酸二异丙酯与R2CN反应,制得中间体的步骤;和②由步骤①所得中间体与卤代烷反应,制得目标物的步骤。本发明提供的吡咯并吡咯二酮衍生物在固体状态下有较强的固体荧光,并且衍生物合成方法简便,合成产率较高,在油墨、荧光标记、有机半导体光电材料等领域非常具有应用前景。式Ⅰ中,R1为C1~C20直链或支链烷基,R2为取代苯基,所述取代苯基的取代基选自:C1~C4直链或支链烷基,含氟的C1~C4直链或支链烷基,卤素或吗啉基中一种或二种以上。
Description
技术领域
本发明涉及一种吡咯并吡咯二酮衍生物及其合成方法。
背景技术
有机固态发光材料是在固体状态下受激发或自主状态下能够发光的一类有机功能材料,与无机材料相比,具有分子可修饰性强,器件可弯曲性等优点。近些年来,有机固态发光材料在光电材料领域得到科学家们的广泛关注。
吡咯并吡咯二酮类化合物来自于高性能颜料,其具有高荧光量子产率、优异的发色、耐化学溶剂、耐晒和耐老化等优良特性。但在已知的吡咯并吡咯二酮类化合物中,有些无固体荧光或有些虽有固体荧光,但固体荧光很弱。
发明内容
本发明的发明人经研究发现:一些具有特定结构吡咯并吡咯二酮衍生物具有较强固体荧光。据此,本发明的发明人设计并合成了具有较强固体荧光的吡咯并吡咯二酮衍生物。
本发明一个目的在于,提供一种结构新颖的吡咯并吡咯二酮衍生物。
本发明所述吡咯并吡咯二酮衍生物,其为式Ⅰ所示化合物:
式Ⅰ中,R1为C1~C20直链或支链烷基,R2为取代苯基,
所述取代苯基的取代基选自:C1~C4直链或支链烷基,含氟的C1~C4直链或支链烷基,卤素(F、Cl、Br或I),氰基(-CN)或哌啶基中一种或二种以上(含二种)。
本发明另一个目的在于,提供一种制备式Ⅰ所示化合物的方法,所述方法包括如下步骤:
(1)由丁二酸二异丙酯与R2CN反应,制得式Ⅱ所示化合物的步骤;和
(2)式Ⅱ所示化合物与卤代烷(R1X,X为F、Cl、Br或I)反应,制得目标物(式Ⅰ所示化合物)的步骤;
式Ⅱ中,R2的定义与前文所述相同。
附图说明
图1.是实施例2、4、6和8所制备化合物的紫外吸收光谱图;
图2.是实施例1、3、5和7所制备化合物的紫外吸收光谱图;
图3.是实施例1、3、5和7所制备化合物的荧光光谱图;
图4.是实施例2、4、6和8所制备化合物的荧光光谱图;
图5.是实施例2、4、6和8所制备化合物固体状态下的荧光光谱图;
图6.是实施例1、3、5和7所制备化合物固体状态下的荧光光谱图;
图5.和图6.中Br-DPP为对比物,其结构如下式所示:
由上述技术方案可知,本发明设计并合成了结构新颖的吡咯并吡咯二酮衍生物,该类衍生物在固体状态下有较强的固体荧光(详见图5和图6)。并且衍生物合成方法简便,合成产率较高。
本发明提供的吡咯并吡咯二酮衍生物在油墨、荧光标记、有机半导体光电材料等领域非常具有应用前景。
具体实施方式
在本发明一个优选的技术方案中,R1为C4~C12直链或支链烷基。
在本发明另一个优选的技术方案中,R2为取代苯基,
所述取代苯基的取代基选自:C1~C4直链或支链烷基,含氟的C1~C4直链或支链烷基,卤素(F、Cl、Br或I)或吗啉基中一种;
进一步优选的技术方案是:R2为取代苯基,
所述取代苯基的取代基选自:C4直链或支链烷基,含氟甲基,F或吗啉基中一种;
更进一步优选的技术方案是:R2为取代苯基,
所述取代苯基的取代基选自:叔丁基,三氟甲基,F或中一种(其中曲线标记处为取代位,下同);
最佳的R2为下列基团中一种:
下面通过实施例对本发明做进一步阐述,其目的仅在于更好理解本发明的内容。因此,所举之例并不限制本发明的保护范围。
实施例1
(1)
在三口烧瓶中,加入溶剂叔戊醇50mL,5g金属钠,在氮气保护下回流至Na反应完全(约12小时)。然后加入4-氟苯基氰(5.4g,30mmol),用滴液漏斗向三口瓶中滴加用叔戊醇稀释的丙二酸二异丙酯(3.03g,15mmol)。同时反应液在105℃氮气保护下加热回流2h,待反应液冷却后加入适量的醋酸至pH小于7,然后加入冷水使固体析出,抽滤,将滤饼烘干,得5g中间体(式Ⅱ-1所示化合物),产率为75%。
(2)
在圆底烧瓶中加入式Ⅱ-1所示化合物(0.35g,0.79mmol),叔丁醇钾(0.46g,7.9mmol),50mLCH3CN和正溴丁烷(0.32g,2.37mmol),在80下加热搅拌12h,停止加热,待反应液冷却后加入适量冷水使固体析出。抽滤将滤饼放入烘箱中干燥,后用二氯甲烷将滤饼溶解用适量无水硫酸钠干燥,经硅胶柱柱层析(展开剂:石油醚:乙酸乙酯=50:1(v/v))得到0.18g红色固体产物(式Ⅰ-1所示化合物),产率为42%。
1H NMR(400MHz,CDCl3)δ:0.892(t,J=6.8Hz,6H),1.235(m,8H),3.711(t,J=7.6Hz,4H),7.661(d,J=8.4Hz,4H),7.694(d,J=8.4Hz,4H).13C NMR(100MHz,CDCl3):δ(ppm)165.1,165.1,162.1,162.1,142.6,142.6,134.1,134.1,128.0,128.0,128.0,128.0,115.4,115.4,115.4,115.4,107.6,107.6,45.1,45.1,30.4,30.4,20.2,20.2,13.8,13.8.HRMS(ESI)Calcd.for[M+H]+C26H27F2N2O2 +437.2041,found 437.2043.
在附图中,式Ⅰ-1所示化合物简记为“F-4”。
实施例2
除以正溴十二烷替换实施例1中正溴丁烷外,其它步骤与实施例1相同,得到0.32g式Ⅰ-2所示化合物,产率为52%。
1H NMR(400MHz,CDCl3)δ:0.875(t,J=6.8Hz,6H),1.117(m,40H),3.687(t,J=7.6Hz,4H),7.559(d,J=8.4Hz,4H),7.542(d,J=8.4Hz,4H).13C NMR(100MHz,CDCl3):δ(ppm):161.3,161.3,142.6,142.6,130.5,130.5,127.8,127.8,127.8,127.8,115.4,115.4,115.4,115.4,107.6,107.6,44.5,44.5,32.5,32.5,30.3,30.3,30.3,30.3,30.3,30.3,30.3,30.3,30.0,30.0,30.0,30.0,29.9,29.9,27.8,27.8,23.1,23.1,14.0,14.0.HRMS(ESI)Calcd.for[M+H]+C42H59F2N2O2 +661.4545,found 661.4545。
在附图中,式Ⅰ-2所示化合物简记为“F-12”。
实施例3
(1)在圆底烧瓶中加入对溴苯氰(10g,0.055mol),吗啡啉(7.05g,0.083mol),CuI(1.05g,5.5mmol),L-proline(1.3g,11mmol),K2CO3(15g,0.11mol),DMF为溶剂,在氮气保护下90℃加热回流40h。停止加热,冷却,用水萃取反应液萃取3次,取有机层,再用乙酸乙酯萃取3次,取乙酸乙酯层。用无水硫酸钠干燥。硅胶柱柱层析(二氯甲烷:石油醚=20:1(v/v))得到4.3g淡黄色固体(4-吗啡啉基苯基氰),产率为42%。
(2)除以4-吗啡啉基苯基氰替换实施例1中4-氟苯基氰,及硅胶柱柱层析的展开剂为二氯甲烷外,其它步骤与实施例1相同,得到0.3g红色固体产物(式Ⅰ-3所示化合物),产率为65%。
1H NMR(400MHz,CDCl3)δ:0.892(t,J=7.2Hz,6H),1.261(m,8H),3.731(t,J=5.2Hz,8H),3.801(t,J=8.0Hz,4H),4.856(t,J=5.2Hz,8H),6.992(d,J=8.8Hz,4H),7.849(d,J=8.8Hz,4H).13C NMR(100MHz,CDCl3):161.1,161.1,143.7,143.7,142.6,142.6,127.1,127.1,127.1,127.1,124.4,124.4,113.0,113.0,113.0,113.0,107.6,107.6,71.4,71.4,71.4,71.4,58.9,58.9,58.9,58.9,44.2,44.2,32.1,32.1,20.6,20.6,13.7,13.7.HRMS(ESI)Calcd.for[M+H]+C34H43N4O4 +571.3284,found 571.3284。
在附图中,式Ⅰ-3所示化合物简记为“Morpholinyl-4”。
实施例4
除以4-吗啡啉基苯基氰替换实施例1中4-氟苯基氰,正溴十二烷替换实施例1中正溴丁烷,及硅胶柱柱层析的展开剂为二氯甲烷外,其它步骤与实施例1相同,得到0.4g暗红色固体(式Ⅰ-4所示化合物),产率为67%。
1H NMR(400MHz,CDCl3)δ:0.892(t,J=7.2Hz,6H),1.261(m,40H),3.731(t,J=5.2Hz,8H),3.801(t,J=8.0Hz,4H),4.856(t,J=5.2Hz,8H),6.992(d,J=8.8Hz,4H),7.849(d,J=8.8Hz,4H).13C NMR(100MHz,CDCl3):161.1,161.1,143.7,143.7,142.6,142.6,127.1,127.1,127.1,127.1,124.4,124.4,113.0,113.0,113.0,113.0,107.6,107.6,71.4,71.4,71.4,71.4,58.9,58.9,58.9,58.9,44.5,44.5,32.5,32.5,30.3,30.3,30.3,30.3,30.3,30.3,30.3,30.3,30.0,30.0,30.0,30.0,29.9,29.9,27.8,27.8,23.1,23.1,14.0,14.0.HRMS(ESI)Calcd.for[M+H]+C50H75N4O4 +795.5788,found 795.5788.
在附图中,式Ⅰ-4所示化合物简记为“Morpholinyl-12”。
实施例5
(1)在圆底烧瓶中加入对叔丁基苯甲酸(15g,0.084mol),AlCl3(催化量),SOCl250mol作为溶剂在氮气保护下85℃回流7h,再在该混合液中滴加浓氨水,反应45min。然后在烧瓶中加水使固体析出,过滤,得滤饼并将其烘干。将烘干后的滤饼全部加到圆底烧瓶中,再加入SOCl2(过量)和50mL的DMF作为溶剂,反应30min。停止反应后,先用水萃取3次,取有机层。再用乙酸乙酯萃取3次,取乙酸乙酯层,用无水硫酸钠干燥,硅胶柱柱层析(石油醚:乙酸乙酯=20:1(v/v))得到6.8g暗淡黄色液体(4-叔丁基苯基氰),产率为51%。
(2)除以4-叔丁基苯基氰替换实施例1中4-氟苯基氰外,其它步骤与实施例1相同,得到0.35g红色固体产物(式Ⅰ-5所示化合物),产率为78%。
1H NMR(400MHz,CDCl3)δ:0.897(t,J=7.4Hz,6H),1.262(m,8H),1.382(s,18H),3.786(t,J=7.6Hz,4H),7.573(d,J=8.4Hz,4H),7.813(d,J=8.4Hz,4H).13C NMR(100MHz,CDCl3):161.1,161.1,146.3,146.3,142.6,142.6,125.8,125.8,125.8,125.8,125.1,125.1,125.1,125.1,107.6,107.6,44.2,44.2,34.8,34.8,32.1,32.1,31.5,31.5,31.5,31.5,31.5,31.5,20.6,20.6,13.7,13.7.HRMS(ESI)Calcd.for[M+H]+C34H45N2O2 +513.3481,found 513.3481。
在附图中,式Ⅰ-5所示化合物简记为“t-Bu-4”。
实施例6
除以4-叔丁基苯基氰替换实施例1中4-氟苯基氰,及正溴十二烷替换实施例1中正溴丁烷外,其它步骤与实施例1相同,得到0.42g暗红色固体(式Ⅰ-6所示化合物),产率为66%。
1H NMR(400MHz,CDCl3)δ:0.895(t,J=6.4Hz,6H),1.261(m,40H),1.385(s,18H),3.771(t,J=7.6Hz,4H),7.573(d,J=8.4Hz,4H),7.809(d,J=8.4Hz,4H).13C NMR(100MHz,CDCl3):161.1,161.1,146.3,146.3,142.6,142.6,125.8,125.8,125.8,125.8,125.1,125.1,125.1,125.1,107.6,107.6,44.5,44.5,32.5,32.5,31.5,31.5,31.5,31.5,31.5,31.5,30.3,30.3,30.3,30.3,30.3,30.3,30.3,30.3,30.0,30.0,30.0,30.0,29.9,29.9,27.8,27.8,23.1,23.1,14.0,14.0.HRMS(ESI)Calcd.for[M+H]+C50H77N2O2 +737.5985,found 737.5985.
在附图中,式Ⅰ-6所示化合物简记为“t-Bu-12”。
实施例7
除以4-三氟甲基苯基氰替换实施例1中4-氟苯基氰外,其它步骤与实施例1相同,得到0.3g红色固体(式Ⅰ-7所示化合物),产率为68%。
1H NMR(400MHz,CDCl3)δ:0.867(t,J=7.6Hz,6H),1.288(m,8H),3.767(t,J=7.6Hz,4H),7.818(d,J=8.4Hz,4H),7.949(d,J=8.4Hz,4H).13C NMR(100MHz,CDCl3):δ(ppm)165.1,165.1,142.6,142.6,138.2,138.2,130.2,130.2,126.5,126.5,126.5,126.5,125.2,125.2,125.2,125.2,119.3,119.3,107.6,107.6,44.2,44.2,32.1,32.1,20.6,20.6,13.8,13.8.HRMS(ESI)Calcd.for[M+H]+C28H27F6N2O2 +537.1977,found 537.1977
在附图中,式Ⅰ-7所示化合物简记为“CF3-4”。
实施例8
除以4-三氟甲基苯基氰替换实施例1中4-氟苯基氰,及正溴十二烷替换实施例1中正溴丁烷外,其它步骤与实施例1相同,得到0.5g暗红色固体(式Ⅰ-8所示化合物),产率为80%。
1H NMR(400MHz,CDCl3)δ:0.893(t,J=7.2Hz,6H),1.212(m,40H),3.756(t,J=7.6Hz,4H),7.825(d,J=8Hz,4H),7.951(d,J=8Hz,4H).13C NMR(100MHz,CDCl3):δ(ppm)165.1,165.1,142.6,142.6,138.2,138.2,130.2,130.2,126.5,126.5,126.5,126.5,125.2,125.2,125.2,125.2,119.3,119.3,107.6,107.6,44.5,44.5,32.5,32.5,30.3,30.3,30.3,30.3,30.3,30.3,30.3,30.3,30.0,30.0,30.0,30.0,29.9,29.9,27.8,27.8,23.1,23.1,14.0,14.0.HRMS(ESI)Calcd.for[M+H]+C44H69F6N2O2 +761.4481.1977,found 761.4481.
在附图中,式Ⅰ-8所示化合物简记为“CF3-12”。
Claims (6)
1.一种吡咯并吡咯二酮衍生物,其为式Ⅰ所示化合物:
式Ⅰ中,R1为C1~C20直链或支链烷基,R2为取代苯基,
所述取代苯基的取代基选自:C1~C4直链或支链烷基,含氟的C1~C4直链或支链烷基,卤素或吗啉基中一种或二种以上。
2.如权利要求1所述的吡咯并吡咯二酮衍生物,其特征在于,其中R1为C4~C12直链或支链烷基。
3.如权利要求1所述的吡咯并吡咯二酮衍生物,其特征在于,其中R2为取代苯基,所述取代苯基的取代基选自:C4直链或支链烷基,含氟甲基,F或吗啉基中一种。
4.如权利要求3所述的吡咯并吡咯二酮衍生物,其特征在于,其中R2为取代苯基,所述取代苯基的取代基选自:叔丁基,三氟甲基,F或中一种。
5.如权利要求4所述的吡咯并吡咯二酮衍生物,其特征在于,其中R2为为下列基团中一种:
6.一种制备如权利要求1~5中任意一项所述吡咯并吡咯二酮衍生物的方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:
(1)由丁二酸二异丙酯与R2CN反应,制得式Ⅱ所示化合物的步骤;和
(2)式Ⅱ所示化合物与卤代烷反应,制得目标物的步骤;
式Ⅱ中,R2的定义与如权利要求1~5中任意一项所述相同。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410844017.5A CN104447764A (zh) | 2014-12-29 | 2014-12-29 | 吡咯并吡咯二酮衍生物及其合成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410844017.5A CN104447764A (zh) | 2014-12-29 | 2014-12-29 | 吡咯并吡咯二酮衍生物及其合成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104447764A true CN104447764A (zh) | 2015-03-25 |
Family
ID=52894581
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201410844017.5A Pending CN104447764A (zh) | 2014-12-29 | 2014-12-29 | 吡咯并吡咯二酮衍生物及其合成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN104447764A (zh) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105367791A (zh) * | 2015-11-04 | 2016-03-02 | 华东理工大学 | 吡咯并吡咯二酮类多孔有机聚合物及其合成方法和用途 |
CN107677659A (zh) * | 2017-09-27 | 2018-02-09 | 中南大学 | 吡咯并吡咯二酮类染料在痕量二价铜离子检测中的应用 |
CN109897043A (zh) * | 2019-03-29 | 2019-06-18 | 华东理工大学 | 含氟吡咯并吡咯二酮季铵盐类化合物及其制备方法与应用 |
CN112480123A (zh) * | 2020-11-27 | 2021-03-12 | 华东理工大学 | 基于吡咯并吡咯二酮且具有固液双荧光的酯类化合物与应用 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000222770A (ja) * | 1999-01-28 | 2000-08-11 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体およびその製造方法 |
EP1087006A1 (en) * | 1999-09-27 | 2001-03-28 | Ciba SC Holding AG | Electroluminescent devices comprising diketopyrrolopyrroles |
JP2004206893A (ja) * | 2002-12-24 | 2004-07-22 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物およびそれを使用した有機エレクトロルミネッセンス素子 |
CN1771298A (zh) * | 2003-04-10 | 2006-05-10 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 荧光二酮基吡咯并吡咯 |
CN1867315A (zh) * | 2003-10-17 | 2006-11-22 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 包含二酮基二苯基吡咯并吡咯颜料的化妆品配制物 |
CN101007943A (zh) * | 2007-01-17 | 2007-08-01 | 华南理工大学 | 吡咯并吡咯二烷酮-芴共聚物电致发光材料及其制备方法 |
JP2008174468A (ja) * | 2007-01-17 | 2008-07-31 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子用材料および有機エレクトロルミネッセンス素子 |
CN101279975A (zh) * | 2001-06-29 | 2008-10-08 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 荧光二酮吡咯并吡咯 |
JP2010192782A (ja) * | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 光電変換素子用材料及び光電変換素子 |
CN102453232A (zh) * | 2010-10-28 | 2012-05-16 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 金属卟啉-吡咯并吡咯有机半导体材料及其制备方法和应用 |
-
2014
- 2014-12-29 CN CN201410844017.5A patent/CN104447764A/zh active Pending
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000222770A (ja) * | 1999-01-28 | 2000-08-11 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体およびその製造方法 |
EP1087006A1 (en) * | 1999-09-27 | 2001-03-28 | Ciba SC Holding AG | Electroluminescent devices comprising diketopyrrolopyrroles |
CN101279975A (zh) * | 2001-06-29 | 2008-10-08 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 荧光二酮吡咯并吡咯 |
JP2004206893A (ja) * | 2002-12-24 | 2004-07-22 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物およびそれを使用した有機エレクトロルミネッセンス素子 |
CN1771298A (zh) * | 2003-04-10 | 2006-05-10 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 荧光二酮基吡咯并吡咯 |
CN1867315A (zh) * | 2003-10-17 | 2006-11-22 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 包含二酮基二苯基吡咯并吡咯颜料的化妆品配制物 |
CN101007943A (zh) * | 2007-01-17 | 2007-08-01 | 华南理工大学 | 吡咯并吡咯二烷酮-芴共聚物电致发光材料及其制备方法 |
JP2008174468A (ja) * | 2007-01-17 | 2008-07-31 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子用材料および有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2010192782A (ja) * | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 光電変換素子用材料及び光電変換素子 |
CN102453232A (zh) * | 2010-10-28 | 2012-05-16 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 金属卟啉-吡咯并吡咯有机半导体材料及其制备方法和应用 |
Non-Patent Citations (5)
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105367791A (zh) * | 2015-11-04 | 2016-03-02 | 华东理工大学 | 吡咯并吡咯二酮类多孔有机聚合物及其合成方法和用途 |
CN105367791B (zh) * | 2015-11-04 | 2017-08-25 | 华东理工大学 | 吡咯并吡咯二酮类多孔有机聚合物及其合成方法和用途 |
CN107677659A (zh) * | 2017-09-27 | 2018-02-09 | 中南大学 | 吡咯并吡咯二酮类染料在痕量二价铜离子检测中的应用 |
CN109897043A (zh) * | 2019-03-29 | 2019-06-18 | 华东理工大学 | 含氟吡咯并吡咯二酮季铵盐类化合物及其制备方法与应用 |
CN109897043B (zh) * | 2019-03-29 | 2021-08-13 | 华东理工大学 | 含氟吡咯并吡咯二酮季铵盐类化合物及其制备方法与应用 |
CN112480123A (zh) * | 2020-11-27 | 2021-03-12 | 华东理工大学 | 基于吡咯并吡咯二酮且具有固液双荧光的酯类化合物与应用 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104498025B (zh) | 多苯基苯构筑含氰基发光分子及其制备方法和用途 | |
CN104447764A (zh) | 吡咯并吡咯二酮衍生物及其合成方法 | |
CN104370974B (zh) | 一类以含氮杂环卡宾为第二主配体的铱配合物及其制备方法 | |
CN107857773B (zh) | 2-氮杂芳环取代的喹唑啉酮硼化物 | |
CN108033940B (zh) | 一种具有压致变色和溶致变色性质的荧光材料 | |
CN104447582A (zh) | 四苯基吡嗪小分子衍生物、四苯基吡嗪聚合物以及聚集诱导发光材料 | |
CN104559286B (zh) | 一种三苯胺-氟化硼络合二甲基吡咯甲川衍生物有机染料及其制备方法 | |
CN102040617B (zh) | 有机二氟化硼配合物及其制备方法 | |
CN108299507B (zh) | 含有三取代吡唑的四齿环金属铂配合物、制备方法及应用 | |
CN103183664B (zh) | 一种萘并吖啶衍生物、其制备方法、用途及有机电致发光器件 | |
TWI553003B (zh) | 2,6 -雙[3’-(n-咔唑基)苯基] 吡啶類化合物的合成方法 | |
CN105693588A (zh) | 含氟吡咯二苯乙炔类有机固体荧光化合物及合成方法和用途 | |
CN103709070B (zh) | 一种具有aie效应的新型有机化合物及其合成方法 | |
CN106748879B (zh) | 一种对硝基苯甲醛席夫碱衍生物及其制备方法与应用 | |
CN104961746B (zh) | 醌式近红外荧光化合物及其制备方法和应用 | |
CN104356055B (zh) | 一种二氢吡啶类衍生物及其合成方法与用途 | |
JP6962068B2 (ja) | イリジウム錯体化合物、該化合物を含む組成物、有機電界発光素子、表示装置及び照明装置 | |
CN115108919A (zh) | 一种有机电致发光化合物及有机电致发光器件 | |
CN104628753B (zh) | 一种meso位三苯胺类取代3,5位芳基修饰的氟化硼络合二吡咯甲川衍生物及其制备方法 | |
CN105061256B (zh) | 氰基三苯胺类有机小分子红光材料及其合成方法和用途 | |
CN111574538A (zh) | 一种d-a型近红外有机发光材料及其制备方法与应用 | |
JP6269956B2 (ja) | フリルチアゾール化合物 | |
CN109384786B (zh) | 基于咪唑的同分异构体发光分子及其制备方法与应用 | |
CN106905133B (zh) | 一种螺环芴并茚二酮类化合物及其制备方法和应用 | |
CN109233325A (zh) | 一类不对称苯并氟硼二吡咯荧光染料及其制法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20150325 |