CN104441841A - 一种仿金镀膜玻璃及其制备工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明属于真空镀膜产品技术领域，特别涉及一种仿金镀膜玻璃及其制备工艺，该仿金镀膜玻璃，包括玻璃基片，以及依次置于玻璃基片表面的亲水离化层、纯钛膜层、纯钛与氮化钛的混合膜层以及富氮热处理层。该仿金镀膜玻璃有较好的表面光泽度，且仿金色膜层的附着力强，能提供更为丰富的颜色选择效果，颜色重复性强，同时具有较强膜层结合力、更致密的表面效果，膜层更加耐磨及抗酸腐蚀等，能广泛地适用于视窗玻璃上，如手机面板，电脑触摸屏等。

Description

一种仿金镀膜玻璃及其制备工艺
技术领域
本发明属于真空镀膜产品技术领域，特别涉及一种仿金镀膜玻璃及其制备工艺。
背景技术
在现有技术中，关于玻璃仿金镀膜方面，常见有三种镀膜工艺：(1)蒸发镀膜；(2)磁控溅射；(3)与离子溅射镀膜工艺。
其中：第一、关于蒸发镀膜，蒸发镀膜工艺主要是镀制高反射的银膜，然后在银膜外表面喷涂一层调制成仿金颜色的涂层，该膜层主要存在问题是膜层的结合力不佳，硬度不足，容易因碰撞而破裂、膜层整片脱落等，所以应用范围小，不适宜于广泛应用。
第二、关于磁控溅射镀膜，磁控溅射镀膜主要存在问题是由于该工艺的离化率较低，膜层中氮化钛含量偏低，或镀制的颜色范围偏窄，另外膜层的附着力偏差，镀膜效果差。
第三、关于粒子溅射镀膜，离子溅射的膜层附着力较高，离化率也非常高，颜色效果好，但是最大的问题的其膜层粗糙度差，光泽低，外观效果不好。
因此，研发一种表面光泽度好、附着力强、膜层结合力强、高致密度的表面效果的仿金镀膜玻璃制品及其制备工艺迫在眉睫。
发明内容
本发明的第一技术目的是克服现有技术的不足，具体公开一种仿金镀膜玻璃及其制备工艺，该仿金镀膜玻璃光泽强，有较好的仿金色膜层，附着力强，有更为丰富的颜色选择效果，颜色重复性强，同时具有较强膜层结合力、更致密的表面效果，膜层更加耐磨及抗酸腐蚀等，能广泛地适用于视窗玻璃上，如手机面板，电脑触摸屏等。
为了克服上述第一技术目的，本发明是按以下技术方案实现的：
本发明所述的一种仿金镀膜玻璃，包括玻璃基片，以及依次置于玻璃基片表面的亲水离化层、纯钛膜层、纯钛与氮化钛的混合膜层以及富氮热处理层。
作为上述技术的进一步改进，所述亲水离化层为氧离子轰击处理层，厚度范围0.01～0.1微米。
作为上述技术的更进一步改进，所述纯钛膜层的厚度范围是0.02～0.1微米。
在本发明中，所述纯钛与氮化钛的混合膜层为纯钛与氮化钛的均匀混合层，该混合膜层的厚度范围是0.05～0.2微米。在本发明中，所述富氮热处理层的厚度范围是0.02～0.1微米。
本发明还公开了一种仿金镀膜玻璃的制备工艺，其具体步骤是：
(1)将玻璃基片经超声波清洗后烘干，放入真空室内抽真空；
(2)镀膜前预处理：在镀膜前，充入氧气，启动射频电源对玻璃基片的表面进行等离子亲水处理；
(3)镀制纯钛膜层：均匀镀制使纯钛膜层的厚度范围是0.02～0.1微米；
(4)再充入纯氮气，镀制钛与氮化钛混合膜层，厚度从0.05～0.2微米；
(5)充入纯氮，启动偏压电源对钛与氮化钛膜层进行富氮处理以形成富氮热处理层。
作为上述技术的进一步改进，上述步骤(1)真空室内的最高真空度是8×10-3Pa。
作为上述技术的更进一步改进，上述步骤(2)所述的预处理过程中，亲水处理时间2～5分钟。
作为上述技术的更进一步改进，上述步骤(5)中偏压电源的电压值范围是150～250V。
作为上述技术的更进一步改进，上述步骤(5)中富氮热处理层的厚度范围是0.02～0.1微米，富氮处理时间为2～5分钟。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
(1)本发明将仿金镀膜玻璃其仿金色装饰性强，且其制备生产的仿金镀膜玻璃颜色重复性强，在不同的透光率情况下也可实现；
(2)本发明中首先进行含氧气氛等离子亲水处理形成亲水离化层，使得玻璃基片与各膜层结合力更强；
(3)本发明中，不论采用何种透光率，钛氮化钛混合层厚度不变，镀膜的氮气分压不变，就能确保膜层颜色相同；此外，透光率的调节主要通过调节纯钛膜层的厚度来实现；
(4)本发明所述的仿金镀膜玻璃，其表面光泽度高，光泽更接近黄金表面，仿金效果好；
(5)本发明中，由于磁控溅射工艺离化率较低，钛与氮化钛的混合膜层镀制完成后，再进行富氮热处理，可以轻微调节最外层的氮化钛含量，可以获得更丰富的颜色选择效果，同时可消除部分膜层应力，获得更佳的膜层结合力、更致密的表面效果，膜层更加耐磨及抗酸腐蚀等；
(6)本发明的仿金镀膜玻璃不限于普通玻璃、钢化玻璃，其还能广泛地适用于视窗玻璃上，如手机面板，电脑触摸屏等。
附图说明
下面结合附图和具体实施例对本发明做详细的说明：
图1是本发明所述的仿金镀银玻璃的结构示意图。
具体实施方式
如图1所示，本发明所述的一种仿金镀膜玻璃，包括玻璃基片1，以及依次置于玻璃基片1表面的亲水离化层2、纯钛膜层3、纯钛与氮化钛的混合膜层4以及富氮热处理层5。所述亲水离化层2为氧离子轰击处理层，厚度范围是0.01～0.1微米。所述纯钛膜层3的厚度范围是0.02～0.1微米。所述纯钛与氮化钛的混合膜层4的厚度范围是0.05～0.2微米。所述富氮热处理层5的厚度范围是0.02～0.1微米。
本发明还公开了一种仿金镀膜玻璃的制备工艺，其具体步骤是：
(1)将玻璃基片1经超声波清洗后烘干，放入真空室内抽真空，该真空室内的最高真空度是8×10-3Pa；
(2)镀膜前预处理：在镀膜前，充入氧气，启动射频电源对玻璃基片1的表面进行等离子亲水处理，等离子亲水处理时间为2～5分钟，以形成亲水离化层2，该亲水离化层2厚度范围是0.01～0.1微米。
(3)镀制纯钛膜层3：均匀镀制使纯钛膜层3的厚度范围是0.02～0.1微米；
(4)再充入纯氮气，镀制钛与氮化钛混合膜层4，厚度从0.05～0.2微米；
(5)充入纯氮，启动偏压电源对钛与氮化钛膜层进行富氮处理以形成富氮热处理层5，所述偏压电源的电压值范围是150～250V。所述富氮热处理层5的厚度范围是0.02～0.1微米，富氮处理时间为为2～5分钟。
经过上述制备工艺处理出来的仿金镀膜玻璃，其附着力强，耐磨及抗酸腐蚀性能好，表面光泽度高，且光泽更接近黄金表面，仿金效果好。
本发明并不局限于上述实施方式，凡是对本发明的各种改动或变型不脱离本发明的精神和范围，倘若这些改动和变型属于本发明的权利要求和等同技术范围之内，则本发明也意味着包含这些改动和变型。

Claims (10)

1.一种仿金镀膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基片，以及依次置于玻璃基片表面的亲水离化层、纯钛膜层、纯钛与氮化钛的混合膜层以及富氮热处理层。
2.根据权利要求1所述的仿金镀膜玻璃，其特征在于：所述亲水离化层为氧离子轰击处理层，厚度范围是0.01～0.1微米。
3.根据权利要求1所述的仿金镀膜玻璃，其特征在于：所述纯钛膜层的厚度范围是0.02～0.1微米。
4.根据权利要求1所述的仿金镀膜玻璃，其特征在于：所述纯钛与氮化钛的混合膜层为纯钛与氮化钛的均匀混合层，该混合膜层的厚度范围是0.05～0.2微米。
5.根据权利要求1所述的仿金镀膜玻璃，其特征在于：所述富氮热处理层为氮离子轰击处理层，其厚度范围是0.02～0.1微米。
6.根据权利要求1所述的仿金镀膜玻璃的制备工艺，其具体步骤是：
(1)将玻璃基片经超声波清洗后烘干，放入真空室内抽真空；
(2)镀膜前预处理：在镀膜前，充入氧气，启动射频电源对玻璃基片的表面进行等离子亲水处理；
(3)镀制纯钛膜层：均匀镀制使纯钛膜层的厚度范围是0.02～0.1微米；
(4)再充入纯氮气，镀制钛与氮化钛混合膜层，厚度从0.05～0.2微米；
(5)充入纯氮，启动偏压电源对钛与氮化钛膜的混合膜层进行富氮处理以形成富氮热处理层。
7.根据权利要求6所述的仿金镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：上述步骤(1)真空室内的最高真空度是8×10-3Pa。
8.根据权利要求6所述的仿金镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：上述步骤(2)所述的预处理过程中，亲水处理时间120秒。
9.根据权利要求6所述的仿金镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：上述步骤(5)中偏压电源的电压值范围是150～250V。
10.根据权利要求6所述的仿金镀膜玻璃的制备工艺，其特征在于：上述步骤(5)中富氮热处理层的厚度范围是0.02～0.1微米，富氮处理时间为为2～5分钟。
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